一种低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺转让专利

申请号 : CN200810060641.0

文献号 : CN100590896C

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相似专利:

发明人 : 杨德仁孙振华朱鑫汪雷

申请人 : 浙江大学

摘要 :

本发明公开的低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺是在RTP炉中富氧气氛下进行,依次经烘烤、分阶段不同升温速率升温、快速冷却,烧结过程不保温,因此烧结过程短,减小了能耗。该工艺可以在大规模丝印单晶硅太阳电池生产工艺上应用。经过该烧结工艺烧结后得到的电池片的弯曲度小于1mm,电池效率可以达到15%以上。从而能有效减小后续测试和组件封装时的破碎率,降低电池生产成本,有利于太阳电池的发展。

权利要求 :

1.一种低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺,其特征是包括以下步骤: 将印刷有前后电极和铝浆的硅片放入快速热处理炉中,在含氧气体积为22%-50%的富氧空气下,首先在100℃-400℃温度下烘烤40s-120s,随后以10℃-30℃/s的升温速率升温到300℃-650℃,再以50℃/s-120℃/s的升温速率升温到700℃-900℃,随即以40℃/s-120℃/s的速率降温到室温。

2. 根据权利要求1所述的低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺,其特征是所 用的硅片为原始厚度为150—220 pm的单晶硅片。

说明书 :

一种低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺

技术领域

本发明涉及薄片单晶硅太阳电池烧结工艺,特别是低弯曲薄片单晶硅太阳 电池烧结工艺,属于太阳能应用领域。 背景技术
目前,晶体硅仍然是最主要的太阳电池材料,市场份额在90%左右。由于 硅材料供应十分紧张,价格不断上涨,电池生产成本的50%以上来自于硅材料。 减薄硅片是电池生产厂商降低生产成本的主要手段之一,太阳电池用单晶硅片 的厚度已经在200,左右,并正在向150pm或更薄发展。现用的单晶硅太阳 电池的基本生产工艺为:清洗去损伤层、制绒面、扩磷、周边刻蚀,PECVD沉 积SiNx减反射层、丝网印刷前后电极和铝浆、最后是烧结。目前的烧结工艺是 在链式烧结炉中进行,整个烧结过程分烘干段、烧结段和冷却段,每段设定不 同的温度和不同长度。此种烧结工艺,升温速率慢,烧结时基本以恒定速率升 温,且在烧结的最高温度有保温过程。由于硅片厚度的减薄,如果仍然延用现 在的电池片烧结工艺,在烧结过程中,电池片会发生严重弯曲。弯曲的电池片 在后续工艺中容易破碎,降低了成品率,从而也增加了生产成本。对现有的太 阳电池烧结工艺进行改进以减小电池片弯曲,是薄片电池发展的重要方面。 发明内容
本发明的目的是提供一种低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺,以解决薄 片丝印单晶硅太阳电池在烧结过程中出现的弯曲问题,从而提高成品率和降低
电池生产成本。
本发明的低弯曲薄片单晶硅太阳电池烧结工艺,包括以下步骤-将印刷有前后电极和铝浆的硅片放入快速热处理炉(RTP)中,在含氧气体 积为22%—50%的富氧空气下,首先在100。C一40(TC温度下烘烤40s—120s, 随后以10°C—3(TC/s的升温速率升温到300°C—650°C》再以5(TC/s—12(TC/s 的升温速率升温到700°C—卯(TC,随即以40°C/s—120°C/s的速率降温到室温。 上述烧结工艺所用的硅片为原生厚度为150—220拜的单晶硅片。 本发明的有益效果在于:本发明烧结是在RTP炉中富氧气氛下进行,依次 经供烤、分阶段不同升温速率升温、快速冷却,烧结过程不保温,因此烧结过程 短,减小了能耗。该工艺可以在大规模丝印单晶硅太阳电池生产工艺上应用。经 过该烧结工艺烧结后得到的电池片的弯曲度小于lmm,电池效率可以达到15%
3以上。从而能有效减小后续测试和组件封装时的破碎率;降低电池生产成本, 有利于太阳电池的发展。 具体实施方式 实施例1:
将印刷有前后电极和铝浆的硅片放入RTP中烧结,烧结气氛采用含氧气体 积百分含量30%的富氧空气,先在IO(TC下烘烤120s,随后以2(TC/s的升温速 率升温到650°C,再以70°C/s的速率升温到800°C,随即以80°C/s的速率降温到 室温。本例采用的硅片为原生厚度为200拜的单晶硅片,铝浆印刷厚度约为30 拜。烧结得到的12.5cmxl2.5cm的单片单晶硅太阳电池的转换效率为15.3%, 弯曲度为0.9mm。
实施例2:
将印刷有前后电极和铝浆的硅片放入RTP中烧结,烧结气氛釆用含氧气体 积百分含量25%的富氧空气,先在40(TC下烘烤40s,随后以30°C/s的升温速率 升温到450°C,再以120°C/s的速率升温到850°C,随即以120°C/s的速率降温到 室温。本例采用的硅片为原生厚度为18(Vm的单晶硅片,铝浆印刷厚度约为25 pm。烧结后得到的12.5cmxl2.5cm的单片单晶硅太阳电池的转换效率为15.0%, 弯曲度为0.8mm。
实施例3:
将印刷有前后电极和铝浆的硅片放入RTP中烧结,烧结气氛采用含氧气体 积百分含量45%的富氧空气,先在40(TC下烘烤100s,随后以HTC/s的升温速 率升温到300。C,再以100。C/s的速率升温到90(TC,随即以40°C/s的速率降温 到室温。本例采用的硅片为原生厚度为160jim的单晶硅片,铝浆印刷厚度约为 20,。烧结后得到的12.5cmxl2.5cm的单片单晶硅太阳电池的转换效率为15.0 %,弯曲度为0.9mm。
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