彩色滤光基板及其制造方法

摘要

本发明公开了一种彩色滤光基板的制造方法。提供一基板，并在基板上形成一彩色滤光层。在基板上形成一共通电极层，以覆盖彩色滤光层。在共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸起，而部分遮光层位于彩色滤光层上方，且配向凸起位于彩色滤光层上方。遮光层的材质为负型光刻胶材料，而配向凸起的材质为光刻胶材料，且配向凸起的光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率。此种彩色滤光基板能够降低漏光的现象，因此，显示品质能够改善。

权利要求

1.一种彩色滤光基板的制造方法，包括：

提供一基板，并在该基板上形成一彩色滤光层；

在该基板上形成一共通电极层，以覆盖该彩色滤光层；以及在该共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸起，而部分该遮光层位于该 彩色滤光层上方，且该些配向凸起位于该彩色滤光层上方，其中该遮光层的材 质为负型光刻胶材料，而该些配向凸起的材质为光刻胶材料，且该些配向凸起 的光穿透率小于该彩色滤光层的光穿透率。

2.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，该遮光层 与该些配向凸起为同时形成，且该些配向凸起与该遮光层的材质相同。

3.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，形成该遮 光层与该些配向凸起的步骤包括：在该共通电极层上形成该遮光层；以及

在该共通电极层上形成该些配向凸起，其中该些配向凸起的材质为正型光 刻胶。

4.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，形成该遮 光层与该些配向凸起之后，还包括在该遮光层上形成多个间隔物。

5.如权利要求1所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，该些配向 凸起含有染料或遮光材质。

6.如权利要求5所述的彩色滤光基板的制造方法，其特征在于，该遮光材 质包括氧化钛。

7.一种彩色滤光基板，包括：

一基板；

一彩色滤光层，配置于该基板上；

一共通电极层，配置于该基板上，并覆盖该彩色滤光层；

一遮光层，配置于该共通电极层上，且部分该遮光层位于该彩色滤光层上 方，其中该遮光层的材质为负型光刻胶材料；以及多个配向凸起，配置于该共通电极层上，并位于该彩色滤光层上方，其中 该些配向凸起的材质为光刻胶材料，且该些配向凸起的光穿透率小于该彩色滤 光层的光穿透率。

8.如权利要求7所述的彩色滤光基板，其特征在于，该些配向凸起与该遮 光层的材质相同。

9.如权利要求7所述的彩色滤光基板，其特征在于，该些配向凸起的材质 为正型光刻胶。

10.如权利要求7所述的彩色滤光基板，其特征在于，该些配向凸起含有染 料或遮光材质。

11.如权利要求10所述的彩色滤光基板，其特征在于，该遮光材质包括氧 化钛。

12.如权利要求7所述的彩色滤光基板，其特征在于，还包括多个间隔物， 配置于该遮光层上。

说明书

技术领域

本发明是有关于一种半导体结构及其制造方法，且特别是有关于一种彩色 滤光基板及其制造方法。

背景技术

由于显示器的需求与日俱增，因此业界全力投入相关显示器的发展。其中， 又以阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)因具有优异的显示品质与技术成熟 性，因此长年独占显示器市场。然而，近来由于绿色环保概念的兴起对于其能 源消耗较大与产生辐射量较大的特性，加上产品扁平化空间有限，因此无法满 足市场对于轻、薄、短、小、美以及低消耗功率的市场趋势。因此，具有高画 质、空间利用效率佳、低消耗功率、无辐射等优越特性的薄膜晶体管液晶显示 器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)已逐渐成为市场的 主流。
薄膜晶体管液晶显示器主要由液晶显示面板(LCD pannel)与一背光模组 (back light module)所构成，其中，液晶显示面板主要由薄膜晶体管阵列基板 (thin film transistor array substrate)、彩色滤光基板(color filter substrate)和 配置在两基板之间的液晶层(liquid crystal layer)所构成。此外，背光模组用 以提供此液晶显示面板所需的面光源，以使薄膜晶体管液晶显示器达到显示的 效果。
更详细而言，彩色滤光基板通常由基板、黑矩阵(black matrix，BM)、彩 色滤光层(color filter layer)、共通电极层(common electrode layer)、透明导 电层、配向凸起物以及间隔物(spacer)所构成。其中，彩色滤光层包括绿色 滤光层、蓝色滤光层以及红光滤光层。因此，此种彩色滤光基板需要七道步骤 才能完成。此外，配向凸起物也会造成漏光的现象而降低显示对比。

