光学膜的制造方法以及光学膜转让专利
申请号 : CN200610067640.X
文献号 : CN100580480C
文献日 : 2010-01-13
发明人 : 田中武志 , 村上隆
申请人 : 柯尼卡美能达精密光学株式会社
摘要 :
本发明提供一种制造可以充分除去附着在光学膜表面的附着物的光学膜的方法。另外，具体地，提供一种光学膜的制造方法，其特征在于，该制造方法包含将在常温常压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射材料喷涂在上述光透过性膜的至少一个面上，并将上述至少一个面洗净的洗净工序、以及在上述洗净工序中洗净的上述光透过性膜表面上涂布至少一层光学功能层的工序。
权利要求 :
1.一种光学膜的制造方法，其特征在于，该制造方法包含将在常温常 压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射材料喷涂在光透过性膜的至少一 个面上，并将上述至少一个面洗净的洗净工序、以及在上述洗净工序中洗净 的上述光透过性膜表面上涂布至少一层光学功能层的工序。
2.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，一边将上述光透过性膜在规定方向移动，一边从与上述规定方向 相对的方向将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜上。
3.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，分多次将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜上。
4.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃，并将上述喷射材 料喷涂到上述光透过性膜上。
5.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，在喷涂上述喷射材料之前，对上述光透过性膜吹入热风，并将上 述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
6.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，在喷涂上述喷射材料之前，通过使上述光透过性膜支持在支持部 件上，将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
7.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，通过支持部件支持上述光透过性膜的一个面，并对上述光透过性 膜的与支持部件接触的面相反侧的面喷涂上述喷射材料。
8.按照权利要求7记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述支持 部件包括将上述光透过性膜卷起的辊部件、或载有上述光透过性膜的带部 件。
9.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在喷涂上 述喷射材料之后，从上述喷涂部分的周边抽吸通过上述喷涂除去的附着物。
10.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，通过除电 装置除电上述光透过性膜。
11.按照权利要求10记载的光学膜的制造方法，其特征在于，通过由 上述除电装置对上述光透过性膜进行除电，使喷涂上述喷射材料之后的上述 光透过性膜的带电量为1[kV]或1[kV]以下。
12.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述喷射 材料含有二氧化碳。
13.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述喷射 材料包含干冰。
14.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在上述洗 净工序中，在减压下将上述喷射材料喷涂到上述光透过性膜上。
15.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，在将上述 喷射材料喷涂到上述光透过性膜上之后，通过空气式网板清洁器、粘附式网 板清洁器或刷式网板清洁器中的至少一种清洁器除去上述光透过性膜上的 附着物。
16.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述光透 过性膜是在通过溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜的树脂膜基体材料 上涂布固化性树脂并固化而制作的膜，在涂布上述固化性树脂之前，将上述 喷射材料喷涂在上述树脂膜基体材料的至少一个面上，并将上述至少一个面 洗净。
17.按照权利要求1记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述光透 过性膜是在通过溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜的树脂膜基体材料 上涂布固化性树脂并固化而制作，然后通过卷取辊卷取的膜，在将上述固化 性树脂固化后、在上述卷取之前，将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜的 至少一个面上，并将上述至少一个面洗净。
说明书 :
技术领域
本发明涉及设置在液晶显示装置、等离子体显示器、EL显示器、CRT 等为代表的各种显示装置的画面上的优选的光学膜、及其制造方法。
背景技术
液晶显示装置、等离子体显示器等各种显示装置的大画面化、高精细化 不断发展，要求改善视觉辨认性和操作性的改善。为了改善这些，提出了具 有各种光学功能的光学膜。具体地，可以举出防反射膜、防眩目膜、硬涂膜、 防污膜、防静电膜、视场角改善膜、相位差膜、偏振片保护膜、光学补偿膜、 亮度提高膜、光扩散膜等，这些膜大多要求同时具有2种或2种以上的功能。
另一方面，随着平板显示等各种显示装置的大型化的不断发展，还要求 同时减少制造成本。对于上述光学膜的制造虽然需要高度的技术，但为了对 应显示装置的大型化，比以前更要求品质的均一性。
上述光学膜是将溶解在溶剂中的树脂或熔融的树脂等进行流延、干燥等 处理来制造的膜。制造上述光学膜时，需要流延、拉伸、涂布、干燥、表面 处理、热处理、卷取等多个工序，但在这些工序中，从以前就要求除去附着 在膜上的灰尘或树脂膜片等附着物。
以前，为了除去附着在光学膜上的附着物，不仅整个制造工序要在无尘 室中进行，而且还提出了粘附式网板清洁器(ウエブクリ一ナ一)(例如专 利文献1、专利文献2)、刷式清洁器(例如专利文献3)、空气式网板清洁器 (例如专利文献4)等除去附着物的装置，并通过这些装置进行了除去附着 物的尝试。
[专利文献1]特开2002-334429号公报
[专利文献2]特开2004-189967号公报
[专利文献3]特开平10-309541号公报
[专利文献4]特开平7-68226号公报
另一方面，随着平板显示等各种显示装置的大型化的不断发展，还要求 同时减少制造成本。对于上述光学膜的制造虽然需要高度的技术，但为了对 应显示装置的大型化，比以前更要求品质的均一性。
上述光学膜是将溶解在溶剂中的树脂或熔融的树脂等进行流延、干燥等 处理来制造的膜。制造上述光学膜时，需要流延、拉伸、涂布、干燥、表面 处理、热处理、卷取等多个工序，但在这些工序中，从以前就要求除去附着 在膜上的灰尘或树脂膜片等附着物。
以前，为了除去附着在光学膜上的附着物，不仅整个制造工序要在无尘 室中进行，而且还提出了粘附式网板清洁器(ウエブクリ一ナ一)(例如专 利文献1、专利文献2)、刷式清洁器(例如专利文献3)、空气式网板清洁器 (例如专利文献4)等除去附着物的装置，并通过这些装置进行了除去附着 物的尝试。
[专利文献1]特开2002-334429号公报
[专利文献2]特开2004-189967号公报
[专利文献3]特开平10-309541号公报
[专利文献4]特开平7-68226号公报
发明内容
[发明要解决的课题]
通过上述粘附式清洁器等虽然可以使附着物减少，但为了制造对应于大 画面显示装置的、在大面积具有均一特性的光学膜，有必要使附着物进一步 减少。为了除去细小的附着物、牢固地附着在光学膜上的附着物，在使用粘 附式网板清洁器时，有必要提高粘附力来除去附着物。可是，如果提高粘附 力，从粘附式网板清洁器上剥离光学膜时，由于有必要只在提高了粘附力的 部分用强的力进行剥离，因此，导致光学膜变形，具有使光学膜的平面性降 低的问题。另外可以明确，当成为光学膜的支持体的树脂膜基体材料为薄膜 时，该树脂膜基体材料有破裂的情况。
另外，使用刷式网板清洁器，为了除去细小的附着物、牢固地附着在光 学膜上的附着物，有必要将刷子对着光学膜强烈地擦拭，因此，存在光学膜 的表面变得容易损伤的问题。另外，对附着物具有粘附性时，如果用刷子擦 拭光学膜，该附着物将再次附着在光学膜的表面，不能得到充分的除去附着 物的效果。
本发明是解决上述问题的发明，其目的在于提供一种光学膜的制造方 法，该制造方法是通过对光学膜的表面喷涂在常温常压下成为气体或液体的 冷却固体化的喷射材料，从而可以制造充分地除去了表面的附着物的光学膜 的光学膜的制造方法。另外，其目的还在于提供一种可以维持光学膜的平面 性，并且不对表面带来损伤地充分地除去附着物的光学膜的制造方法。由此， 可以制造在大画面显示装置中要求的高度的品质的光学膜。
[解决课题的手段]
发明要点1记载的发明是一种光学膜的制造方法，其特征在于，该方法 包括：将在常温常压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射材料喷涂在光透 过性膜的至少一个面上，并将上述至少一个面洗净的洗净工序、以及在上述 洗净工序中洗净的上述光透过性膜表面上涂布光学功能层的涂布工序。
在本发明的光透过性膜中，除了通过溶液流延制膜法或熔融流延制膜法 制作的树脂膜基体材料以外，还包含形成了硬涂层的树脂膜基体材料。另外， 本发明的膜是指含有片状的物质的意思。在喷射材料中使用例如，将二氧化 碳冷却固体化的干冰。通过将包含干冰的喷射材料(ブラスト)在常温常压 下喷涂在光透过性膜的表面，来除去附着在光透过性膜上的附着物。如果将 该干冰喷射材料喷涂在光透过膜表面，可以通过该喷涂的冲击力除去附着 物，另外，由于通过干冰喷射材料使光透过膜表面急剧冷却，由于该急剧的 温度变化，附着物变得容易被除去。此外，由于干冰喷射材料升华时产生的 风压，光透过性膜表面的附着物被吹飞，因此，通过该现象也可以良好地除 去附着物。喷涂的喷射材料由于在常温常压下升华，因此，不会残存在光透 过性膜的表面。另外，在本发明中，以不对光透过膜带来损伤的程度来喷涂 喷射材料。而且，这里所说的常温常压是指25℃、大气压。
为了通过现有技术中涉及的粘附式网板清洁器除去光透过性膜的附着 物，有必要提高粘附力，因此，在从粘附式网板清洁器上剥离光透过性膜时， 对光透过性膜施加力量过大，光透过性膜变得容易变形。与此相反，在本发 明中，不通过粘附力除去附着物，而是通过喷涂喷射材料，不会使光透过性 膜变形，可以维持平面性地除去附着物。另外，通过例如，以用支持体支持 光透过性膜的一个面的状态，通过对另一个面喷涂喷射材料，可以维持平面 性地除去附着物。
另外，通过现有技术中涉及的刷式网板清洁器刮落光透过性膜的附着物 时，为了充分地除去附着物，有必要施加力来刮落，容易对光透过性膜表面 带来损伤。另外，不能充分地除去附着力强的杂质或具有粘附性的杂质，为 了除去这些杂质，有必有进一步施加力来刮落，变得更加容易带来损伤。按 照本发明，即使是附着力强的杂质或具有粘附性的杂质附着在光透过性膜的 表面，但由于剥离这些杂质的力强，仍可以充分地除去附着物。另外，在冲 击光透过性膜表面时，由于喷射材料本身破碎，难以使光透过性膜本身损伤。 另外，通过喷射材料升华，在光透过性膜表面形成空气层，由于该空气层的 存在，光透过性膜被保护，由此，变得难以对光透过性膜的表面带来损伤。
此外，在光透过性膜表面，有时在膜中含有的添加剂渗出。该渗出如果 在光透过性膜表面是不均一的，在光透过性膜上通过涂布形成其他的层时， 有时可以得到耐擦伤性等物性弱的部分，其有时作为斑点表现出来。按照本 发明，由于可以除去部分地附着在光透过性膜表面的附着物而变得均一，因 此，可以降低耐擦伤性斑。
发明要点2中记载的发明是发明要点1中记载的光学膜的制造方法，其 特征在于，一边使上述光透过性膜在规定方向移动，一边从与上述规定方向 相对的方向将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜上。
发明要点3中记载的发明是发明要点1或2的任何一项中记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，分多次将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜上。
发明要点4中记载的发明是发明要点1～3中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
发明要点5中记载的发明是发明要点1～3中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，在喷涂上述喷射材料之前，对上述光透过性膜吹风， 并将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
发明要点6中记载的发明是发明要点1～3中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，在喷涂上述喷射材料之前，通过使上述光透过性膜 支持在支持部件上，将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
发明要点7中记载的发明是发明要点1～6中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，通过支持部件支持上述光透过性膜的一个面，并对 上述支持的相反一侧的面喷涂上述喷射材料。
发明要点8中记载的发明是发明要点7中记载的光学膜的制造方法，其 特征在于，上述支持部件包括将上述光透过性膜卷起的辊部件、或载有上述 光透过性膜的带部件。
发明要点9中记载的发明是发明要点1～8中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，在喷涂上述喷射材料之后，从上述喷涂部分的周边 抽吸通过上述喷涂除去的附着物。
发明要点10中记载的发明是发明要点1～9中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，通过除电装置对上述光透过性膜进行除电。
发明要点11中记载的发明是发明要点10中记载的光学膜的制造方法， 其特征在于，通过由上述除电装置对上述光透过性膜进行除电，使喷涂上述 喷射材料之后的上述光透过性膜的带电量为1[kV]或1[kV]以下。
发明要点12中记载的发明是发明要点1～11中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述喷射材料含有二氧化碳。
发明要点13中记载的发明是发明要点1～11中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述喷射材料包含干冰。
发明要点14中记载的发明是发明要点1～13中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，在减压下将上述喷射材料喷涂到上述光透过性膜 上。
发明要点15中记载的发明是发明要点1～14中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，在将上述喷射材料喷涂到上述光透过性膜上之后， 通过空气式网板清洁器、粘附式网板清洁器或刷式网板清洁器中的至少一种 清洁器除去上述光透过性膜上的附着物。
发明要点16中记载的发明是发明要点1～15中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述光透过性膜是通过在树脂膜基体材料上涂布 固化性树脂，然后固化而生成的膜，在上述涂布之前，将上述喷射材料喷涂 在上述树脂膜基体材料的至少一个面上，并将上述至少一个面洗净。
