自动显影处理机以及使用该处理机的图像形成方法转让专利
申请号 : CN200510067618.0
文献号 : CN100595679C
文献日 : 2010-03-24
发明人 : 阿部洋史
申请人 : 富士胶片株式会社
摘要 :
本发明使用显影部、定影部和水洗用支架部中的至少一个的滚筒的表面以非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下的自动显影处理机，对支持体的厚度为160～225μm的照相感光材料进行处理。使用该自动显影处理机，可以简单地以除去清洁膜中产生的废料。
权利要求 :
1.一种自动显影处理机，其用于对支持体的厚度为160～225μm 的照相感光材料进行处理，其中所述自动显影处理机具有显影部、定影 部和水洗用支架部，所述显影部、所述定影部和所述水洗用支架部分别 设置有用于输送所述感光材料的滚筒，所述显影部、所述定影部和所述 水洗用支架部中的至少一个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为 主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm以下，其中所述非极 性高分子物质为氟树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂或聚碳酸酯树脂。
2.根据权利要求1所记载的自动显影处理机，其中所述水洗用支 架部的至少一个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为主要成分，且 中心线表面粗糙度(Ra)为20μm以下。
3.根据权利要求1所记载的自动显影处理机，其中所述显影部的 滚筒、定影部的滚筒和水洗用支架部的滚筒均以非极性高分子物质作为 主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm以下。
4.根据权利要求1～3任一项所记载的自动显影处理机，其中以所 述非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20 μm以下的滚筒上没有输送用的槽。
5.根据权利要求1所记载的自动显影处理机，其中所述氟树脂为 聚偏二氟乙烯树脂。
6.根据权利要求1～3任一项所记载的自动显影处理机，其中所述 非极性高分子物质为四氟乙烯树脂。
7.一种图像形成方法，其特征在于：使用自动显影处理机，对支 持体的厚度为160～225μm的照相感光材料进行处理，其中所述自动 显影处理机具有分别设置有用于输送感光材料的滚筒的显影部、定影部 和水洗用支架部，所述显影部、所述定影部和所述水洗用支架部中的至 少一个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表 面粗糙度(Ra)为20μm以下，其中所述非极性高分子物质为氟树脂、 聚乙烯树脂、聚丙烯树脂或聚碳酸酯树脂。
8.根据权利要求7所记载的图像形成方法，其中所述照相感光材 料的乳剂面具有平均粒径为10μm以下的消光材料。
9.根据权利要求7或8所记载的图像形成方法，其中所述照相感 光材料在与乳剂面相反侧的面上不具有明胶层。
10.根据权利要求7或8所记载的图像形成方法，其中所述照相感 光材料的影调值在10以上。
11.根据权利要求7所记载的图像形成方法，其中所述氟树脂为聚 偏二氟乙烯树脂。
说明书 :
技术领域
本发明涉及照相感光材料，特别涉及对用于工业用途的光掩模用卤 化银照相感光材料(掩膜)进行显影的自动显影处理机以及使用该处理 机的图像形成方法。
背景技术
近年来，家电制品的小型化、例如移动电话等中的印刷电路板的小 型化正在不断发展中。伴随着印刷电路板的小型化，在基板的表面上形 成的布线图案的精细化也在不断发展。目前，通过使用掩膜(mask film) 制造的印刷电路板的线宽为10～15μm左右的细线来进行。
其中，掩膜是对印刷电路板进行曝光时所使用的图案膜(pattern film)。该图案膜通过AOI机(例如图像制造，FPT-MARVEL等)进 行缺陷检查。由此，为了检查上述10～15μm左右的细线，通常必须 在可以发现5μm左右的缺陷的设置下进行检查。然而，在显影时，附 着的废料经常成为误检测的主要原因，从而成为妨碍正确评价的重要因 素。
作为引起上述妨碍的重要因素的废料，可以列举出例如在自动显影 处理机中的显影部、定影部、水洗支架部中浮游的物质，以及附着在滚 筒上的物质。其主要为水垢和银附着物。该水垢主要是由于细菌腐蚀从 感光材料中溶出的明胶而产生的。