发明内容

本发明为解决现有技术存在的上述问题而提供一种彩色滤光基板的制造 方法，以改善显示品质。
本发明还提供一种彩色滤光基板，其具有较佳的显示对比。
本发明所提出的一种彩色滤光基板的制造方法，其包括下列步骤。提供一 基板，并在基板上形成一彩色滤光层。在基板上形成一共通电极层，以覆盖彩 色滤光层。在共通电极层上形成一遮光层与多个配向凸起，而部分遮光层位于 彩色滤光层上方，且配向凸起位于彩色滤光层上方。遮光层的材质为负型光刻 胶材料，而配向凸起的材质为光刻胶材料，且配向凸起的光穿透率小于彩色滤 光层的光穿透率。
在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，遮光层与配向凸起为同时形成， 且配向凸起与遮光层的材质相同。
在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，形成遮光层与配向凸起的步骤包 括在共通电极层上形成遮光层。然后，在共通电极层上形成配向凸起，其中配 向凸起的材质为正型光刻胶。
在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，形成遮光层与配向凸起之后，彩 色滤光基板的制造方法还包括在遮光层上形成多个间隔物。
在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，配向凸起含有染料或遮光材质。
在本发明的彩色滤光基板的制造方法中，遮光材质包括氧化钛。
本发明所提出的一种彩色滤光基板，其包括一基板、一彩色滤光层、一共 通电极层、一遮光层、多个配向凸起，其中彩色滤光层配置于基板上。共通电 极层配置于基板上，并覆盖彩色滤光层。遮光层配置于共通电极层上，且部分 遮光层位于彩色滤光层上方，其中遮光层的材质为负型光刻胶材料。配向凸起 配置于共通电极层上，并位于彩色滤光层上方，其中配向凸起的材质为光刻胶 材料，且配向凸起的光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率。
在本发明的彩色滤光基板中，配向凸起与遮光层的材质相同。
在本发明的彩色滤光基板中，配向凸起的材质为正型光刻胶。
在本发明的彩色滤光基板中，配向凸起含有染料或遮光材质。
在本发明的彩色滤光基板中，遮光材质包括氧化钛。
在本发明的彩色滤光基板中，彩色滤光基板更包括多个间隔物，其配置于 遮光层上。
基于上述，本发明采用光穿透率小于彩色滤光层的光穿透率的配向凸起 物，因此相较于现有技术，此种彩色滤光基板能够降低漏光的现象。此外，当 配向凸起物与遮光层为相同材质时，相较于现有技术，此彩色滤光基板所需的 掩模数较少。

附图说明

为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发 明的具体实施方式作详细说明，其中：
图1A至图1D是依照本发明的一实施例的一种彩色滤光基板的制造方法 的剖面图。

具体实施方式

图1A至图1D是依照本发明的一实施例的一种彩色滤光基板的制造方法 的剖面图。请参考图1A，本实施例的彩色滤光基板的制造方法包括下列步骤。 首先，提供一基板110，并在基板110上形成一彩色滤光层120，其中彩色滤 光层120的材质包括光刻胶材料，而形成彩色滤光层120的方法包括曝光制程 与显影制程。
请参考图1B，在基板110上形成一共通电极层130，以覆盖彩色滤光层 120。此外，形成共通电极层130的方法如是溅镀制程。
请参考图1C，在共通电极层130上形成一遮光层140与多个配向凸起150， 且部分遮光层140位于彩色滤光层120上方，且配向凸起150位于彩色滤光层 120上方。此外，遮光层140的材质为负型光刻胶材料，而形成遮光层140的 方式可以是曝光制程以及显影制程。此外，配向凸起150的材质为正型光刻胶 材料或负型光刻胶材料，而形成配向凸起150的方式可以是曝光制程以及显影 制程。
配向凸起150的光穿透率小于彩色滤光层120的光穿透率。换言之，此配 向凸起150具有遮光的效果，以降低漏光。举例而言，配向凸起150含有染料 或遮光材质，而遮光材质可以是氧化钛，因此配向凸起150具有遮光的效果。 当配向凸起150与遮光层140同时形成时，相较于现有技术，本实施例的彩色 滤光基板的制造方法便可减少一道掩模。此时，配向凸起150的材质便是负型 光刻胶材料。然而，在其他实施例中，配向凸起150也可以是正型光刻胶材料。 此时，配向凸起150与遮光层140便分别形成。
请参考图1D，在形成遮光层140与配向凸起150之后，本实施例的彩色 滤光基板的制造方法也可以在遮光层140上形成多个间隔物160。此外，形成 间隔物160的方式可以是曝光制程以及显影制程。然而，本实施例并不限定间 隔物160的材质为光刻胶材料。在其他实施例中，间隔物160也可以是球状间 隔物。至此，大致完成本实施例的彩色滤光基板100的制造。以下将对于此彩 色滤光基板100的细部结构进行详细说明。
请继续参考图1D，本实施例的彩色滤光基板100包括一基板110、一彩色 滤光层120、一共通电极层130、一遮光层140与多个配向凸起150。其中，彩 色滤光层120配置于基板110上。共通电极层130配置于基板110上，并覆盖 彩色滤光层120。遮光层140配置于共通电极层130上，且部分遮光层140位 于彩色滤光层120上方。此外，遮光层140的材质为负型光刻胶材料。配向凸 起150配置于共通电极层130上，并位于彩色滤光层120上方，其中配向凸起 150的材质为光刻胶材料，且配向凸起150的光穿透率小于彩色滤光层120的 光穿透率。因此，配向凸起150具有遮光的功能，以降低漏光。另外，本实施 例的彩色滤光基板100也可以包括间隔物160，其配置于遮光层140上，而间 隔物160用于维持晶穴间距(cell gap)。
更详细而言，配向凸起150的材质可以是正型光刻胶材料或负型光刻胶材 料，且配向凸起150与遮光层140的材质可以是相同。此外，基板110例如是 玻璃基板、石英基板或其他透明基板，而彩色滤光层120的材质例如是光刻胶 材料。另外，共通电极层130的材质可以是铟锡氧化物(Indium Tin Oxide，ITO)、 铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide，IZO)或其他透明金属氧化物。间隔物160的 材质可以是光刻胶材料。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何本 领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的修改和完善， 因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。