发明要点17中记载的发明是发明要点1～15中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述光透过性膜是通过在树脂膜基体材料上涂布 固化性树脂、固化而生成，然后进行卷取的膜，在上述涂布和固化之后、在 上述卷取之前，将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜的至少一个面上，并 将上述至少一个面洗净。
发明要点18中记载的发明是一种光学膜，其特征在于，其具有经过下 述洗净的至少一个面，所述洗净是将常温常压下为气体或液体的冷却固体化 的喷射材料喷涂在光透过性膜的该至少一个面上；
并且，该光学膜的损伤数为0～1处/m2，所述损伤数如下测定：将宽 100cm、长10cm大小的光学膜放置在台子上，然后，并排排列5根50W的 荧光灯，在距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角 度照射光，由此统计用目视可以确认的损伤数。
[发明的效果]
按照本发明，通过将在常温常压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射 材料喷涂到光透过性膜上，通过由喷涂的冲击力、急剧的温度变化以及升华 引起的风压，可以充分地除去附着在光透过性膜表面的附着物，另外，喷涂 到光透过性膜表面的喷射材料由于在常温常压下升华，因此，不会残留在光 透过性膜表面。
另外，按照本发明，由于没有必要如粘附式网板清洁器那样通过粘附力 来除去附着物，因此，可以不使光透过性膜变形地除去附着物。即，可以一 边维持光透过性膜的平面性一边除去附着物。另外，由于没有必要如刷式网 板清洁器那样施加力来刮落附着物，因此，可以不对光透过性膜表面带来损 伤地除去附着物。此外，由于可以均一地除去附着物，可以降低耐擦伤性斑。 如上所述，按照本发明，由于可以维持平面性，并且不受损伤地充分地除去 光透过膜的附着物，因此，可以提供大画面显示装置所要求的高度品质的膜。
通过上述粘附式清洁器等虽然可以使附着物减少，但为了制造对应于大 画面显示装置的、在大面积具有均一特性的光学膜，有必要使附着物进一步 减少。为了除去细小的附着物、牢固地附着在光学膜上的附着物，在使用粘 附式网板清洁器时，有必要提高粘附力来除去附着物。可是，如果提高粘附 力，从粘附式网板清洁器上剥离光学膜时，由于有必要只在提高了粘附力的 部分用强的力进行剥离，因此，导致光学膜变形，具有使光学膜的平面性降 低的问题。另外可以明确，当成为光学膜的支持体的树脂膜基体材料为薄膜 时，该树脂膜基体材料有破裂的情况。
另外，使用刷式网板清洁器，为了除去细小的附着物、牢固地附着在光 学膜上的附着物，有必要将刷子对着光学膜强烈地擦拭，因此，存在光学膜 的表面变得容易损伤的问题。另外，对附着物具有粘附性时，如果用刷子擦 拭光学膜，该附着物将再次附着在光学膜的表面，不能得到充分的除去附着 物的效果。
本发明是解决上述问题的发明，其目的在于提供一种光学膜的制造方 法，该制造方法是通过对光学膜的表面喷涂在常温常压下成为气体或液体的 冷却固体化的喷射材料，从而可以制造充分地除去了表面的附着物的光学膜 的光学膜的制造方法。另外，其目的还在于提供一种可以维持光学膜的平面 性，并且不对表面带来损伤地充分地除去附着物的光学膜的制造方法。由此， 可以制造在大画面显示装置中要求的高度的品质的光学膜。
[解决课题的手段]
发明要点1记载的发明是一种光学膜的制造方法，其特征在于，该方法 包括：将在常温常压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射材料喷涂在光透 过性膜的至少一个面上，并将上述至少一个面洗净的洗净工序、以及在上述 洗净工序中洗净的上述光透过性膜表面上涂布光学功能层的涂布工序。
在本发明的光透过性膜中，除了通过溶液流延制膜法或熔融流延制膜法 制作的树脂膜基体材料以外，还包含形成了硬涂层的树脂膜基体材料。另外， 本发明的膜是指含有片状的物质的意思。在喷射材料中使用例如，将二氧化 碳冷却固体化的干冰。通过将包含干冰的喷射材料(ブラスト)在常温常压 下喷涂在光透过性膜的表面，来除去附着在光透过性膜上的附着物。如果将 该干冰喷射材料喷涂在光透过膜表面，可以通过该喷涂的冲击力除去附着 物，另外，由于通过干冰喷射材料使光透过膜表面急剧冷却，由于该急剧的 温度变化，附着物变得容易被除去。此外，由于干冰喷射材料升华时产生的 风压，光透过性膜表面的附着物被吹飞，因此，通过该现象也可以良好地除 去附着物。喷涂的喷射材料由于在常温常压下升华，因此，不会残存在光透 过性膜的表面。另外，在本发明中，以不对光透过膜带来损伤的程度来喷涂 喷射材料。而且，这里所说的常温常压是指25℃、大气压。
为了通过现有技术中涉及的粘附式网板清洁器除去光透过性膜的附着 物，有必要提高粘附力，因此，在从粘附式网板清洁器上剥离光透过性膜时， 对光透过性膜施加力量过大，光透过性膜变得容易变形。与此相反，在本发 明中，不通过粘附力除去附着物，而是通过喷涂喷射材料，不会使光透过性 膜变形，可以维持平面性地除去附着物。另外，通过例如，以用支持体支持 光透过性膜的一个面的状态，通过对另一个面喷涂喷射材料，可以维持平面 性地除去附着物。
另外，通过现有技术中涉及的刷式网板清洁器刮落光透过性膜的附着物 时，为了充分地除去附着物，有必要施加力来刮落，容易对光透过性膜表面 带来损伤。另外，不能充分地除去附着力强的杂质或具有粘附性的杂质，为 了除去这些杂质，有必有进一步施加力来刮落，变得更加容易带来损伤。按 照本发明，即使是附着力强的杂质或具有粘附性的杂质附着在光透过性膜的 表面，但由于剥离这些杂质的力强，仍可以充分地除去附着物。另外，在冲 击光透过性膜表面时，由于喷射材料本身破碎，难以使光透过性膜本身损伤。 另外，通过喷射材料升华，在光透过性膜表面形成空气层，由于该空气层的 存在，光透过性膜被保护，由此，变得难以对光透过性膜的表面带来损伤。
此外，在光透过性膜表面，有时在膜中含有的添加剂渗出。该渗出如果 在光透过性膜表面是不均一的，在光透过性膜上通过涂布形成其他的层时， 有时可以得到耐擦伤性等物性弱的部分，其有时作为斑点表现出来。按照本 发明，由于可以除去部分地附着在光透过性膜表面的附着物而变得均一，因 此，可以降低耐擦伤性斑。
发明要点2中记载的发明是发明要点1中记载的光学膜的制造方法，其 特征在于，一边使上述光透过性膜在规定方向移动，一边从与上述规定方向 相对的方向将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜上。
发明要点3中记载的发明是发明要点1或2的任何一项中记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，分多次将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜上。
发明要点4中记载的发明是发明要点1～3中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
发明要点5中记载的发明是发明要点1～3中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，在喷涂上述喷射材料之前，对上述光透过性膜吹风， 并将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
发明要点6中记载的发明是发明要点1～3中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，在喷涂上述喷射材料之前，通过使上述光透过性膜 支持在支持部件上，将上述光透过性膜的表面温度设定为20～120℃。
发明要点7中记载的发明是发明要点1～6中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，通过支持部件支持上述光透过性膜的一个面，并对 上述支持的相反一侧的面喷涂上述喷射材料。
发明要点8中记载的发明是发明要点7中记载的光学膜的制造方法，其 特征在于，上述支持部件包括将上述光透过性膜卷起的辊部件、或载有上述 光透过性膜的带部件。
发明要点9中记载的发明是发明要点1～8中的任何一项记载的光学膜的 制造方法，其特征在于，在喷涂上述喷射材料之后，从上述喷涂部分的周边 抽吸通过上述喷涂除去的附着物。
发明要点10中记载的发明是发明要点1～9中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，通过除电装置对上述光透过性膜进行除电。
发明要点11中记载的发明是发明要点10中记载的光学膜的制造方法， 其特征在于，通过由上述除电装置对上述光透过性膜进行除电，使喷涂上述 喷射材料之后的上述光透过性膜的带电量为1[kV]或1[kV]以下。
发明要点12中记载的发明是发明要点1～11中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述喷射材料含有二氧化碳。
发明要点13中记载的发明是发明要点1～11中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述喷射材料包含干冰。
发明要点14中记载的发明是发明要点1～13中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，在减压下将上述喷射材料喷涂到上述光透过性膜 上。
发明要点15中记载的发明是发明要点1～14中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，在将上述喷射材料喷涂到上述光透过性膜上之后， 通过空气式网板清洁器、粘附式网板清洁器或刷式网板清洁器中的至少一种 清洁器除去上述光透过性膜上的附着物。
发明要点16中记载的发明是发明要点1～15中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述光透过性膜是通过在树脂膜基体材料上涂布 固化性树脂，然后固化而生成的膜，在上述涂布之前，将上述喷射材料喷涂 在上述树脂膜基体材料的至少一个面上，并将上述至少一个面洗净。
发明要点17中记载的发明是发明要点1～15中的任何一项记载的光学膜 的制造方法，其特征在于，上述光透过性膜是通过在树脂膜基体材料上涂布 固化性树脂、固化而生成，然后进行卷取的膜，在上述涂布和固化之后、在 上述卷取之前，将上述喷射材料喷涂在上述光透过性膜的至少一个面上，并 将上述至少一个面洗净。
发明要点18中记载的发明是一种光学膜，其特征在于，其具有经过下 述洗净的至少一个面，所述洗净是将常温常压下为气体或液体的冷却固体化 的喷射材料喷涂在光透过性膜的该至少一个面上；
并且，该光学膜的损伤数为0～1处/m2，所述损伤数如下测定：将宽 100cm、长10cm大小的光学膜放置在台子上，然后，并排排列5根50W的 荧光灯，在距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角 度照射光，由此统计用目视可以确认的损伤数。
[发明的效果]
按照本发明，通过将在常温常压下成为气体或液体的冷却固体化的喷射 材料喷涂到光透过性膜上，通过由喷涂的冲击力、急剧的温度变化以及升华 引起的风压，可以充分地除去附着在光透过性膜表面的附着物，另外，喷涂 到光透过性膜表面的喷射材料由于在常温常压下升华，因此，不会残留在光 透过性膜表面。
另外，按照本发明，由于没有必要如粘附式网板清洁器那样通过粘附力 来除去附着物，因此，可以不使光透过性膜变形地除去附着物。即，可以一 边维持光透过性膜的平面性一边除去附着物。另外，由于没有必要如刷式网 板清洁器那样施加力来刮落附着物，因此，可以不对光透过性膜表面带来损 伤地除去附着物。此外，由于可以均一地除去附着物，可以降低耐擦伤性斑。 如上所述，按照本发明，由于可以维持平面性，并且不受损伤地充分地除去 光透过膜的附着物，因此，可以提供大画面显示装置所要求的高度品质的膜。
附图说明
图1是用于说明本发明的第1种实施方式的光学膜的制造和除去(洗净) 工序的图。
图2是用于说明本发明的第2种实施方式的光学膜的制造和除去(洗净) 工序的图。
图3(a)～图3(b)是用于说明抽吸喷嘴的设置例的图。
图4(a)～图4(b)是示出本发明的实施例1的评价结果的表。
图5是示出本发明的实施例2的评价结果的表。
[符号说明]
1 支持体
2 模头
3 剥离辊
4 拉幅机(膜宽度方向的拉伸装置)
5 干燥装置
6、22 输送辊
7、10a、10b 卷取辊
11 第1喷射部
12 涂布部
13 干燥器
14 照射部
15 第2喷射部
20 喷射喷嘴
21 抽吸喷嘴
图2是用于说明本发明的第2种实施方式的光学膜的制造和除去(洗净) 工序的图。
图3(a)～图3(b)是用于说明抽吸喷嘴的设置例的图。
图4(a)～图4(b)是示出本发明的实施例1的评价结果的表。
图5是示出本发明的实施例2的评价结果的表。
[符号说明]
1 支持体
2 模头
3 剥离辊
4 拉幅机(膜宽度方向的拉伸装置)
5 干燥装置
6、22 输送辊
7、10a、10b 卷取辊
11 第1喷射部
12 涂布部
13 干燥器
14 照射部
15 第2喷射部
20 喷射喷嘴
21 抽吸喷嘴
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式的光学膜的制造方法进行说明。首先，对光 学膜的构成材料进行说明。在该实施方式的光学膜中，使用树脂膜基体材料， 该树脂膜基体材料优选制造容易、与活化射线固化型树脂层的粘接性良好、 并且是光学各向同性、光学透明的材料。这里，所谓“透明”是指可见光的 透过率为60％或60％以上的意思，优选80％或80％以上，特别优选90％或 90％以上。另外，光学膜是通过在洗净工序中洗净的光透过性膜表面上涂布 光学功能性层而制造的。作为光学功能层，有硬涂层、防眩目性硬涂层、防 反射层、防静电层、视场角改善层、防污层、光的补偿层、亮度提高层、光 扩散层，也可以设置2种或2种以上的光学功能层。
只要具有上述性质，则没有特别限定，可以举出，例如，纤维素酯类膜、 聚酯类膜、聚碳酸酯类膜、聚芳酯类膜、聚砜(也包含聚醚砜)类膜、聚对 苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、 赛璐玢、二乙酸纤维素膜、三乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素膜、聚偏氯乙烯 膜、聚乙烯醇膜、乙烯-乙烯醇膜、间规聚苯乙烯类膜、聚碳酸酯膜、环烯 烃聚合物膜(ア一トン(JSR公司制造)、ゼオネツクス、ゼオノア(以上， 日本ゼオン公司制造))、聚甲基戊烯膜、聚醚酮膜、聚醚酮酰亚胺膜、聚酰 胺膜、氟树脂膜、尼龙膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、丙烯酸类膜或玻璃板等。
其中，在透明性、机械性质、没有光学各向异性方面看，优选三乙酸纤 维素膜(TAC膜)、乙酸丙酸纤维素膜等纤维素酯膜、聚碳酸酯膜(PC膜)、 间规聚苯乙烯类膜、聚芳酯类膜、降冰片烯树脂类膜以及聚砜类膜。特别是， 纤维素酯膜(TAC膜)以及PC膜由于在这些当中制膜性容易、加工性优异， 故可以优选使用，特别优选使用TAC膜。从制造上、成本方面、透明性、 各向同性、粘接性等观点看，可以优选使用纤维素酯膜(例如，コニカミノ ルタタツク制品名KC8UX2MW、KC4UX2MW、KC8UY、KC4UY、KC5UN、 KC12UR、KC8UCR3(コニカミノルタオプト(株)制造)。这些膜可以是 用溶液流延制膜法制作的膜，也可以是用熔融流延制膜法制作的膜。基体材 料的膜厚度没有特别限制，10μm～10mm的片状的材料更好。
使用纤维素酯作为本实施方式的树脂膜基体材料时，作为纤维素酯原料 的纤维素，没有特别限定，可以举出棉花棉短绒、木材纸浆(来自针叶树、 来自阔叶树)、洋麻等。另外，从这些得到的纤维素酯可以分别以任意的比 例混合使用。这些纤维素酯是，在酰化剂为酸酐(醋酸酐、丙酸酐、丁酸酐) 时，可以使用醋酸等有机酸或二氯甲烷等有机溶剂，并使用硫酸等质子性催 化剂与纤维素原料反应而得到的。
纤维素酯的数均分子量为70000～250000时，成型时的机械强度强，并 得到适度的胶浆粘度，故优选，更加优选80000～150000。
在此，对通过溶液流延制膜法制造包含纤维素酯的树脂膜基体材料的方 法简单地进行说明。纤维素酯是通过将纤维素酯溶解液(胶浆)从加压模头 流延(浇注)胶浆到例如，循环移动的环形金属带或旋转的金属滚筒等流延 用支持体上并制膜的方法制造。
参照图1对溶液流延制膜法更加详细地进行说明。如图1所示，通常是 通过模头2使作为纤维素酯膜原料液的胶浆流延到旋转的由金属制环形带构 成的支持体1上，形成湿膜W(胶浆膜)。然后，通过剥离辊3从支持体1 上剥离湿膜W，得到剥离的膜F。膜F通过拉幅机(膜宽度方向的拉伸装置) 4被拉伸，再进行干燥。然后，膜F一边经过多个输送辊6输送一边由干燥 装置5进行干燥。通过干燥得到的纤维素酯膜F卷在卷取辊7上。
作为在配制这些胶浆时使用的有机溶剂，优选可以溶解纤维素酯并具有 适度的沸点的溶剂，可以举出，例如，二氯甲烷、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙 酸戊酯、乙酰乙酸甲酯、丙酮、四氢呋喃、1，3-二氧杂戊环、1，4-二噁烷、环 己酮、甲酸乙酯、2，2，2-三氟乙醇、2，2，3，3-四氟-1-丙醇、1，3-二氟-2-丙醇、 1，1，1，3，3，3-六氟-2-甲基-2-丙醇、1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇、2，2，3，3，3-五氟-1-丙 醇、硝基乙烷、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮等，作为优选的有机溶剂(即，良溶 剂)，可以举出二氯甲烷等有机卤代化合物、二氧杂戊环衍生物、乙酸甲酯、 乙酸乙酯、丙酮、乙酰乙酸甲酯等。
另外，在溶剂蒸发工序中，在从形成在流延用支持体上的湿膜(胶浆膜) 上干燥溶剂时，从防止湿膜中的发泡的观点看，作为使用的有机溶剂的沸点， 优选30～80℃，例如，上述记载的良溶剂的沸点为，二氯甲烷(沸点40.4℃)、 乙酸甲酯(沸点56.32℃)、丙酮(沸点56.3℃)、乙酸乙酯(沸点76.82℃) 等。
上述记载的良溶剂中，优选使用溶解性优异的二氯甲烷或乙酸甲酯。
除了上述有机溶剂以外，优选含有0.1～40质量％的碳原子数为1～4的 醇。特别优选含有5～30质量％的上述醇。将上述记载的胶浆流延到流延用 支持体上后，溶剂开始蒸发，醇的比率变多时，湿膜(胶浆膜)凝胶化，使 湿膜变结实，上述醇可以作为使从流延用支持体上剥离变容易的凝胶化溶剂 使用，当它们的比例少时，还具有促进非氯类有机溶剂对纤维素酯的溶解的 作用。
作为碳原子数为1～4的醇，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正 丁醇、仲丁醇、叔丁醇等。
这些溶剂中，从胶浆的稳定性好、沸点也比较低、干燥性也好、并且没 有毒性等看，优选乙醇。优选使用相对于二氯甲烷70质量％～95质量％，含 有乙醇5质量％～30质量％的溶剂。也可以使用乙酸甲酯代替二氯甲烷。此 时，也可以通过冷却溶解法配制胶浆。
另外，残留溶剂量由下述式子来表示。残留溶剂量(质量％)＝{(M-N) /N}×100，这里，M为湿膜(含有溶剂的纤维素酯膜)在任意时刻的质量， N为在110℃下将M的湿膜干燥3小时时的质量。
另外，对通过熔融流延制膜法制造包含纤维素酯的树脂膜基体材料的方 法简单地进行说明。熔融流延制膜法是不使用溶剂将纤维素酯加热熔融到显 示流动性的温度，然后，将流动性的纤维素酯挤出到金属带或滚筒上而成膜 的方法。
在该实施方式中，纤维素酯膜优选光透过率为90％或90％以上，更加 优选93％或93％以上的透明支持体。
另外，使用纤维素酯膜作为后述的硬涂层的支持体时，优选含有增塑剂 或紫外线吸收剂等。纤维素酯和溶剂以外的必要的增塑剂或紫外线吸收剂等 添加剂可以预先与溶剂混合、溶解或分散之后，再投入到纤维素酯溶解前的 溶剂中，也可以投入到纤维素酯溶解后的胶浆中。
作为可以在该实施方式中使用的增塑剂，没有特别限定，磷酸酯类增塑 剂，优选单独或同时使用磷酸三苯酯(TPP)、磷酸联苯二苯酯(BDP)、磷 酸三甲苯酚酯、甲苯基二苯基磷酸酯、辛基二苯基磷酸酯、磷酸三辛酯、磷 酸三丁酯等；苯二甲酸酯类增塑剂中，优选单独或同时使用苯二甲酸二乙酯、 苯二甲酸二甲氧基乙酯、苯二甲酸二甲酯、苯二甲酸二辛酯、苯二甲酸二丁 酯、苯二甲酸二(2-乙基己酯)等；乙醇酸酯类增塑剂，优选单独或同时使 用甘油三乙酸酯、甘油三丁酸酯、邻苯二甲酸丁酯·丁基乙醇酸酯、邻苯二甲 酸乙酯·乙基乙醇酸酯(EPEG)、邻苯二甲酸甲酯·乙基乙醇酸酯、邻苯二甲 酸丁酯·丁基乙醇酸酯等；或柠檬酸酯类增塑剂；多元醇酯类增塑剂等。上述 增塑剂，视需要还可以同时使用2种或2种以上。通过含有这些增塑剂，可 以得到尺寸稳定性、耐水性优异的膜，故特别优选。
这些增塑剂的使用量，从膜的性能、加工性等观点看，相对于纤维素酯， 优选1重量％～20重量％，特别优选3重量％～15重量％。
另外，在作为支持体的树脂膜基体材料中优选使用紫外线吸收剂，作为 紫外线吸收剂，从防止液晶的劣化的观点看，波长370nm或370nm以下的 紫外线的吸收能优异，而且从良好的液晶显示性的观点看，可以优选使用波 长400nm或400nm以上的可见光的吸收尽可能少的。作为通常可以使用的 物质，可以举出，例如氧化二苯甲酮类化合物、苯并三唑类化合物、水杨酸 酯类化合物、二苯甲酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、镍配位盐类化合 物等，但不限定于这些。
另外，在上述树脂膜基体材料上设置活化射线固化树脂层。该活化射线 固化树脂层可作为硬涂层使用。硬涂层是用于防止由于物体与图像显示装置 的画面接触而产生的损伤的层。
所谓活化射线固化树脂层是指以通过紫外线或电子射线等活化射线照 射经过交联反应等而进行固化的树脂作为主要成分的层。作为活性射线固化 树脂，可以举出紫外线固化型树脂或电子射线固化型树脂等为代表的物质， 但也可以是通过紫外线或电子射线以外的活性射线照射而固化的树脂。作为 紫外线固化型树脂，可以举出，例如，紫外线固化型丙烯酸聚氨酯类树脂、 紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂、紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂、紫 外线固化型多醇丙烯酸酯类树脂、或紫外线固化型环氧树脂等。
紫外线固化型丙烯酸聚氨酯类树脂，一般可以通过使异氰酸酯单体或预 聚物与聚酯多醇反应而得到的生成物，再与丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸 2-羟基乙酯(以下，在丙烯酸酯中，作为包含甲基丙烯酸酯的物质只表示为 丙烯酸酯)、丙烯酸2-羟基丙酯等具有羟基的丙烯酸酯类单体反应而容易地 获得(例如，参照特开昭59-151110号公报)。
作为紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂，一般可以通过使丙烯酸2-羟基 乙酯、2-羟基丙烯酸酯类单体与聚酯多醇反应而容易地获得(例如，参照特 开昭59-151112号公报)。
作为紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂的具体例子，可以举出，以环氧 丙烯酸酯作为低聚物，并在其中添加反应性稀释剂、光反应引发剂，使之反 应而生成的物质(例如，参照特开平1-105738号公报)。作为该光反应引发 剂，可以从苯偶姻衍生物、肟酮衍生物、二苯甲酮衍生物、噻吨酮衍生物等 中选择1种或2种或2种以上使用。
另外，作为紫外线固化型多醇丙烯酸酯类树脂的具体例子，可以举出三 羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯 酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇 五丙烯酸酯等。
上述举出的树脂可以与通常已知的光增感剂一起使用。另外，上述光反 应引发剂也可以作为光增感剂使用。具体地，可以举出乙酰苯、二苯甲酮、 羟基二苯甲酮、米蚩酮(ミヒラ一ズケトン)、α-アミロキシムエステル、 噻吨酮等以及它们的衍生物。另外，使用环氧丙烯酸酯类光反应引发剂时， 可以使用正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等增感剂。
作为树脂单体，例如，作为具有一个不饱和双键的单体，可以举出丙烯 酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、醋酸乙烯、丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、 苯乙烯等一般的单体。另外，作为具有二个或二个以上不饱和双键的单体， 可以举出二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二乙烯基苯、1，4-环己烷 二丙烯酸酯、1，4-环己基二甲基二丙烯酸酯、前面提及的三羟甲基丙烷三丙 烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等。
作为紫外线固化型树脂的具体例，例如，可以从アデカオプトマ一 KR·BY系列：KR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY-320B(以 上，旭电化工业公司制造)或コ一エイハ一ドA-101-KK、A-101-WS、C-302、 C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、 AG-106、M-101-C(以上，广荣化学工业公司制造)、或セイカビ一ムPHC2210 (S)、PHC X-9(K-3)、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、 P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上，大日精化工业公司 制造)、或KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、 UVECRYL29202(以上，ダイセル·ユ一シ一ビ一公司制造)、或RC-5015、 RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、 RC-5152、RC-5171、RC-5180、RC-5181(以上，大日本インキ化学工业公 司制造)、或オ一レツクスNo.340クリヤ(中国涂料公司制造)、或サンラ ツドH-601(三洋化成工业公司制造)、或SP-1509、SP-1507(昭和高分子 公司制造)、或RCC-15C(グレ一ス·ジヤパン公司制造)、アロニツクス M-6100、M-8030、M-8060(以上，东亚合成公司制造)或其他的市售的制 品中适当选择使用。
活性射线固化树脂层的涂布组合物优选固体成分浓度为10～95质量％， 根据涂布方法选择适当的浓度。
作为用于将活性射线固化型树脂通过光固化反应形成固化皮膜层的光 源，是紫外线、电子射线、γ射线等，只要是使作为赋予防眩目性组合物的 活性光线固化型树脂活性化的光源，则可以不受限制地使用，但优选紫外线、 电子射线，特别是，从操作简便并且容易获得高能量这点看，优选紫外线。 作为使紫外线反应性化合物光聚合的紫外线光源，只要是发生紫外线的光 源，则可以使用任何一种。例如，可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压 水银灯、超高压水银灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙灯等。另外，还可以使 用ArF准分子激光器、KrF准分子激光器、准分子灯或同步加速器放射光等。 照射条件根据各种灯而不同，照射光量优选1mJ/cm2或1mJ/cm2以上，更加 优选20mJ/cm2～10000mJ/cm2，特别优选50mJ/cm2～2000mJ/cm2。可以使用 从近紫外线区域经可见光区域，在该区域具有极大吸收的增感剂。
另外，还可以同样地使用电子射线。作为电子射线，可以举出从コツク ロフトワルトン型、范德格喇夫型、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、 ダイナミトロン型、高频型等各种电子射线加速器放出的具有50～1000keV、 优选100～300keV的能量的电子射线。
作为涂设活性射线固化树脂层时的溶剂，可以使用涂设上述树脂层的溶 剂，例如，可以从烃类、醇类、酮类、酯类、二醇醚类、其他的溶剂中适当 选择、或混合使用。优选使用含有5质量％或5质量％以上、更加优选5～80 质量％以上的丙二醇单(C1～C4)烷基醚或丙二醇单(C1～C4)烷基醚酯的 溶剂。
作为将紫外线固化型树脂组合物涂布液涂布到树脂膜基板上的涂布方 法，可以使用已知的涂布方法。涂布量以湿膜厚度为0.1～30μm为合适，优 选0.5～15μm。涂布速度优选在10～60m/min下进行。可以通过例如，浸渍涂 布法、气刀涂布法、帘式淋涂法、辊涂法、金属丝棒涂布法、凹版涂布法或 挤出涂布法(美国专利第2681294号)形成。也可以同时涂布2层或2层以 上的层。作为同时涂布的方法，在美国专利第2761791号、美国专利第 2941898号、美国专利第3508947号、美国专利第3526528号以及原崎勇次 著、コ一テイング工学，253页，朝仓书店(1973年)中有记载。
紫外线固化型树脂组合物在涂布后，迅速干燥之后，通过光源照射紫外 线，照射时间可以是0.5秒～5分钟，从紫外线固化型树脂的固化效率、操作 效率来看，更加优选3秒～2分钟。
另外，也可以代替活性射线固化树脂层在树脂基体材料上设置热固性树 脂。作为热固性树脂，可以举出不饱和聚酯树脂、环氧树脂、乙烯基酯树脂、 酚醛树脂、热固性聚酰亚胺树脂、热固性聚酰胺酰亚胺等。
作为不饱和聚酯树脂，例如有，邻苯二甲酸类树脂、间苯二甲酸类树脂、 对苯二甲酸类树脂、双酚类树脂、丙二醇-马来酸类树脂、将二环戊二烯或 其衍生物导入到不饱和聚酯组成中并进行低分子量化的、或添加了被膜形成 性的蜡混合物的低苯乙烯挥发性树脂、添加了热塑性树脂(聚醋酸乙烯树脂、 苯乙烯·丁二烯共聚物、聚苯乙烯、饱和聚酯等)的低收缩性树脂、直接用 Br2将不饱和聚酯溴化的、或者将氯桥酸、二溴新戊二醇进行共聚等的反应 性型、氯代链烷烃、四溴双酚等卤化物和三氧化锑、磷化合物的组合或使用 氢氧化铝等作为添加剂的添加型阻燃性树脂、与聚氨酯或聚硅氧烷混合化、 或IPN化的强韧性(高强度、高弹性模量、高伸长率)的强韧性树脂等。
作为环氧树脂，可以举出，例如，含有双酚A型、酚醛清漆苯酚型、 双酚F型、溴代双酚A型的缩水甘油醚类环氧树脂、缩水甘油胺类、缩水甘 油酯类、含有环式脂肪类、杂环式环氧类的特殊环氧树脂等。
作为乙烯基酯树脂，例如是，将普通环氧树脂和甲基丙烯酸等不饱和一 元酸开环加成反应得到的低聚物溶解在苯乙烯等单体中的物质。另外，也有 在分子末端或侧链具有乙烯基的含有乙烯基单体等的特殊类型。作为缩水甘 油醚类环氧树脂的乙烯基酯树脂，例如，有双酚类、酚醛清漆类、溴化双酚 类等，作为特殊的乙烯基酯树脂，有乙烯基酯聚氨酯类、异氰尿酸乙烯酯类、 侧链乙烯基酯类等。
酚醛树脂是以酚类和甲醛类为原料缩聚而得到的，有可溶酚醛树脂型和 酚醛清漆型。
作为热固性聚酰亚胺树脂，例如，有马来酸类聚酰亚胺、例如聚马来酰 亚胺、聚氨基双马来酰亚胺、双马来酰亚胺·O，O’-二烯丙基双酚A树脂、双 马来酰亚胺·三嗪树脂等，另外，还有4-降冰片烯-1，2-二羧酸改性聚酰亚胺、 以及乙炔末端聚酰亚胺等。
另外，上述活性光线固化型树脂的一部分也可以作为热固性树脂使用。
作为加热方法，没有特别限制，优选使用加热板、加热辊、加热盖、吹 入热风等方法。作为加热温度，根据使用的热固性树脂的种类而不能一概决 定，但优选不会对透明基体材料带来热变性等影响的温度范围，优选 30～200℃，更加优选50～120℃，特别优选70～100℃。
接着，对本发明的实施方式涉及的光学膜的制造方法中包含的洗净工序 进行说明。该洗净工序除了对上述树脂膜基体材料适用以外，也适用于形成 硬涂层后的光学膜。
[第1种实施方式]
首先，对本发明的第1种实施方式涉及的光学膜的洗净方法进行说明。 在第1种实施方式涉及的光学膜的制造方法中含有的洗净工序中，对树脂膜 基体材料喷涂干冰喷射材料，从而除去树脂膜基体材料表面的附着物。
在该实施方式涉及的洗净工序中，对上述溶液流延制膜法或熔融流延制 膜法制膜的树脂膜基体材料的至少1个面喷涂喷射材料，从而除去附着在树 脂膜基体材料表面的附着物。喷射材料可以通过将在常温常压下为气体或液 体的物质冷却固体化来制作。例如，通过将二氧化碳冷却固体化来制作干冰 通过破碎机将该干冰粉碎，或者将用造粒机暂时作成颗粒状的物质粉碎来制 作干冰粒，并将该干冰粒作为喷射材料。然后，通过压缩空气从喷枪或喷射 喷嘴将该喷射材料喷涂到树脂膜基体材料的表面。该包含干冰的喷射材料可 以通过已知的干冰喷射装置来制作。另外，压缩空气可以作成露点为-50℃ 左右。由于干冰的温度为-78℃左右，因此，可以用于防止树脂膜基体材料 表面的结露。
例如，制造树脂膜基体材料并使膜厚度为30～150μm。使用干冰粒子作 为喷射材料时，使粒子的平均粒径为φ1μm～φ15mm。使用颗粒状的物质作 为喷射材料时，使粒径为φ3mm左右，长度为1mm～10mm。另外，以不会 对树脂膜基体材料的表面带来损伤的速度(压力)将干冰喷射材料喷涂到树 脂膜基体材料的表面。使喷射材料的喷涂速度为例如不足100m/sec来喷涂 到树脂膜基体材料表面。另外，使喷涂的空气压力为例如3.5kg/cm2来喷涂 到树脂膜基体材料表面。该喷涂的速度和压力可根据树脂膜基体材料的材料 适当改变。为硬的树脂膜基体材料时，即使加快喷涂的速度(即使提高压力) 也难以对表面带来损伤，但由于越是柔软的树脂膜基体材料越容易对表面带 来损伤，因此，有必要减慢喷涂的速度(降低压力)。
另外，在树脂膜基体材料上喷涂干冰喷射材料后，在干冰喷射材料升华 的温度以及压力下喷涂喷射材料。例如，通过在常温常压下将喷射材料喷涂 到树脂膜基体材料上，由于喷涂到树脂膜基体材料上之后的喷射材料升华而 成为气体，因此，在树脂膜基体材料的表面不会残存喷射材料。
另外，树脂膜基体材料的膜厚度、喷射材料的尺寸和形状并不限定于上 述的值和形状。对应于附着物的大小或粘附力的强度，通过使干冰喷射材料 的大小、喷涂速度或喷涂压力等在不使树脂膜基体材料表面损伤的范围内变 化，可以充分地除去附着物。
另外，也可以在从喷枪或喷射喷嘴喷出干冰喷射材料到喷涂到树脂膜基 体材料上这一期间的空气中，控制该干冰喷射材料的大小。由于在常温常压 下干冰喷射材料升华，因此，固体化的喷射材料变小。因此，从喷枪或喷射 喷嘴到树脂膜基体材料的距离越长，到达树脂膜基体材料的喷射材料的大小 就变得越小。这样，通过改变从喷枪或喷射喷嘴到树脂膜基体材料的距离， 可以改变到达光学膜的喷射材料的大小，因此，通过改变距离控制喷射材料 的大小，可以符合附着物的大小或粘附力的强度来进行除去(洗净)。
例如，在通过溶液流延制膜法制作树脂膜基体材料时，喷涂干冰喷射材 料的时机是，在图1所示的干燥装置5和卷取辊7之间设置干冰喷射装置， 通过干燥装置5蒸发溶剂，并通过卷取辊7在卷取前将干冰喷射材料喷涂到 树脂膜基体材料上，从而除去附着物。
如果将上述干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料表面上，可以通过该喷 涂的冲击力除去附着在表面的附着物。另外，由于通过干冰喷射材料使树脂 膜基体材料表面急剧冷却，由于该急剧的温度变化，附着物变得容易被除去。 这样，通过喷涂干冰喷射材料，由于其冲击力和急剧的温度变化，可以充分 地除去表面的附着物。
另外，为了通过现有技术中涉及的粘附式网板清洁器除去树脂膜基体材 料的附着物，有必要提高粘附力，因此，在从粘附式网板清洁器上剥离树脂 膜基体材料时，对树脂膜基体材料施加力量过大，树脂膜基体材料变得容易 变形。与此相反，按照本实施方式涉及的洗净方法，由于通过喷涂干冰喷射 材料来除去附着物，没有必要通过粘附力除去附着物，可以不使树脂膜基体 材料变形地除去附着物。由此，可以维持树脂膜基体材料的平面性地除去附 着物。
另外，通过现有技术中涉及的刷式网板清洁器刮落树脂膜基体材料的附 着物时，为了充分地除去附着物，有必要施加力来刮落，容易对树脂膜基体 材料表面带来损伤。另外，不能充分地除去附着力强的杂质或具有粘附性的 杂质，为了除去这些杂质，有必要进一步施加力来刮落，变得更加容易带来 损伤。与此相反，按照本实施方式涉及的洗净方法，通过喷涂干冰喷射材料， 可以充分地除去附着力强的杂质或具有粘附性的杂质，另外，在喷射材料冲 击树脂膜基体材料时，由于喷射材料破碎，难以使树脂膜基体材料表面损伤。 因此，与现有技术相比，采用本实施方式涉及的洗净方法时，可以不使树脂 膜基体材料表面受到损伤地除去附着物。
此外，在树脂膜基体材料表面，有时在膜中含有的添加剂渗出。该渗出 如果在树脂膜基体材料表面是不均一的，在树脂膜基体材料上通过涂布形成 硬涂层或防反射层等时，有时可以得到耐擦伤性弱的部分，其有时作为斑点 表现出来。按照本实施方式涉及的洗净方法，由于可以除去部分地附着在树 脂膜基体材料表面的附着物而变得均一，因此，可以降低耐擦伤性斑。
如上所述，按照本实施方式涉及的洗净方法，可以维持平面性、不对表 面带来损伤、降低耐擦伤性斑地充分地除去树脂膜基体材料的附着物，因此 可以提供在大画面显示装置中所要求的高品质的光学膜。
[第2种实施方式]
接着，参照图2对本发明的第2种实施方式涉及的光学膜的洗净方法进 行说明。图2是用于说明本发明的第2种实施方式涉及的光学膜的制造和除 去(洗净)工序的图。在第2种实施方式中，在通过溶液流延制膜法或熔融 流延制膜法制膜的树脂膜基体材料上形成硬涂层，并对该硬涂层喷涂干冰喷 射材料，从而除去硬涂层表面的附着物。
例如，通过紫外线固化树脂形成硬涂层时，如图2所示，首先在第1喷 射部11将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料F上，除去附着在表面的附 着物。该树脂膜基体材料F是用上述溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜 的膜。这样，在涂布部12涂布紫外线固化树脂层之前，除去附着在树脂膜 基体材料F表面的附着物。通过第1喷射部11喷涂后，在涂布部12将紫外 线固化树脂组合物涂布液涂布到树脂膜基体材料F上。然后，用干燥器13 干燥，使溶剂蒸发，在照射部14通过对硬涂层照射紫外线，使硬涂层固化， 将光学膜卷在辊10上。干冰喷射材料的喷涂条件与第1种实施方式中的喷 涂条件相同。
这样，在涂布紫外线固化树脂之前通过由干冰喷射材料除去树脂膜基体 材料表面的附着物，可以良好地形成硬涂层。
另外，固化硬涂层后，在第2喷射部15将干冰喷射材料喷涂到硬涂层 上，除去附着在表面的附着物，然后，也可以将光学膜卷在辊10上。干冰 喷射材料的喷涂条件与第1种实施方式中的喷涂条件相同。另外，使用热固 性树脂作为硬涂层时，通过加热处理使之固化，在树脂膜基体材料F上形成 硬涂层，然后，通过第2喷射部15喷射干冰喷射材料，除去附着物。
这样，在形成硬涂层后，通过第2喷射部15喷涂干冰喷射材料，也可 以得到与第1种实施方式几乎相同的效果。另外，通过与在第1喷射部的喷 涂组合，具有更好的效果。即，如果将干冰喷射材料喷涂到硬涂层表面，可 以通过该喷涂的冲击力除去附着在表面的附着物。另外，由于通过干冰喷射 材料使硬涂层表面急剧冷却，由于该急剧的温度变化，附着物变得容易被除 去。这样，通过喷涂干冰喷射材料，由于其冲击力和急剧的温度变化，可以 充分地除去表面的附着物。
另外，由于干冰在常温常压下升华，喷射材料在硬涂层表面不会残留。 此外，由于使用干冰喷射材料，可以不使形成了硬涂层的光学膜变形地除去 附着物，因此，可以维持光学膜的平面性。另外，按照本实施方式涉及的洗 净方法，由于不必如现有技术中涉及的刷式网板清洁器那样刮落附着物，因 此，可以不使硬涂层受到损伤地除去附着物。另外，按照本实施方式涉及的 洗净方法，由于可以除去部分地附着在树脂膜基体材料表面的附着物而变得 均一，因此，与现有技术涉及的洗净方法相比，可以降低耐擦伤斑。
如上所述，按照本实施方式涉及的洗净方法，可以维持平面性、不对表 面带来损伤、降低耐擦伤性斑地充分地除去树脂膜基体材料的附着物，因此 可以提供在大画面显示装置中所要求的高品质的光学膜。
另外，在上述第1和第2种实施方式中，可以从一侧的面通过支持部件 支持光学膜，并对被支持的相反一侧的面喷涂喷射材料。例如，使光学膜接 触辊部件，并在此状态下对接触的面的相反侧的面喷涂喷射材料。另外，将 光学膜放在带部件上并对带部件的相反侧的面喷涂喷射材料。由于光学膜通 过支持部件被支撑，由喷射材料带来的力高效地传递到光学膜的表面。由此， 可以效率良好地除去附着在光学膜表面的附着物。另外，由于用支持部件支 持光学膜，可以使光学膜保持平面。
另外，如果从与光学膜行进方向相反的方向喷涂干冰喷射材料，喷射材 料的力高效地传递到光学膜的表面，因此，可以更加容易地除去附着物。例 如，在图1中，在使树脂膜基体材料沿箭头A的方向移动的状态下，从与该 移动方向(箭头A的方向)相反的方向(箭头A的相反方向)将干冰喷射 材料喷涂到树脂膜基体材料上。另外，在图2中，在使形成了硬涂层的树脂 膜基体材料沿箭头B的方向移动的状态下，从与该移动方向(箭头B的方 向)相反的方向(箭头B的相反方向)将干冰喷射材料喷涂到硬涂层表面上。
这样，通过从斜的方向对光学膜喷涂干冰喷射材料，附着物变得容易从光学 膜表面剥离，可以容易地除去附着物。特别是，如果从与光学膜的行进方向 相反的方向喷涂干冰喷射材料，可以效率良好地除去附着物。
另外，为了防止光学膜表面的结露，使光学膜的温度为室温或室温以上。 例如，使氛围气体的露点为10℃或10℃以下，更加优选不足0℃，使光学膜 的表面温度为20℃～120℃。另外，对于通过熔融流延制膜法制作的树脂膜， 有必要维持不熔融的温度。这样，通过使光学膜的表面温度为20℃～120℃， 在喷涂干冰喷射材料时，可以防止光学膜的温度降低，从而可以防止结露。
具体地，在将干冰喷射材料喷涂到光学膜上之前，通过干燥器对光学膜 吹入热风，维持光学膜的表面温度为20℃～120℃。
另外，作为其它的手段，还可以在将干冰喷射材料喷涂到光学膜上之前， 通过加热输送光学膜的辊部件或带部件等支持部件，从而加热与该支持部件 邻接的光学膜。例如，通过比光学膜的表面温度高温的支持部件加热光学膜， 调整支持部件的温度以使光学膜的表面温度为20℃～120℃。由此，可以防止 光学膜过于冷却，在喷涂干冰喷射材料的工序以及其后的工序中，可以防止 对光学膜的结露。作为加热支持部件的方法，可以在辊部件内流通温水等， 也可以使用电控制的夹套辊作为辊部件。
另外，由于存在通过干冰被冷却而产生结露的危险，因此，优选在喷涂 干冰喷射材料之前、喷涂中、喷涂后等，降低氛围气体的露点。例如，希望 将露点降低到10℃或10℃以下，更加优选为不足0℃。具体地，喷涂处理在 容器内等进行，使升华的二氧化碳气体或氮气等充满该容器内，降低露点。 另外，也可以使例如露点为-60℃的干燥空气充满容器内，在该环境下将干 冰喷射材料喷涂到光学膜上。
另外，可以在喷涂喷射材料的喷射喷嘴上设置抽吸喷嘴，用该抽吸喷嘴 吸入除去的附着物，从光学膜表面除去附着物。如果通过喷射材料从光学膜 上除去附着物，该附着物将漂浮在光学膜的周围。如果放置这样的状态，则 有附着物再次附着在光学膜上的危险，存在光学膜被污染的危险。将通过这 样的喷射材料除去的附着物抽吸并迅速地排出，由此，可以确实地除去飞舞 在光学膜周围的附着物。由此，可以防止通过喷射材料除去的附着物再次附 着在光学膜上。
例如，如图3(a)所示，对输送辊22上的光学膜F倾斜地设置喷射喷 嘴20，从斜的方向将喷射材料喷涂到光学膜F上来除去附着物时，在该喷 涂的相反一侧设置抽吸喷嘴21，将通过喷射材料的喷涂从光学膜F上剥离 的附着物通过抽吸喷嘴21抽吸并迅速地排出。
另外，如图3(b)所示，还可以通过包围喷射喷嘴20的周围来设置抽 吸喷嘴21，包围光学膜F上喷涂喷射材料的部分的周围地设置抽吸喷嘴21， 抽吸被剥离的附着物并迅速地排出。喷射材料升华时产生的风压由于对喷射 材料喷涂的部分的所有方向产生，因此，通过用抽吸喷嘴21包围喷涂的部 分，可以抽吸在周围的氛围气体中飞舞的附着物并迅速地排出。
另外，为了防止通过喷涂干冰喷射材料而除去的附着物再次附着在光学 膜的表面上，可以使用除电装置一边对光学膜表面进行除电一边将干冰喷射 材料喷涂到表面上。另外，也可以在喷涂干冰喷射材料之前进行除电。例如， 使喷涂干冰喷射材料之后的光学膜的带电量为1[kV]或1[kV]以下地来决定 除电的条件，进行除电。通过除电到带电量为1[kV]或1[kV]以下，可以防止 除去的附着物再次附着在光学膜上，另外，还可以防止氛围气体中的灰尘等 附着到光学膜上。作为具体的手段，在喷涂干冰喷射材料的喷射喷嘴内设置 离子发生用的电极，喷涂喷射材料的同时对光学膜表面进行除电。
另外，可以喷涂干冰喷射材料从光学膜的表面除去附着物之后，通过已 知的清洗方法进一步将光学膜洗净。作为已知的清洗方法，可以举出，例如， 空气式网版清洁器、粘附式网版清洁器、或刷式网版清洁器等。
另外，在光学膜表面喷涂干冰喷射材料时，可以在密封的容器内存入光 学膜，将该容器内比外部减压下喷涂干冰喷射材料。例如，比容器外部减压 10Pa左右。通过在这样的减压下进行干冰喷射材料的喷涂，可以防止由喷涂 除去的附着物再次附着在光学膜表面。另外，即使减压10Pa左右，干冰喷 射材料也升华成为气体，因此，不会损害干冰喷射法的效果。
另外，优选通过干冰喷射材料除去附着物之后，再洗净光学膜。例如， 在加入水的水槽中浸渍通过干冰喷射材料洗净后的光学膜，除去残存在光学 膜表面的附着物。另外，如果使用洗净剂洗净光学膜，可以更加有效地除去 残存的附着物，还可以高速地喷涂洗净液到光学膜上来除去残存的附着物。 另外，通过使用超声波洗净器或超声波发生器对光学膜照射超声波，可以有 效地除去残存的附着物。另外，代替洗净，还可以进行皂化。另外，还可以 将洗净剂喷涂到放置在带部件上输送的状态的光学膜或卷在辊部件的状态 的光学膜上来除去残存的附着物。该洗净剂中使用例如，水或在水中添加了 活性剂等的物质。使用洗净剂除去残存在光学膜上的附着物之后，水洗光学 膜，然后进行干燥。此外，洗净液通过过滤器，以没有杂质的状态使用，洗 净后，干燥光学膜上的洗净液。
另外，还可以分多次将干冰喷射材料喷涂到光学膜上。例如，设置多个 干冰喷射装置，由各个干冰喷射装置将相同粒径或不同大小粒径的干冰喷射 材料喷涂到光学膜上。干冰喷射装置由于对生成的干冰喷射材料的量有限 度，因此，当要使用的干冰喷射材料的量多时，可以设置多个干冰喷射装置 进行处理。即，如果想要只设置1个干冰喷射装置进行处理，则存在干冰喷 射材料的生成量不足，有不能良好地除去附着物的危险。因此，通过设置多 个干冰喷射装置，分多次喷涂干冰喷射材料，可以充分地除去附着物。
实施例
接着，对本发明的实施方式中涉及的光学膜的洗净方法的具体的实施例 进行说明。
[实施例1]
首先，参照图4所示的表对实施例1进行说明。在实施例1中，在通过 上述溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜的树脂膜基体材料的表面，以下 述所示的条件喷涂干冰喷射材料，除去树脂膜基体材料表面的附着物。该喷 涂后，在树脂膜基体材料上涂设硬涂层，用干燥器干燥后，固化形成硬涂层。 而且，在形成硬涂层后，对平面性、点缺陷(附着物故障)以及损伤故障进 行评价。
<干冰喷射条件>
干冰的形状和大小：平均粒径φ3×2mm的颗粒状喷射材料
供给空气压力：3.5kg/cm2
在该条件下将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料表面除去附着物后， 形成下述所示的硬涂层。而且，在形成硬涂层后，对平面性、点缺陷(附着 物故障)以及损伤故障进行评价。
[硬涂层的制作]
在上述所示的干冰喷射条件下，在宽1.3m、厚80μm、长度2000m的长 的树脂膜基体材料的表面喷涂干冰喷射材料，除去树脂膜基体材料表面的附 着物。然后，用孔径0.4μm的聚丙烯制的过滤器过滤下述硬涂层(紫外线固 化树脂层)用涂布液，调整硬涂层用涂布液，通过微凹版涂布机将其涂布， 在90℃下干燥后，使用紫外线灯，以照射部的照度为100mW/cm2、照射量 为0.1J/cm2使涂布层固化，形成厚度10μm的硬涂层。
<硬涂层用涂布液>
二季戊四醇六丙烯酸酯：100重量份
光反应引发剂[イルガキユア184(チバスペシヤルテイケミカルズ(株) 制造)]： 5重量份
乙酸乙酯： 120重量份
丙二醇单甲醚： 120重量份
硅类表面活性剂(BYK-307
(ビツクケミ一ジヤパン公司制造)：0.4重量份
[比较例]
以下举出对于该实施例1的比较例(现有技术)。
比较例1：通过粘附式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物， 然后形成硬涂层。
比较例2：通过刷式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物，然 后形成硬涂层。
比较例3：不除去树脂膜基体材料表面的附着物，形成硬涂层。
在图4中，例1～例9表示在该实施例中的附着物除去的结果。在例1～ 例9中，在通过上述的溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜的包含三乙酸 纤维素(TAC膜)的树脂膜基体材料的表面喷涂干冰喷射材料，除去树脂膜 基体材料表面的附着物。另外，在树脂膜基体材料中使用了コニカミノルタ オプト制造的TAC膜KC8UX。另外，在比较例1～比较例3(现有技术)中， 也使用了包含三乙酸纤维素膜(TAC膜)的树脂膜基体材料。
对于图4(a)的条件A～条件I的详细情况，示于图4(b)中。例如， 例1是按照条件A除去的结果，如图4(b)所示，是将氛围气体的温度设 定为20℃，将树脂膜基体材料(支持体)的温度设定为20℃，氛围气体的 露点为不足0℃，将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料上，然后，形成硬 涂层，进行评价的结果。另外，例如，例5是按照条件E除去的结果，如图 4(b)所示，是以通过温度为30℃、直径为φ500mm的辊部件(支持体) 支持的状态，将氛围气体的温度设定为30℃，将树脂膜基体材料(支持体) 的温度设定为30℃，氛围气体的露点为不足0℃，通过除电装置进行除电， 并设置抽吸喷嘴进行抽吸，将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料表面，然 后，形成硬涂层，进行评价的结果。对其他的例子，也按照图4(a)、(b) 所示的条件进行除去(洗净)。
<平面性的评价>
平面性的评价使用激光位移仪(キ一エンス(株)制造，型号：LT-8100， 分解能：0.2μm)。用激光位移仪在形成了上述硬涂层的光学膜的宽度方向进 行扫描，测定硬涂层表面的细小的突起，评价光学膜的平面性。为了评价平 面性，将光学膜放在平坦并且水平的台子上，并用胶带将光学膜的宽度的两 端固定在台子上。然后，在与台子平行设置的移动轨道(シグマ光机公司制 造)上设置测定照相机，并使照相机镜头和光学膜的间隔为25mm，以移动 速度为5cm/min进行扫描，测定突起。为了观察膜本身的弯曲等变形，从设 置了硬涂层的面的相反侧的面进行测定。◎：由光学膜的变形引起的凹凸的 大小不足0.5μm、○：由光学膜的变形引起的凹凸的大小为0.5μm或0.5μm 以上但不足1.0μm、△：由光学膜的变形引起的凹凸的大小为1.0μm或1.0μm 以上但不足3.0μm、×：由光学膜的变形引起的凹凸的大小为3.0μm或3.0μm 以上。
如图4(a)所示，在例1～例9(实施例)中，达到「○」或「◎」。另 一方面，比较例1为「×」、比较例2为「△」、比较例3为「◎」。从该结 果可知，如比较例1、2，通过粘附式网版清洁器或刷式网版清洁器进行附着 物除去时，则平面性受到损害。与此相反，可知在本发明的实施例中，即使 喷涂干冰喷射材料进行附着物除去，也不会损害平面性，从而可以制造良好 的光学膜。
<点缺陷附着物故障检查>
从形成了上述硬涂层的光学膜切出宽100cm、长100cm大小的试样(光 学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根50W的荧光灯，在 距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角度照射光。 然后，用该荧光灯照射试样(光学膜)的硬涂层，计数用目视可以确认的 100μm或100μm以上的点缺陷(附着物故障)。
如图4(a)所示，例5～例9(实施例)为0～1个/cm2。另外可知，在例 1～例4(实施例)中，与比较例1～比较例3相比，附着物减少。由此结果可 知，在比较例1、2中，不能充分地完全除去附着物，但按照本发明，可以 充分地除去附着物。
<损伤故障检查>
从形成了上述硬涂层的光学膜切出宽100cm、长10cm大小的试样(光 学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根50W的荧光灯，在 距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角度照射光。 然后，用该荧光灯照射试样(光学膜)的硬涂层，计数用目视可以确认的损 伤缺陷(树脂膜基体材料的损伤)。◎：损伤数为0～1处/m2、○：损伤数为 2～4处/m2、△：损伤数为5～10处/m2、×：损伤数为10处/m2或10处/m2 以上。
如图4(a)的表所示，例1～例9(实施例)全部为「◎」。另一方面， 比较例1为「○」、比较例2为「×」。由该结果可知，比较例1、2中，有 对光学膜表面带来损伤的可能性，存在不能制造良好的光学膜的危险，但按 照本发明，可以不对光学膜表面带来损伤地充分地除去附着物。
归纳上述的平面性评价、点缺陷(附着物故障)检查以及损伤检查的结 果可知，比较例1～3不能维持平面性、或对表面带来损伤，另外，不能充分 地除去附着物，但本发明的实施例，可以维持光学膜的平面性、并不对表面 带来损伤地充分地除去表面的附着物。因此，由于本发明的实施例涉及的洗 净方法可以制造良好的光学膜，因此，可以提供大画面显示装置所要求的高 品质的光学膜。
[实施例2]
接着，参照图5对实施例2进行说明。在该实施例2中，用实施例1形 成硬涂层后，在该硬涂层的表面喷涂干冰喷射材料，除去硬涂层表面的附着 物。然后，在硬涂层上形成下述所示的防反射层。然后，在形成防反射层之 后，对平面性、点缺陷(附着物故障)以及耐擦伤性斑进行评价。干冰喷射 的条件与实施例1中的条件相同。
[防反射层的制作]
在固化的硬涂层上通过棒涂机涂布下述中折射率层用涂布液，在70℃ 下干燥后，照射紫外线使涂布层固化，形成中折射率层(折射率为1.72，膜 厚度85nm)。通过棒涂机在其上涂布下述高折射率层用涂布液，在70℃下干 燥后，照射紫外线使涂布层固化，形成高折射率层(折射率为1.9，膜厚度 68nm)。再通过棒涂机在其上涂布下述低折射率层用涂布液，在70℃下使之 干燥后，通过热处理固化，形成低折射率层(折射率为1.42，膜厚度100nm)， 制作可见光的反射率为0.5％或0.5％以下的防反射膜。
<中折射率层/高折射率层/低折射率层的制作>(二氧化钛分散物的配 制)
通过砂磨机分散30质量份二氧化钛(一次粒子质量平均粒径：50nm， 折射率：2.70)、4.5质量份阴离子性二丙烯酸酯单体(PM21，日本化药(株) 制造)、0.3质量份阳离子性甲基丙烯酸酯单体(DMAEA，兴人(株)制造) 以及65.2质量份甲乙酮，配制二氧化钛分散物。
(中折射率层用涂布液的配制)
在151.9g环己酮和37.0g甲乙酮中溶解0.14g光聚合引发剂(イルガキ ユア907，チバガイギ一公司制造)以及0.04g光增感剂(カヤキユア一DETX， 日本化药(株)制造)。再加入6.1g上述的二氧化钛分散物和2.4g二季戊四 醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混和物(DPHA，日本化药(株) 制造)，在室温下搅拌30分钟后，用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器过滤，配 制中折射率层用涂布液。将该涂布液涂布在形成了硬涂层的光学膜上，干燥， 测定紫外线固化后的折射率时，得到折射率为1.72的中折射率层。
(高折射率层用涂布液的配制)
在1152.8g环己酮和37.2g甲乙酮中溶解0.06g光聚合引发剂(イルガ キユア907，チバガイギ一公司制造)以及0.02g光增感剂(カヤキユア一 DETX，日本化药(株)制造)。再使上述的二氧化钛分散物和二季戊四醇五 丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混和物(DPHA，日本化药(株)制造) 的二氧化钛分散物的比率增加，调节以达到高折射率层的折射率，在室温下 搅拌30分钟后，用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器过滤，配制高折射率层用 涂布液。将该涂布液涂布在形成了硬涂层的光学膜上，干燥，测定紫外线固 化后的折射率时，得到折射率为1.9的高折射率层。
(低折射率层用涂布液的配制)
将下述混和物在室温下搅拌20分钟，用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器 过滤，配制低折射率层用涂布液。使用棒涂机将其涂布并使干燥膜厚为0.1μm (折射率n＝1.42)，在120℃的热风式干燥机中进行30分钟的加热处理，形 成折射率为1.42的低折射率层。
<低折射率层用涂布液>
含有含氟类共聚物(具有聚二甲基硅氧烷单元的氟代烯烃/乙烯基醚共 聚物)的涂料(固体成分3％)(JSR(株)制造，JN-7215)：30重量份
胶体二氧化硅分散液(平均一次粒径为50nm，固体成分15％，异丙醇 分散液)：1.5重量份
1-甲氧基-2-丙醇：6重量份
在此，对图5的表中的除去方式、条件、以及除去的实施时机进行说明。 在例1(实施例)中，只使用干冰喷射材料进行附着物的除去。该除去的实 施时机是，在树脂膜基体材料上涂布硬涂层，固化形成后，将干冰喷射材料 喷涂到硬涂层上，进行附着物的除去。附着物除去后，在硬涂层上形成上述 防反射层。
在例2(实施例)中，将干冰喷射材料喷涂到硬涂层上后，通过空气式 网板清洁器进一步洗净硬涂层。该除去的实施时机与例1相同。除去附着物 后，在硬涂层上形成上述防反射层。
在例3(实施例)中，与实施例2同样地，使用了干冰喷射材料和空气 式网板清洁器。除去的实施时机是，对形成硬涂层前的树脂膜基体材料喷涂 干冰喷射材料，另外，在形成硬涂层后，对该硬涂层也喷涂干冰喷射材料。 除去附着物后，在硬涂层上形成上述防反射层。
在例4(实施例)中，将干冰喷射材料喷涂到硬涂层上后，通过粘附式 网板清洁器进一步洗净硬涂层。该除去的实施时机与例1、2相同。除去附 着物后，在硬涂层上形成上述防反射层。
在例5(实施例)中，将干冰喷射材料喷涂到硬涂层上后，通过刷式网 板清洁器进一步洗净硬涂层。该除去的实施时机与例1、2、4相同。除去附 着物后，在硬涂层上形成上述防反射层。
另外，在例1～例5(实施例)中的温度等环境条件，按照图4(b)所 示的条件E。即，用温度为30℃、直径为φ500mm的辊部件支持光学膜， 将氛围气体的温度设定为30℃，将树脂膜基体材料(支持体)的温度设定为 30℃，氛围气体的露点为不足0℃，设置除电装置进行除电，在减压下，将 干冰喷射材料喷涂到硬涂膜上，除去附着物。
[比较例]
以下，举出相对于该实施例2的比较例。
比较例1：通过粘附式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物， 然后形成防反射层。除去的实施时机是在形成硬涂层后实施。
比较例2：通过刷式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物，然 后形成防反射层。除去的实施时机是在形成硬涂层后实施。
比较例3：不除去硬涂层表面的附着物，形成防反射层。
<点缺陷附着物故障检查>
从形成了上述防反射层的光学膜切出宽100cm、长100cm大小的试样 (光学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根50W的荧光灯， 在距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角度照射光。 然后，用该荧光灯照射试样(光学膜)的防反射层，计数用目视可以确认的 50μm或50μm以上的点缺陷(附着物故障)。
如图5的表所示，在比较例1～比较例3中，附着物为30～100个/cm2， 例1～例5(实施例)中，附着物为0～6个/cm2。由此结果可知，按照本实施 例，可以充分地除去附着物。
<平面性的评价>
从形成了上述防反射层的光学膜切出宽90cm、长100cm大小的试样(光 学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根40W的荧光灯(松 下电器制造FLR40S-EX-D/M)，在距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使 之能从对着台子45°的角度照射光。然后，用该荧光灯照射试样(光学膜) 的防反射层，用眼睛观察防反射层的面，进行所谓「表面凹凸不平」和「折 皱」的评价。◎：5根荧光灯笔直地可以见到、○：荧光灯有的部分看到弯 曲、△：荧光灯整个部分看到弯曲、×：荧光灯弯曲很厉害。
如图5的表所示，例1～例5(实施例)全部为「◎」。比较例1为「×」、 比较例2为「△」、比较例3为「◎」。从该结果可知，如比较例1、2，如果 通过粘附式网版清洁器或刷式网版清洁器进行附着物除去，则平面性受到损 害。与此相反，可知在本发明的实施例中，即使喷涂干冰喷射材料进行附着 物除去，也不会损害平面性，从而可以制造良好的光学膜。
<耐擦伤性斑的评价>
制作100张10cm×10cm的试样片(光学膜)，在23℃、55％RH的环 境下，用#0000的钢丝棉(SW)对各试样片(光学膜)施加200g/cm2的荷 重，擦拭试样片(光学膜)的表面10次。然后，目视测定由于进行10次擦 拭而产生的每1cm宽的损伤的根数，在各试样片(光学膜)中，求出100 处耐擦伤性的测定结果。另外，损伤的条痕数是在施加荷重的部分中损伤的 条痕数最多的部分测定的。◎：不足3条、○：3条或3条以上但不足5条、 △：5条或5条以上但不足10条、×：10条或10条以上但不足15条。
只要是不到10条/cm2，则在实用上没有问题，但优选不到5条/cm2，更 加优选不到3条/cm2。
如图5的表所示，例1～例5(实施例)全部为「◎」。另一方面，比较 例1、2为「×」、比较例3为「△」。从该结果可知，如比较例1～3中，有 耐擦伤性的不均性，容易对光学膜表面带来损伤。与此相反，按照本发明的 实施例，由于耐擦伤性的不均性少，难以使光学膜表面受到损伤，可以制造 良好的光学膜。
归纳上述的点缺陷(附着物故障)、平面性以及耐擦伤性斑的评价结果 可知，比较例1～3不能充分除去附着物，不能维持平面性，由于耐擦伤斑的 不均性而容易受到损伤。与此相反，可知本发明的实施例，可以维持光学膜 的平面性、减少耐擦伤斑的不均性从而不易受到损伤，可以充分地除去附着 物。另外，如果使用通过本发明的实施例涉及的洗净方法除去了附着物的防 反射膜作为偏振片的保护膜，该偏振片可以抑制由于故障引起的收率降低， 并可以提高偏振片的成品率。因此，按照本发明的实施例，可以制造大画面 显示装置所要求的高品质的光学膜。
[实施例3]
接着，对实施例3进行说明。在上述实施例1中，对使用三乙酸纤维素 膜(TAC膜)作为树脂膜基体材料的材料的例子进行说明。在实施例3中， 对使用上述三乙酸纤维素膜(TAC膜)以外的材料作为树脂膜基体材料的材 料的例子进行说明。
在实施例3中，例如，对包含通过溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制 膜的聚碳酸酯膜(PC膜)、聚对苯二甲酸乙二醇酯、ア一トン、ゼオノア、 或纤维素羧酸酯膜等、大小为约A4大小的树脂膜基体材料喷涂干冰喷射材 料。作为该喷涂条件，如图4所示的例1～例9，在条件A～条件I的任意的 条件下进行干冰喷射材料的喷涂。例如，设置抽吸喷嘴并且一边进行抽吸一 边喷涂干冰喷射材料，然后，进行平面性的评价、附着物故障的检查以及损 伤故障的检查。其结果，即使是使用上述材料的场合，也可以得到与实施例 1同样的效果。即，与图4所示的比较例1～比较例3(现有技术)相比，可 以维持树脂膜基体材料的平面性、不对表面带来损伤地充分地除去表面的附 着物。因此，在本发明的实施例涉及的洗净方法中，即使是改变树脂膜基体 材料的材料的场合，也可以制造良好的光学膜，从而可以提供大画面显示装 置所要求的高品质的光学膜。
只要具有上述性质，则没有特别限定，可以举出，例如，纤维素酯类膜、 聚酯类膜、聚碳酸酯类膜、聚芳酯类膜、聚砜(也包含聚醚砜)类膜、聚对 苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、 赛璐玢、二乙酸纤维素膜、三乙酸纤维素、乙酸丁酸纤维素膜、聚偏氯乙烯 膜、聚乙烯醇膜、乙烯-乙烯醇膜、间规聚苯乙烯类膜、聚碳酸酯膜、环烯 烃聚合物膜(ア一トン(JSR公司制造)、ゼオネツクス、ゼオノア(以上， 日本ゼオン公司制造))、聚甲基戊烯膜、聚醚酮膜、聚醚酮酰亚胺膜、聚酰 胺膜、氟树脂膜、尼龙膜、聚甲基丙烯酸甲酯膜、丙烯酸类膜或玻璃板等。
其中，在透明性、机械性质、没有光学各向异性方面看，优选三乙酸纤 维素膜(TAC膜)、乙酸丙酸纤维素膜等纤维素酯膜、聚碳酸酯膜(PC膜)、 间规聚苯乙烯类膜、聚芳酯类膜、降冰片烯树脂类膜以及聚砜类膜。特别是， 纤维素酯膜(TAC膜)以及PC膜由于在这些当中制膜性容易、加工性优异， 故可以优选使用，特别优选使用TAC膜。从制造上、成本方面、透明性、 各向同性、粘接性等观点看，可以优选使用纤维素酯膜(例如，コニカミノ ルタタツク制品名KC8UX2MW、KC4UX2MW、KC8UY、KC4UY、KC5UN、 KC12UR、KC8UCR3(コニカミノルタオプト(株)制造)。这些膜可以是 用溶液流延制膜法制作的膜，也可以是用熔融流延制膜法制作的膜。基体材 料的膜厚度没有特别限制，10μm～10mm的片状的材料更好。
使用纤维素酯作为本实施方式的树脂膜基体材料时，作为纤维素酯原料 的纤维素，没有特别限定，可以举出棉花棉短绒、木材纸浆(来自针叶树、 来自阔叶树)、洋麻等。另外，从这些得到的纤维素酯可以分别以任意的比 例混合使用。这些纤维素酯是，在酰化剂为酸酐(醋酸酐、丙酸酐、丁酸酐) 时，可以使用醋酸等有机酸或二氯甲烷等有机溶剂，并使用硫酸等质子性催 化剂与纤维素原料反应而得到的。
纤维素酯的数均分子量为70000～250000时，成型时的机械强度强，并 得到适度的胶浆粘度，故优选，更加优选80000～150000。
在此，对通过溶液流延制膜法制造包含纤维素酯的树脂膜基体材料的方 法简单地进行说明。纤维素酯是通过将纤维素酯溶解液(胶浆)从加压模头 流延(浇注)胶浆到例如，循环移动的环形金属带或旋转的金属滚筒等流延 用支持体上并制膜的方法制造。
参照图1对溶液流延制膜法更加详细地进行说明。如图1所示，通常是 通过模头2使作为纤维素酯膜原料液的胶浆流延到旋转的由金属制环形带构 成的支持体1上，形成湿膜W(胶浆膜)。然后，通过剥离辊3从支持体1 上剥离湿膜W，得到剥离的膜F。膜F通过拉幅机(膜宽度方向的拉伸装置) 4被拉伸，再进行干燥。然后，膜F一边经过多个输送辊6输送一边由干燥 装置5进行干燥。通过干燥得到的纤维素酯膜F卷在卷取辊7上。
作为在配制这些胶浆时使用的有机溶剂，优选可以溶解纤维素酯并具有 适度的沸点的溶剂，可以举出，例如，二氯甲烷、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙 酸戊酯、乙酰乙酸甲酯、丙酮、四氢呋喃、1，3-二氧杂戊环、1，4-二噁烷、环 己酮、甲酸乙酯、2，2，2-三氟乙醇、2，2，3，3-四氟-1-丙醇、1，3-二氟-2-丙醇、 1，1，1，3，3，3-六氟-2-甲基-2-丙醇、1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇、2，2，3，3，3-五氟-1-丙 醇、硝基乙烷、1，3-二甲基-2-咪唑啉酮等，作为优选的有机溶剂(即，良溶 剂)，可以举出二氯甲烷等有机卤代化合物、二氧杂戊环衍生物、乙酸甲酯、 乙酸乙酯、丙酮、乙酰乙酸甲酯等。
另外，在溶剂蒸发工序中，在从形成在流延用支持体上的湿膜(胶浆膜) 上干燥溶剂时，从防止湿膜中的发泡的观点看，作为使用的有机溶剂的沸点， 优选30～80℃，例如，上述记载的良溶剂的沸点为，二氯甲烷(沸点40.4℃)、 乙酸甲酯(沸点56.32℃)、丙酮(沸点56.3℃)、乙酸乙酯(沸点76.82℃) 等。
上述记载的良溶剂中，优选使用溶解性优异的二氯甲烷或乙酸甲酯。
除了上述有机溶剂以外，优选含有0.1～40质量％的碳原子数为1～4的 醇。特别优选含有5～30质量％的上述醇。将上述记载的胶浆流延到流延用 支持体上后，溶剂开始蒸发，醇的比率变多时，湿膜(胶浆膜)凝胶化，使 湿膜变结实，上述醇可以作为使从流延用支持体上剥离变容易的凝胶化溶剂 使用，当它们的比例少时，还具有促进非氯类有机溶剂对纤维素酯的溶解的 作用。
作为碳原子数为1～4的醇，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正 丁醇、仲丁醇、叔丁醇等。
这些溶剂中，从胶浆的稳定性好、沸点也比较低、干燥性也好、并且没 有毒性等看，优选乙醇。优选使用相对于二氯甲烷70质量％～95质量％，含 有乙醇5质量％～30质量％的溶剂。也可以使用乙酸甲酯代替二氯甲烷。此 时，也可以通过冷却溶解法配制胶浆。
另外，残留溶剂量由下述式子来表示。残留溶剂量(质量％)＝{(M-N) /N}×100，这里，M为湿膜(含有溶剂的纤维素酯膜)在任意时刻的质量， N为在110℃下将M的湿膜干燥3小时时的质量。
另外，对通过熔融流延制膜法制造包含纤维素酯的树脂膜基体材料的方 法简单地进行说明。熔融流延制膜法是不使用溶剂将纤维素酯加热熔融到显 示流动性的温度，然后，将流动性的纤维素酯挤出到金属带或滚筒上而成膜 的方法。
在该实施方式中，纤维素酯膜优选光透过率为90％或90％以上，更加 优选93％或93％以上的透明支持体。
另外，使用纤维素酯膜作为后述的硬涂层的支持体时，优选含有增塑剂 或紫外线吸收剂等。纤维素酯和溶剂以外的必要的增塑剂或紫外线吸收剂等 添加剂可以预先与溶剂混合、溶解或分散之后，再投入到纤维素酯溶解前的 溶剂中，也可以投入到纤维素酯溶解后的胶浆中。
作为可以在该实施方式中使用的增塑剂，没有特别限定，磷酸酯类增塑 剂，优选单独或同时使用磷酸三苯酯(TPP)、磷酸联苯二苯酯(BDP)、磷 酸三甲苯酚酯、甲苯基二苯基磷酸酯、辛基二苯基磷酸酯、磷酸三辛酯、磷 酸三丁酯等；苯二甲酸酯类增塑剂中，优选单独或同时使用苯二甲酸二乙酯、 苯二甲酸二甲氧基乙酯、苯二甲酸二甲酯、苯二甲酸二辛酯、苯二甲酸二丁 酯、苯二甲酸二(2-乙基己酯)等；乙醇酸酯类增塑剂，优选单独或同时使 用甘油三乙酸酯、甘油三丁酸酯、邻苯二甲酸丁酯·丁基乙醇酸酯、邻苯二甲 酸乙酯·乙基乙醇酸酯(EPEG)、邻苯二甲酸甲酯·乙基乙醇酸酯、邻苯二甲 酸丁酯·丁基乙醇酸酯等；或柠檬酸酯类增塑剂；多元醇酯类增塑剂等。上述 增塑剂，视需要还可以同时使用2种或2种以上。通过含有这些增塑剂，可 以得到尺寸稳定性、耐水性优异的膜，故特别优选。
这些增塑剂的使用量，从膜的性能、加工性等观点看，相对于纤维素酯， 优选1重量％～20重量％，特别优选3重量％～15重量％。
另外，在作为支持体的树脂膜基体材料中优选使用紫外线吸收剂，作为 紫外线吸收剂，从防止液晶的劣化的观点看，波长370nm或370nm以下的 紫外线的吸收能优异，而且从良好的液晶显示性的观点看，可以优选使用波 长400nm或400nm以上的可见光的吸收尽可能少的。作为通常可以使用的 物质，可以举出，例如氧化二苯甲酮类化合物、苯并三唑类化合物、水杨酸 酯类化合物、二苯甲酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、镍配位盐类化合 物等，但不限定于这些。
另外，在上述树脂膜基体材料上设置活化射线固化树脂层。该活化射线 固化树脂层可作为硬涂层使用。硬涂层是用于防止由于物体与图像显示装置 的画面接触而产生的损伤的层。
所谓活化射线固化树脂层是指以通过紫外线或电子射线等活化射线照 射经过交联反应等而进行固化的树脂作为主要成分的层。作为活性射线固化 树脂，可以举出紫外线固化型树脂或电子射线固化型树脂等为代表的物质， 但也可以是通过紫外线或电子射线以外的活性射线照射而固化的树脂。作为 紫外线固化型树脂，可以举出，例如，紫外线固化型丙烯酸聚氨酯类树脂、 紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂、紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂、紫 外线固化型多醇丙烯酸酯类树脂、或紫外线固化型环氧树脂等。
紫外线固化型丙烯酸聚氨酯类树脂，一般可以通过使异氰酸酯单体或预 聚物与聚酯多醇反应而得到的生成物，再与丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸 2-羟基乙酯(以下，在丙烯酸酯中，作为包含甲基丙烯酸酯的物质只表示为 丙烯酸酯)、丙烯酸2-羟基丙酯等具有羟基的丙烯酸酯类单体反应而容易地 获得(例如，参照特开昭59-151110号公报)。
作为紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂，一般可以通过使丙烯酸2-羟基 乙酯、2-羟基丙烯酸酯类单体与聚酯多醇反应而容易地获得(例如，参照特 开昭59-151112号公报)。
作为紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂的具体例子，可以举出，以环氧 丙烯酸酯作为低聚物，并在其中添加反应性稀释剂、光反应引发剂，使之反 应而生成的物质(例如，参照特开平1-105738号公报)。作为该光反应引发 剂，可以从苯偶姻衍生物、肟酮衍生物、二苯甲酮衍生物、噻吨酮衍生物等 中选择1种或2种或2种以上使用。
另外，作为紫外线固化型多醇丙烯酸酯类树脂的具体例子，可以举出三 羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯 酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇 五丙烯酸酯等。
上述举出的树脂可以与通常已知的光增感剂一起使用。另外，上述光反 应引发剂也可以作为光增感剂使用。具体地，可以举出乙酰苯、二苯甲酮、 羟基二苯甲酮、米蚩酮(ミヒラ一ズケトン)、α-アミロキシムエステル、 噻吨酮等以及它们的衍生物。另外，使用环氧丙烯酸酯类光反应引发剂时， 可以使用正丁胺、三乙胺、三正丁基膦等增感剂。
作为树脂单体，例如，作为具有一个不饱和双键的单体，可以举出丙烯 酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、醋酸乙烯、丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、 苯乙烯等一般的单体。另外，作为具有二个或二个以上不饱和双键的单体， 可以举出二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、二乙烯基苯、1，4-环己烷 二丙烯酸酯、1，4-环己基二甲基二丙烯酸酯、前面提及的三羟甲基丙烷三丙 烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等。
作为紫外线固化型树脂的具体例，例如，可以从アデカオプトマ一 KR·BY系列：KR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY-320B(以 上，旭电化工业公司制造)或コ一エイハ一ドA-101-KK、A-101-WS、C-302、 C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、 AG-106、M-101-C(以上，广荣化学工业公司制造)、或セイカビ一ムPHC2210 (S)、PHC X-9(K-3)、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、 P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(以上，大日精化工业公司 制造)、或KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、 UVECRYL29202(以上，ダイセル·ユ一シ一ビ一公司制造)、或RC-5015、 RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、 RC-5152、RC-5171、RC-5180、RC-5181(以上，大日本インキ化学工业公 司制造)、或オ一レツクスNo.340クリヤ(中国涂料公司制造)、或サンラ ツドH-601(三洋化成工业公司制造)、或SP-1509、SP-1507(昭和高分子 公司制造)、或RCC-15C(グレ一ス·ジヤパン公司制造)、アロニツクス M-6100、M-8030、M-8060(以上，东亚合成公司制造)或其他的市售的制 品中适当选择使用。
活性射线固化树脂层的涂布组合物优选固体成分浓度为10～95质量％， 根据涂布方法选择适当的浓度。
作为用于将活性射线固化型树脂通过光固化反应形成固化皮膜层的光 源，是紫外线、电子射线、γ射线等，只要是使作为赋予防眩目性组合物的 活性光线固化型树脂活性化的光源，则可以不受限制地使用，但优选紫外线、 电子射线，特别是，从操作简便并且容易获得高能量这点看，优选紫外线。 作为使紫外线反应性化合物光聚合的紫外线光源，只要是发生紫外线的光 源，则可以使用任何一种。例如，可以使用低压水银灯、中压水银灯、高压 水银灯、超高压水银灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙灯等。另外，还可以使 用ArF准分子激光器、KrF准分子激光器、准分子灯或同步加速器放射光等。 照射条件根据各种灯而不同，照射光量优选1mJ/cm2或1mJ/cm2以上，更加 优选20mJ/cm2～10000mJ/cm2，特别优选50mJ/cm2～2000mJ/cm2。可以使用 从近紫外线区域经可见光区域，在该区域具有极大吸收的增感剂。
另外，还可以同样地使用电子射线。作为电子射线，可以举出从コツク ロフトワルトン型、范德格喇夫型、共振变压型、绝缘芯变压器型、直线型、 ダイナミトロン型、高频型等各种电子射线加速器放出的具有50～1000keV、 优选100～300keV的能量的电子射线。
作为涂设活性射线固化树脂层时的溶剂，可以使用涂设上述树脂层的溶 剂，例如，可以从烃类、醇类、酮类、酯类、二醇醚类、其他的溶剂中适当 选择、或混合使用。优选使用含有5质量％或5质量％以上、更加优选5～80 质量％以上的丙二醇单(C1～C4)烷基醚或丙二醇单(C1～C4)烷基醚酯的 溶剂。
作为将紫外线固化型树脂组合物涂布液涂布到树脂膜基板上的涂布方 法，可以使用已知的涂布方法。涂布量以湿膜厚度为0.1～30μm为合适，优 选0.5～15μm。涂布速度优选在10～60m/min下进行。可以通过例如，浸渍涂 布法、气刀涂布法、帘式淋涂法、辊涂法、金属丝棒涂布法、凹版涂布法或 挤出涂布法(美国专利第2681294号)形成。也可以同时涂布2层或2层以 上的层。作为同时涂布的方法，在美国专利第2761791号、美国专利第 2941898号、美国专利第3508947号、美国专利第3526528号以及原崎勇次 著、コ一テイング工学，253页，朝仓书店(1973年)中有记载。
紫外线固化型树脂组合物在涂布后，迅速干燥之后，通过光源照射紫外 线，照射时间可以是0.5秒～5分钟，从紫外线固化型树脂的固化效率、操作 效率来看，更加优选3秒～2分钟。
另外，也可以代替活性射线固化树脂层在树脂基体材料上设置热固性树 脂。作为热固性树脂，可以举出不饱和聚酯树脂、环氧树脂、乙烯基酯树脂、 酚醛树脂、热固性聚酰亚胺树脂、热固性聚酰胺酰亚胺等。
作为不饱和聚酯树脂，例如有，邻苯二甲酸类树脂、间苯二甲酸类树脂、 对苯二甲酸类树脂、双酚类树脂、丙二醇-马来酸类树脂、将二环戊二烯或 其衍生物导入到不饱和聚酯组成中并进行低分子量化的、或添加了被膜形成 性的蜡混合物的低苯乙烯挥发性树脂、添加了热塑性树脂(聚醋酸乙烯树脂、 苯乙烯·丁二烯共聚物、聚苯乙烯、饱和聚酯等)的低收缩性树脂、直接用 Br2将不饱和聚酯溴化的、或者将氯桥酸、二溴新戊二醇进行共聚等的反应 性型、氯代链烷烃、四溴双酚等卤化物和三氧化锑、磷化合物的组合或使用 氢氧化铝等作为添加剂的添加型阻燃性树脂、与聚氨酯或聚硅氧烷混合化、 或IPN化的强韧性(高强度、高弹性模量、高伸长率)的强韧性树脂等。
作为环氧树脂，可以举出，例如，含有双酚A型、酚醛清漆苯酚型、 双酚F型、溴代双酚A型的缩水甘油醚类环氧树脂、缩水甘油胺类、缩水甘 油酯类、含有环式脂肪类、杂环式环氧类的特殊环氧树脂等。
作为乙烯基酯树脂，例如是，将普通环氧树脂和甲基丙烯酸等不饱和一 元酸开环加成反应得到的低聚物溶解在苯乙烯等单体中的物质。另外，也有 在分子末端或侧链具有乙烯基的含有乙烯基单体等的特殊类型。作为缩水甘 油醚类环氧树脂的乙烯基酯树脂，例如，有双酚类、酚醛清漆类、溴化双酚 类等，作为特殊的乙烯基酯树脂，有乙烯基酯聚氨酯类、异氰尿酸乙烯酯类、 侧链乙烯基酯类等。
酚醛树脂是以酚类和甲醛类为原料缩聚而得到的，有可溶酚醛树脂型和 酚醛清漆型。
作为热固性聚酰亚胺树脂，例如，有马来酸类聚酰亚胺、例如聚马来酰 亚胺、聚氨基双马来酰亚胺、双马来酰亚胺·O，O’-二烯丙基双酚A树脂、双 马来酰亚胺·三嗪树脂等，另外，还有4-降冰片烯-1，2-二羧酸改性聚酰亚胺、 以及乙炔末端聚酰亚胺等。
另外，上述活性光线固化型树脂的一部分也可以作为热固性树脂使用。
作为加热方法，没有特别限制，优选使用加热板、加热辊、加热盖、吹 入热风等方法。作为加热温度，根据使用的热固性树脂的种类而不能一概决 定，但优选不会对透明基体材料带来热变性等影响的温度范围，优选 30～200℃，更加优选50～120℃，特别优选70～100℃。
接着，对本发明的实施方式涉及的光学膜的制造方法中包含的洗净工序 进行说明。该洗净工序除了对上述树脂膜基体材料适用以外，也适用于形成 硬涂层后的光学膜。
[第1种实施方式]
首先，对本发明的第1种实施方式涉及的光学膜的洗净方法进行说明。 在第1种实施方式涉及的光学膜的制造方法中含有的洗净工序中，对树脂膜 基体材料喷涂干冰喷射材料，从而除去树脂膜基体材料表面的附着物。
在该实施方式涉及的洗净工序中，对上述溶液流延制膜法或熔融流延制 膜法制膜的树脂膜基体材料的至少1个面喷涂喷射材料，从而除去附着在树 脂膜基体材料表面的附着物。喷射材料可以通过将在常温常压下为气体或液 体的物质冷却固体化来制作。例如，通过将二氧化碳冷却固体化来制作干冰 通过破碎机将该干冰粉碎，或者将用造粒机暂时作成颗粒状的物质粉碎来制 作干冰粒，并将该干冰粒作为喷射材料。然后，通过压缩空气从喷枪或喷射 喷嘴将该喷射材料喷涂到树脂膜基体材料的表面。该包含干冰的喷射材料可 以通过已知的干冰喷射装置来制作。另外，压缩空气可以作成露点为-50℃ 左右。由于干冰的温度为-78℃左右，因此，可以用于防止树脂膜基体材料 表面的结露。
例如，制造树脂膜基体材料并使膜厚度为30～150μm。使用干冰粒子作 为喷射材料时，使粒子的平均粒径为φ1μm～φ15mm。使用颗粒状的物质作 为喷射材料时，使粒径为φ3mm左右，长度为1mm～10mm。另外，以不会 对树脂膜基体材料的表面带来损伤的速度(压力)将干冰喷射材料喷涂到树 脂膜基体材料的表面。使喷射材料的喷涂速度为例如不足100m/sec来喷涂 到树脂膜基体材料表面。另外，使喷涂的空气压力为例如3.5kg/cm2来喷涂 到树脂膜基体材料表面。该喷涂的速度和压力可根据树脂膜基体材料的材料 适当改变。为硬的树脂膜基体材料时，即使加快喷涂的速度(即使提高压力) 也难以对表面带来损伤，但由于越是柔软的树脂膜基体材料越容易对表面带 来损伤，因此，有必要减慢喷涂的速度(降低压力)。
另外，在树脂膜基体材料上喷涂干冰喷射材料后，在干冰喷射材料升华 的温度以及压力下喷涂喷射材料。例如，通过在常温常压下将喷射材料喷涂 到树脂膜基体材料上，由于喷涂到树脂膜基体材料上之后的喷射材料升华而 成为气体，因此，在树脂膜基体材料的表面不会残存喷射材料。
另外，树脂膜基体材料的膜厚度、喷射材料的尺寸和形状并不限定于上 述的值和形状。对应于附着物的大小或粘附力的强度，通过使干冰喷射材料 的大小、喷涂速度或喷涂压力等在不使树脂膜基体材料表面损伤的范围内变 化，可以充分地除去附着物。
另外，也可以在从喷枪或喷射喷嘴喷出干冰喷射材料到喷涂到树脂膜基 体材料上这一期间的空气中，控制该干冰喷射材料的大小。由于在常温常压 下干冰喷射材料升华，因此，固体化的喷射材料变小。因此，从喷枪或喷射 喷嘴到树脂膜基体材料的距离越长，到达树脂膜基体材料的喷射材料的大小 就变得越小。这样，通过改变从喷枪或喷射喷嘴到树脂膜基体材料的距离， 可以改变到达光学膜的喷射材料的大小，因此，通过改变距离控制喷射材料 的大小，可以符合附着物的大小或粘附力的强度来进行除去(洗净)。
例如，在通过溶液流延制膜法制作树脂膜基体材料时，喷涂干冰喷射材 料的时机是，在图1所示的干燥装置5和卷取辊7之间设置干冰喷射装置， 通过干燥装置5蒸发溶剂，并通过卷取辊7在卷取前将干冰喷射材料喷涂到 树脂膜基体材料上，从而除去附着物。
如果将上述干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料表面上，可以通过该喷 涂的冲击力除去附着在表面的附着物。另外，由于通过干冰喷射材料使树脂 膜基体材料表面急剧冷却，由于该急剧的温度变化，附着物变得容易被除去。 这样，通过喷涂干冰喷射材料，由于其冲击力和急剧的温度变化，可以充分 地除去表面的附着物。
另外，为了通过现有技术中涉及的粘附式网板清洁器除去树脂膜基体材 料的附着物，有必要提高粘附力，因此，在从粘附式网板清洁器上剥离树脂 膜基体材料时，对树脂膜基体材料施加力量过大，树脂膜基体材料变得容易 变形。与此相反，按照本实施方式涉及的洗净方法，由于通过喷涂干冰喷射 材料来除去附着物，没有必要通过粘附力除去附着物，可以不使树脂膜基体 材料变形地除去附着物。由此，可以维持树脂膜基体材料的平面性地除去附 着物。
另外，通过现有技术中涉及的刷式网板清洁器刮落树脂膜基体材料的附 着物时，为了充分地除去附着物，有必要施加力来刮落，容易对树脂膜基体 材料表面带来损伤。另外，不能充分地除去附着力强的杂质或具有粘附性的 杂质，为了除去这些杂质，有必要进一步施加力来刮落，变得更加容易带来 损伤。与此相反，按照本实施方式涉及的洗净方法，通过喷涂干冰喷射材料， 可以充分地除去附着力强的杂质或具有粘附性的杂质，另外，在喷射材料冲 击树脂膜基体材料时，由于喷射材料破碎，难以使树脂膜基体材料表面损伤。 因此，与现有技术相比，采用本实施方式涉及的洗净方法时，可以不使树脂 膜基体材料表面受到损伤地除去附着物。
此外，在树脂膜基体材料表面，有时在膜中含有的添加剂渗出。该渗出 如果在树脂膜基体材料表面是不均一的，在树脂膜基体材料上通过涂布形成 硬涂层或防反射层等时，有时可以得到耐擦伤性弱的部分，其有时作为斑点 表现出来。按照本实施方式涉及的洗净方法，由于可以除去部分地附着在树 脂膜基体材料表面的附着物而变得均一，因此，可以降低耐擦伤性斑。
如上所述，按照本实施方式涉及的洗净方法，可以维持平面性、不对表 面带来损伤、降低耐擦伤性斑地充分地除去树脂膜基体材料的附着物，因此 可以提供在大画面显示装置中所要求的高品质的光学膜。
[第2种实施方式]
接着，参照图2对本发明的第2种实施方式涉及的光学膜的洗净方法进 行说明。图2是用于说明本发明的第2种实施方式涉及的光学膜的制造和除 去(洗净)工序的图。在第2种实施方式中，在通过溶液流延制膜法或熔融 流延制膜法制膜的树脂膜基体材料上形成硬涂层，并对该硬涂层喷涂干冰喷 射材料，从而除去硬涂层表面的附着物。
例如，通过紫外线固化树脂形成硬涂层时，如图2所示，首先在第1喷 射部11将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料F上，除去附着在表面的附 着物。该树脂膜基体材料F是用上述溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜 的膜。这样，在涂布部12涂布紫外线固化树脂层之前，除去附着在树脂膜 基体材料F表面的附着物。通过第1喷射部11喷涂后，在涂布部12将紫外 线固化树脂组合物涂布液涂布到树脂膜基体材料F上。然后，用干燥器13 干燥，使溶剂蒸发，在照射部14通过对硬涂层照射紫外线，使硬涂层固化， 将光学膜卷在辊10上。干冰喷射材料的喷涂条件与第1种实施方式中的喷 涂条件相同。
这样，在涂布紫外线固化树脂之前通过由干冰喷射材料除去树脂膜基体 材料表面的附着物，可以良好地形成硬涂层。
另外，固化硬涂层后，在第2喷射部15将干冰喷射材料喷涂到硬涂层 上，除去附着在表面的附着物，然后，也可以将光学膜卷在辊10上。干冰 喷射材料的喷涂条件与第1种实施方式中的喷涂条件相同。另外，使用热固 性树脂作为硬涂层时，通过加热处理使之固化，在树脂膜基体材料F上形成 硬涂层，然后，通过第2喷射部15喷射干冰喷射材料，除去附着物。
这样，在形成硬涂层后，通过第2喷射部15喷涂干冰喷射材料，也可 以得到与第1种实施方式几乎相同的效果。另外，通过与在第1喷射部的喷 涂组合，具有更好的效果。即，如果将干冰喷射材料喷涂到硬涂层表面，可 以通过该喷涂的冲击力除去附着在表面的附着物。另外，由于通过干冰喷射 材料使硬涂层表面急剧冷却，由于该急剧的温度变化，附着物变得容易被除 去。这样，通过喷涂干冰喷射材料，由于其冲击力和急剧的温度变化，可以 充分地除去表面的附着物。
另外，由于干冰在常温常压下升华，喷射材料在硬涂层表面不会残留。 此外，由于使用干冰喷射材料，可以不使形成了硬涂层的光学膜变形地除去 附着物，因此，可以维持光学膜的平面性。另外，按照本实施方式涉及的洗 净方法，由于不必如现有技术中涉及的刷式网板清洁器那样刮落附着物，因 此，可以不使硬涂层受到损伤地除去附着物。另外，按照本实施方式涉及的 洗净方法，由于可以除去部分地附着在树脂膜基体材料表面的附着物而变得 均一，因此，与现有技术涉及的洗净方法相比，可以降低耐擦伤斑。
如上所述，按照本实施方式涉及的洗净方法，可以维持平面性、不对表 面带来损伤、降低耐擦伤性斑地充分地除去树脂膜基体材料的附着物，因此 可以提供在大画面显示装置中所要求的高品质的光学膜。
另外，在上述第1和第2种实施方式中，可以从一侧的面通过支持部件 支持光学膜，并对被支持的相反一侧的面喷涂喷射材料。例如，使光学膜接 触辊部件，并在此状态下对接触的面的相反侧的面喷涂喷射材料。另外，将 光学膜放在带部件上并对带部件的相反侧的面喷涂喷射材料。由于光学膜通 过支持部件被支撑，由喷射材料带来的力高效地传递到光学膜的表面。由此， 可以效率良好地除去附着在光学膜表面的附着物。另外，由于用支持部件支 持光学膜，可以使光学膜保持平面。
另外，如果从与光学膜行进方向相反的方向喷涂干冰喷射材料，喷射材 料的力高效地传递到光学膜的表面，因此，可以更加容易地除去附着物。例 如，在图1中，在使树脂膜基体材料沿箭头A的方向移动的状态下，从与该 移动方向(箭头A的方向)相反的方向(箭头A的相反方向)将干冰喷射 材料喷涂到树脂膜基体材料上。另外，在图2中，在使形成了硬涂层的树脂 膜基体材料沿箭头B的方向移动的状态下，从与该移动方向(箭头B的方 向)相反的方向(箭头B的相反方向)将干冰喷射材料喷涂到硬涂层表面上。
这样，通过从斜的方向对光学膜喷涂干冰喷射材料，附着物变得容易从光学 膜表面剥离，可以容易地除去附着物。特别是，如果从与光学膜的行进方向 相反的方向喷涂干冰喷射材料，可以效率良好地除去附着物。
另外，为了防止光学膜表面的结露，使光学膜的温度为室温或室温以上。 例如，使氛围气体的露点为10℃或10℃以下，更加优选不足0℃，使光学膜 的表面温度为20℃～120℃。另外，对于通过熔融流延制膜法制作的树脂膜， 有必要维持不熔融的温度。这样，通过使光学膜的表面温度为20℃～120℃， 在喷涂干冰喷射材料时，可以防止光学膜的温度降低，从而可以防止结露。
具体地，在将干冰喷射材料喷涂到光学膜上之前，通过干燥器对光学膜 吹入热风，维持光学膜的表面温度为20℃～120℃。
另外，作为其它的手段，还可以在将干冰喷射材料喷涂到光学膜上之前， 通过加热输送光学膜的辊部件或带部件等支持部件，从而加热与该支持部件 邻接的光学膜。例如，通过比光学膜的表面温度高温的支持部件加热光学膜， 调整支持部件的温度以使光学膜的表面温度为20℃～120℃。由此，可以防止 光学膜过于冷却，在喷涂干冰喷射材料的工序以及其后的工序中，可以防止 对光学膜的结露。作为加热支持部件的方法，可以在辊部件内流通温水等， 也可以使用电控制的夹套辊作为辊部件。
另外，由于存在通过干冰被冷却而产生结露的危险，因此，优选在喷涂 干冰喷射材料之前、喷涂中、喷涂后等，降低氛围气体的露点。例如，希望 将露点降低到10℃或10℃以下，更加优选为不足0℃。具体地，喷涂处理在 容器内等进行，使升华的二氧化碳气体或氮气等充满该容器内，降低露点。 另外，也可以使例如露点为-60℃的干燥空气充满容器内，在该环境下将干 冰喷射材料喷涂到光学膜上。
另外，可以在喷涂喷射材料的喷射喷嘴上设置抽吸喷嘴，用该抽吸喷嘴 吸入除去的附着物，从光学膜表面除去附着物。如果通过喷射材料从光学膜 上除去附着物，该附着物将漂浮在光学膜的周围。如果放置这样的状态，则 有附着物再次附着在光学膜上的危险，存在光学膜被污染的危险。将通过这 样的喷射材料除去的附着物抽吸并迅速地排出，由此，可以确实地除去飞舞 在光学膜周围的附着物。由此，可以防止通过喷射材料除去的附着物再次附 着在光学膜上。
例如，如图3(a)所示，对输送辊22上的光学膜F倾斜地设置喷射喷 嘴20，从斜的方向将喷射材料喷涂到光学膜F上来除去附着物时，在该喷 涂的相反一侧设置抽吸喷嘴21，将通过喷射材料的喷涂从光学膜F上剥离 的附着物通过抽吸喷嘴21抽吸并迅速地排出。
另外，如图3(b)所示，还可以通过包围喷射喷嘴20的周围来设置抽 吸喷嘴21，包围光学膜F上喷涂喷射材料的部分的周围地设置抽吸喷嘴21， 抽吸被剥离的附着物并迅速地排出。喷射材料升华时产生的风压由于对喷射 材料喷涂的部分的所有方向产生，因此，通过用抽吸喷嘴21包围喷涂的部 分，可以抽吸在周围的氛围气体中飞舞的附着物并迅速地排出。
另外，为了防止通过喷涂干冰喷射材料而除去的附着物再次附着在光学 膜的表面上，可以使用除电装置一边对光学膜表面进行除电一边将干冰喷射 材料喷涂到表面上。另外，也可以在喷涂干冰喷射材料之前进行除电。例如， 使喷涂干冰喷射材料之后的光学膜的带电量为1[kV]或1[kV]以下地来决定 除电的条件，进行除电。通过除电到带电量为1[kV]或1[kV]以下，可以防止 除去的附着物再次附着在光学膜上，另外，还可以防止氛围气体中的灰尘等 附着到光学膜上。作为具体的手段，在喷涂干冰喷射材料的喷射喷嘴内设置 离子发生用的电极，喷涂喷射材料的同时对光学膜表面进行除电。
另外，可以喷涂干冰喷射材料从光学膜的表面除去附着物之后，通过已 知的清洗方法进一步将光学膜洗净。作为已知的清洗方法，可以举出，例如， 空气式网版清洁器、粘附式网版清洁器、或刷式网版清洁器等。
另外，在光学膜表面喷涂干冰喷射材料时，可以在密封的容器内存入光 学膜，将该容器内比外部减压下喷涂干冰喷射材料。例如，比容器外部减压 10Pa左右。通过在这样的减压下进行干冰喷射材料的喷涂，可以防止由喷涂 除去的附着物再次附着在光学膜表面。另外，即使减压10Pa左右，干冰喷 射材料也升华成为气体，因此，不会损害干冰喷射法的效果。
另外，优选通过干冰喷射材料除去附着物之后，再洗净光学膜。例如， 在加入水的水槽中浸渍通过干冰喷射材料洗净后的光学膜，除去残存在光学 膜表面的附着物。另外，如果使用洗净剂洗净光学膜，可以更加有效地除去 残存的附着物，还可以高速地喷涂洗净液到光学膜上来除去残存的附着物。 另外，通过使用超声波洗净器或超声波发生器对光学膜照射超声波，可以有 效地除去残存的附着物。另外，代替洗净，还可以进行皂化。另外，还可以 将洗净剂喷涂到放置在带部件上输送的状态的光学膜或卷在辊部件的状态 的光学膜上来除去残存的附着物。该洗净剂中使用例如，水或在水中添加了 活性剂等的物质。使用洗净剂除去残存在光学膜上的附着物之后，水洗光学 膜，然后进行干燥。此外，洗净液通过过滤器，以没有杂质的状态使用，洗 净后，干燥光学膜上的洗净液。
另外，还可以分多次将干冰喷射材料喷涂到光学膜上。例如，设置多个 干冰喷射装置，由各个干冰喷射装置将相同粒径或不同大小粒径的干冰喷射 材料喷涂到光学膜上。干冰喷射装置由于对生成的干冰喷射材料的量有限 度，因此，当要使用的干冰喷射材料的量多时，可以设置多个干冰喷射装置 进行处理。即，如果想要只设置1个干冰喷射装置进行处理，则存在干冰喷 射材料的生成量不足，有不能良好地除去附着物的危险。因此，通过设置多 个干冰喷射装置，分多次喷涂干冰喷射材料，可以充分地除去附着物。
实施例
接着，对本发明的实施方式中涉及的光学膜的洗净方法的具体的实施例 进行说明。
[实施例1]
首先，参照图4所示的表对实施例1进行说明。在实施例1中，在通过 上述溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜的树脂膜基体材料的表面，以下 述所示的条件喷涂干冰喷射材料，除去树脂膜基体材料表面的附着物。该喷 涂后，在树脂膜基体材料上涂设硬涂层，用干燥器干燥后，固化形成硬涂层。 而且，在形成硬涂层后，对平面性、点缺陷(附着物故障)以及损伤故障进 行评价。
<干冰喷射条件>
干冰的形状和大小：平均粒径φ3×2mm的颗粒状喷射材料
供给空气压力：3.5kg/cm2
在该条件下将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料表面除去附着物后， 形成下述所示的硬涂层。而且，在形成硬涂层后，对平面性、点缺陷(附着 物故障)以及损伤故障进行评价。
[硬涂层的制作]
在上述所示的干冰喷射条件下，在宽1.3m、厚80μm、长度2000m的长 的树脂膜基体材料的表面喷涂干冰喷射材料，除去树脂膜基体材料表面的附 着物。然后，用孔径0.4μm的聚丙烯制的过滤器过滤下述硬涂层(紫外线固 化树脂层)用涂布液，调整硬涂层用涂布液，通过微凹版涂布机将其涂布， 在90℃下干燥后，使用紫外线灯，以照射部的照度为100mW/cm2、照射量 为0.1J/cm2使涂布层固化，形成厚度10μm的硬涂层。
<硬涂层用涂布液>
二季戊四醇六丙烯酸酯：100重量份
光反应引发剂[イルガキユア184(チバスペシヤルテイケミカルズ(株) 制造)]： 5重量份
乙酸乙酯： 120重量份
丙二醇单甲醚： 120重量份
硅类表面活性剂(BYK-307
(ビツクケミ一ジヤパン公司制造)：0.4重量份
[比较例]
以下举出对于该实施例1的比较例(现有技术)。
比较例1：通过粘附式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物， 然后形成硬涂层。
比较例2：通过刷式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物，然 后形成硬涂层。
比较例3：不除去树脂膜基体材料表面的附着物，形成硬涂层。
在图4中，例1～例9表示在该实施例中的附着物除去的结果。在例1～ 例9中，在通过上述的溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制膜的包含三乙酸 纤维素(TAC膜)的树脂膜基体材料的表面喷涂干冰喷射材料，除去树脂膜 基体材料表面的附着物。另外，在树脂膜基体材料中使用了コニカミノルタ オプト制造的TAC膜KC8UX。另外，在比较例1～比较例3(现有技术)中， 也使用了包含三乙酸纤维素膜(TAC膜)的树脂膜基体材料。
对于图4(a)的条件A～条件I的详细情况，示于图4(b)中。例如， 例1是按照条件A除去的结果，如图4(b)所示，是将氛围气体的温度设 定为20℃，将树脂膜基体材料(支持体)的温度设定为20℃，氛围气体的 露点为不足0℃，将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料上，然后，形成硬 涂层，进行评价的结果。另外，例如，例5是按照条件E除去的结果，如图 4(b)所示，是以通过温度为30℃、直径为φ500mm的辊部件(支持体) 支持的状态，将氛围气体的温度设定为30℃，将树脂膜基体材料(支持体) 的温度设定为30℃，氛围气体的露点为不足0℃，通过除电装置进行除电， 并设置抽吸喷嘴进行抽吸，将干冰喷射材料喷涂到树脂膜基体材料表面，然 后，形成硬涂层，进行评价的结果。对其他的例子，也按照图4(a)、(b) 所示的条件进行除去(洗净)。
<平面性的评价>
平面性的评价使用激光位移仪(キ一エンス(株)制造，型号：LT-8100， 分解能：0.2μm)。用激光位移仪在形成了上述硬涂层的光学膜的宽度方向进 行扫描，测定硬涂层表面的细小的突起，评价光学膜的平面性。为了评价平 面性，将光学膜放在平坦并且水平的台子上，并用胶带将光学膜的宽度的两 端固定在台子上。然后，在与台子平行设置的移动轨道(シグマ光机公司制 造)上设置测定照相机，并使照相机镜头和光学膜的间隔为25mm，以移动 速度为5cm/min进行扫描，测定突起。为了观察膜本身的弯曲等变形，从设 置了硬涂层的面的相反侧的面进行测定。◎：由光学膜的变形引起的凹凸的 大小不足0.5μm、○：由光学膜的变形引起的凹凸的大小为0.5μm或0.5μm 以上但不足1.0μm、△：由光学膜的变形引起的凹凸的大小为1.0μm或1.0μm 以上但不足3.0μm、×：由光学膜的变形引起的凹凸的大小为3.0μm或3.0μm 以上。
如图4(a)所示，在例1～例9(实施例)中，达到「○」或「◎」。另 一方面，比较例1为「×」、比较例2为「△」、比较例3为「◎」。从该结 果可知，如比较例1、2，通过粘附式网版清洁器或刷式网版清洁器进行附着 物除去时，则平面性受到损害。与此相反，可知在本发明的实施例中，即使 喷涂干冰喷射材料进行附着物除去，也不会损害平面性，从而可以制造良好 的光学膜。
<点缺陷附着物故障检查>
从形成了上述硬涂层的光学膜切出宽100cm、长100cm大小的试样(光 学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根50W的荧光灯，在 距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角度照射光。 然后，用该荧光灯照射试样(光学膜)的硬涂层，计数用目视可以确认的 100μm或100μm以上的点缺陷(附着物故障)。
如图4(a)所示，例5～例9(实施例)为0～1个/cm2。另外可知，在例 1～例4(实施例)中，与比较例1～比较例3相比，附着物减少。由此结果可 知，在比较例1、2中，不能充分地完全除去附着物，但按照本发明，可以 充分地除去附着物。
<损伤故障检查>
从形成了上述硬涂层的光学膜切出宽100cm、长10cm大小的试样(光 学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根50W的荧光灯，在 距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角度照射光。 然后，用该荧光灯照射试样(光学膜)的硬涂层，计数用目视可以确认的损 伤缺陷(树脂膜基体材料的损伤)。◎：损伤数为0～1处/m2、○：损伤数为 2～4处/m2、△：损伤数为5～10处/m2、×：损伤数为10处/m2或10处/m2 以上。
如图4(a)的表所示，例1～例9(实施例)全部为「◎」。另一方面， 比较例1为「○」、比较例2为「×」。由该结果可知，比较例1、2中，有 对光学膜表面带来损伤的可能性，存在不能制造良好的光学膜的危险，但按 照本发明，可以不对光学膜表面带来损伤地充分地除去附着物。
归纳上述的平面性评价、点缺陷(附着物故障)检查以及损伤检查的结 果可知，比较例1～3不能维持平面性、或对表面带来损伤，另外，不能充分 地除去附着物，但本发明的实施例，可以维持光学膜的平面性、并不对表面 带来损伤地充分地除去表面的附着物。因此，由于本发明的实施例涉及的洗 净方法可以制造良好的光学膜，因此，可以提供大画面显示装置所要求的高 品质的光学膜。
[实施例2]
接着，参照图5对实施例2进行说明。在该实施例2中，用实施例1形 成硬涂层后，在该硬涂层的表面喷涂干冰喷射材料，除去硬涂层表面的附着 物。然后，在硬涂层上形成下述所示的防反射层。然后，在形成防反射层之 后，对平面性、点缺陷(附着物故障)以及耐擦伤性斑进行评价。干冰喷射 的条件与实施例1中的条件相同。
[防反射层的制作]
在固化的硬涂层上通过棒涂机涂布下述中折射率层用涂布液，在70℃ 下干燥后，照射紫外线使涂布层固化，形成中折射率层(折射率为1.72，膜 厚度85nm)。通过棒涂机在其上涂布下述高折射率层用涂布液，在70℃下干 燥后，照射紫外线使涂布层固化，形成高折射率层(折射率为1.9，膜厚度 68nm)。再通过棒涂机在其上涂布下述低折射率层用涂布液，在70℃下使之 干燥后，通过热处理固化，形成低折射率层(折射率为1.42，膜厚度100nm)， 制作可见光的反射率为0.5％或0.5％以下的防反射膜。
<中折射率层/高折射率层/低折射率层的制作>(二氧化钛分散物的配 制)
通过砂磨机分散30质量份二氧化钛(一次粒子质量平均粒径：50nm， 折射率：2.70)、4.5质量份阴离子性二丙烯酸酯单体(PM21，日本化药(株) 制造)、0.3质量份阳离子性甲基丙烯酸酯单体(DMAEA，兴人(株)制造) 以及65.2质量份甲乙酮，配制二氧化钛分散物。
(中折射率层用涂布液的配制)
在151.9g环己酮和37.0g甲乙酮中溶解0.14g光聚合引发剂(イルガキ ユア907，チバガイギ一公司制造)以及0.04g光增感剂(カヤキユア一DETX， 日本化药(株)制造)。再加入6.1g上述的二氧化钛分散物和2.4g二季戊四 醇五丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混和物(DPHA，日本化药(株) 制造)，在室温下搅拌30分钟后，用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器过滤，配 制中折射率层用涂布液。将该涂布液涂布在形成了硬涂层的光学膜上，干燥， 测定紫外线固化后的折射率时，得到折射率为1.72的中折射率层。
(高折射率层用涂布液的配制)
在1152.8g环己酮和37.2g甲乙酮中溶解0.06g光聚合引发剂(イルガ キユア907，チバガイギ一公司制造)以及0.02g光增感剂(カヤキユア一 DETX，日本化药(株)制造)。再使上述的二氧化钛分散物和二季戊四醇五 丙烯酸酯和二季戊四醇六丙烯酸酯的混和物(DPHA，日本化药(株)制造) 的二氧化钛分散物的比率增加，调节以达到高折射率层的折射率，在室温下 搅拌30分钟后，用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器过滤，配制高折射率层用 涂布液。将该涂布液涂布在形成了硬涂层的光学膜上，干燥，测定紫外线固 化后的折射率时，得到折射率为1.9的高折射率层。
(低折射率层用涂布液的配制)
将下述混和物在室温下搅拌20分钟，用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器 过滤，配制低折射率层用涂布液。使用棒涂机将其涂布并使干燥膜厚为0.1μm (折射率n＝1.42)，在120℃的热风式干燥机中进行30分钟的加热处理，形 成折射率为1.42的低折射率层。
<低折射率层用涂布液>
含有含氟类共聚物(具有聚二甲基硅氧烷单元的氟代烯烃/乙烯基醚共 聚物)的涂料(固体成分3％)(JSR(株)制造，JN-7215)：30重量份
胶体二氧化硅分散液(平均一次粒径为50nm，固体成分15％，异丙醇 分散液)：1.5重量份
1-甲氧基-2-丙醇：6重量份
在此，对图5的表中的除去方式、条件、以及除去的实施时机进行说明。 在例1(实施例)中，只使用干冰喷射材料进行附着物的除去。该除去的实 施时机是，在树脂膜基体材料上涂布硬涂层，固化形成后，将干冰喷射材料 喷涂到硬涂层上，进行附着物的除去。附着物除去后，在硬涂层上形成上述 防反射层。
在例2(实施例)中，将干冰喷射材料喷涂到硬涂层上后，通过空气式 网板清洁器进一步洗净硬涂层。该除去的实施时机与例1相同。除去附着物 后，在硬涂层上形成上述防反射层。
在例3(实施例)中，与实施例2同样地，使用了干冰喷射材料和空气 式网板清洁器。除去的实施时机是，对形成硬涂层前的树脂膜基体材料喷涂 干冰喷射材料，另外，在形成硬涂层后，对该硬涂层也喷涂干冰喷射材料。 除去附着物后，在硬涂层上形成上述防反射层。
在例4(实施例)中，将干冰喷射材料喷涂到硬涂层上后，通过粘附式 网板清洁器进一步洗净硬涂层。该除去的实施时机与例1、2相同。除去附 着物后，在硬涂层上形成上述防反射层。
在例5(实施例)中，将干冰喷射材料喷涂到硬涂层上后，通过刷式网 板清洁器进一步洗净硬涂层。该除去的实施时机与例1、2、4相同。除去附 着物后，在硬涂层上形成上述防反射层。
另外，在例1～例5(实施例)中的温度等环境条件，按照图4(b)所 示的条件E。即，用温度为30℃、直径为φ500mm的辊部件支持光学膜， 将氛围气体的温度设定为30℃，将树脂膜基体材料(支持体)的温度设定为 30℃，氛围气体的露点为不足0℃，设置除电装置进行除电，在减压下，将 干冰喷射材料喷涂到硬涂膜上，除去附着物。
[比较例]
以下，举出相对于该实施例2的比较例。
比较例1：通过粘附式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物， 然后形成防反射层。除去的实施时机是在形成硬涂层后实施。
比较例2：通过刷式网板清洁器除去树脂膜基体材料表面的附着物，然 后形成防反射层。除去的实施时机是在形成硬涂层后实施。
比较例3：不除去硬涂层表面的附着物，形成防反射层。
<点缺陷附着物故障检查>
从形成了上述防反射层的光学膜切出宽100cm、长100cm大小的试样 (光学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根50W的荧光灯， 在距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使之能从对着台子45°的角度照射光。 然后，用该荧光灯照射试样(光学膜)的防反射层，计数用目视可以确认的 50μm或50μm以上的点缺陷(附着物故障)。
如图5的表所示，在比较例1～比较例3中，附着物为30～100个/cm2， 例1～例5(实施例)中，附着物为0～6个/cm2。由此结果可知，按照本实施 例，可以充分地除去附着物。
<平面性的评价>
从形成了上述防反射层的光学膜切出宽90cm、长100cm大小的试样(光 学膜)，并将该试样放置在台子上。然后，并排排列5根40W的荧光灯(松 下电器制造FLR40S-EX-D/M)，在距离台子1.5m的高度固定荧光灯，并使 之能从对着台子45°的角度照射光。然后，用该荧光灯照射试样(光学膜) 的防反射层，用眼睛观察防反射层的面，进行所谓「表面凹凸不平」和「折 皱」的评价。◎：5根荧光灯笔直地可以见到、○：荧光灯有的部分看到弯 曲、△：荧光灯整个部分看到弯曲、×：荧光灯弯曲很厉害。
如图5的表所示，例1～例5(实施例)全部为「◎」。比较例1为「×」、 比较例2为「△」、比较例3为「◎」。从该结果可知，如比较例1、2，如果 通过粘附式网版清洁器或刷式网版清洁器进行附着物除去，则平面性受到损 害。与此相反，可知在本发明的实施例中，即使喷涂干冰喷射材料进行附着 物除去，也不会损害平面性，从而可以制造良好的光学膜。
<耐擦伤性斑的评价>
制作100张10cm×10cm的试样片(光学膜)，在23℃、55％RH的环 境下，用#0000的钢丝棉(SW)对各试样片(光学膜)施加200g/cm2的荷 重，擦拭试样片(光学膜)的表面10次。然后，目视测定由于进行10次擦 拭而产生的每1cm宽的损伤的根数，在各试样片(光学膜)中，求出100 处耐擦伤性的测定结果。另外，损伤的条痕数是在施加荷重的部分中损伤的 条痕数最多的部分测定的。◎：不足3条、○：3条或3条以上但不足5条、 △：5条或5条以上但不足10条、×：10条或10条以上但不足15条。
只要是不到10条/cm2，则在实用上没有问题，但优选不到5条/cm2，更 加优选不到3条/cm2。
如图5的表所示，例1～例5(实施例)全部为「◎」。另一方面，比较 例1、2为「×」、比较例3为「△」。从该结果可知，如比较例1～3中，有 耐擦伤性的不均性，容易对光学膜表面带来损伤。与此相反，按照本发明的 实施例，由于耐擦伤性的不均性少，难以使光学膜表面受到损伤，可以制造 良好的光学膜。
归纳上述的点缺陷(附着物故障)、平面性以及耐擦伤性斑的评价结果 可知，比较例1～3不能充分除去附着物，不能维持平面性，由于耐擦伤斑的 不均性而容易受到损伤。与此相反，可知本发明的实施例，可以维持光学膜 的平面性、减少耐擦伤斑的不均性从而不易受到损伤，可以充分地除去附着 物。另外，如果使用通过本发明的实施例涉及的洗净方法除去了附着物的防 反射膜作为偏振片的保护膜，该偏振片可以抑制由于故障引起的收率降低， 并可以提高偏振片的成品率。因此，按照本发明的实施例，可以制造大画面 显示装置所要求的高品质的光学膜。
[实施例3]
接着，对实施例3进行说明。在上述实施例1中，对使用三乙酸纤维素 膜(TAC膜)作为树脂膜基体材料的材料的例子进行说明。在实施例3中， 对使用上述三乙酸纤维素膜(TAC膜)以外的材料作为树脂膜基体材料的材 料的例子进行说明。
在实施例3中，例如，对包含通过溶液流延制膜法或熔融流延制膜法制 膜的聚碳酸酯膜(PC膜)、聚对苯二甲酸乙二醇酯、ア一トン、ゼオノア、 或纤维素羧酸酯膜等、大小为约A4大小的树脂膜基体材料喷涂干冰喷射材 料。作为该喷涂条件，如图4所示的例1～例9，在条件A～条件I的任意的 条件下进行干冰喷射材料的喷涂。例如，设置抽吸喷嘴并且一边进行抽吸一 边喷涂干冰喷射材料，然后，进行平面性的评价、附着物故障的检查以及损 伤故障的检查。其结果，即使是使用上述材料的场合，也可以得到与实施例 1同样的效果。即，与图4所示的比较例1～比较例3(现有技术)相比，可 以维持树脂膜基体材料的平面性、不对表面带来损伤地充分地除去表面的附 着物。因此，在本发明的实施例涉及的洗净方法中，即使是改变树脂膜基体 材料的材料的场合，也可以制造良好的光学膜，从而可以提供大画面显示装 置所要求的高品质的光学膜。