另外，由于光掩模忌避废料，因此用于自动显影处理中的显影液、 定影液和水等事先通过可过滤3μm或以上的废料的过滤器进行清洗过 滤。但是由于该过滤器不能除去细菌，残留在显影液等中的细菌从膜中 溶出使明胶发生腐烂，形成5μm或以上的异物。因此，在现有的自动 显影处理机中，该明胶贮留在设于滚筒表面的槽中。进而，滚筒表面整 体腐烂，经常性地产生水垢，结果引起显影的膜表面受到污染的问题。
另一方面，为了强制性地除去这种污渍，研发出了采用清洁膜(例 如富士照相(株)制造的富士清洁膜)进行清洁的方法。然而对于现有 的自动显影处理机，通常必须要用10片左右的清洁膜。此外，为了完 美地除去该污渍，必须定期地清洗支架，就增高了人工费等。
另外，在对光掩模进行显影时，以前使用的是一般的印刷制版用自 动显影处理机。因此，在使用印刷制版用的自动显影处理机时，该滚筒 可以输送从最窄60μm到最宽175μm的PET基质的感光材料，且在 表面上没有进行用于提升输送力的槽处理。
然而，光掩模的支持体的厚度以175μm或以上为主流，因此废料 会进入为了提升上述输送力而设置的槽中，产生了附着在薄膜表面的问 题。
在特开平6-95335号公报中，公开了如下的一种自动显影机，其 通过多孔的输送滚筒运送感光材料，同时进行显影、定影和水洗的各处 理，具有向被夹持运送在前述多孔输送滚筒中的感光材料赋予处理液的 处理液付与装置，和对附着在前述感光材料上的处理液进行加热的加热 装置。由此，在特开平6-95335号公报中记载了，这种自动显影机器 可以小型化，且处理液的疲劳基本不存在，容易维持管理。
其中，虽然在特开平6-95335号公报中，公开了一种在滚筒表面 上具有多个孔的自动显影处理机，但是关于具体的滚筒表面的粗糙度， 没有任何的记载。而且，也没有任何关于本发明所述的这种水垢的记载。
另一方面，在特开平11-104613号公报中，公开了一种具有如下 特征的防止照相显影清洁水的水垢产生的方法，即在照相显影后的水洗 工序中，自动地向清洗水中供应水垢生成防止剂，自动地搅拌混合，防 止水垢的产生，自动供给之前，开始搅拌并在停止供给后，继续搅拌直 至水垢生成防止剂完全溶解、分散于清洗水中。因此，在特开平11- 104613号公报中记载了，前述水垢防止方法相对于在照相显影后的水洗 工序中使用清洗水的方法，可以有效且经济地防止水垢的产生。
在特开2004-33816号公报中，公开了如下的一种控制系统，其第 1特征在于，向水洗槽水中注入0.01ppm～0.1ppm的臭氧气体，第2特 征在于，以一定时间向水洗槽水中注入0.01ppm～0.1ppm的臭氧气体， 停止注入后，在以注入时间的5倍的时间内进行同样的注入操作，然后 重复该操作，第3特征在于，该控制系统由臭氧生成器、送风泵、注入 控制定时器、注入停止控制定时器构成，通过交替地运行注入控制定时 器和注入停止控制定时器，在用于各种照相用胶片、其它的发光材料用 处理工序、印刷工序等中的水洗水和循环水中，以一定的时间间隔注入 臭氧气体，第4特征在于如下的一种控制系统，在臭氧的注入时间、用 于注入臭氧的送风泵的驱动时间内，当臭氧的注入结束后，延迟用于注 入臭氧的送风泵的驱动时间，该延迟的时间与从本装置到水洗槽的管道 容量相应。由此，特开2004-33816号公报记载了，通过采用前述控制 系统，使用臭氧，可以不对照相胶片和印刷版感光材料产生不良影响， 而适当且容易地对应于水洗槽容量、照相胶片和印刷版感光材料等对象 体进行处理，能够防止照相胶片和印刷版感光材料等的水垢。
然而，特开平11-104613号公报和特开2004-33816号公报是防 止水垢产生的方法，而完全不能对已经产生的水垢进行处理。此外，也 不能对混入了异物的情况进行处理，因此不能根本性地解决问题。
特别是在现有的自动显影处理机的滚筒上，设有输送用的槽，并不 知道解决在该槽部，特别是水垢等容易附着的问题。
其中，掩膜是对印刷电路板进行曝光时所使用的图案膜(pattern film)。该图案膜通过AOI机(例如图像制造，FPT-MARVEL等)进 行缺陷检查。由此，为了检查上述10～15μm左右的细线，通常必须 在可以发现5μm左右的缺陷的设置下进行检查。然而，在显影时，附 着的废料经常成为误检测的主要原因，从而成为妨碍正确评价的重要因 素。
作为引起上述妨碍的重要因素的废料，可以列举出例如在自动显影 处理机中的显影部、定影部、水洗支架部中浮游的物质，以及附着在滚 筒上的物质。其主要为水垢和银附着物。该水垢主要是由于细菌腐蚀从 感光材料中溶出的明胶而产生的。
另外，由于光掩模忌避废料，因此用于自动显影处理中的显影液、 定影液和水等事先通过可过滤3μm或以上的废料的过滤器进行清洗过 滤。但是由于该过滤器不能除去细菌，残留在显影液等中的细菌从膜中 溶出使明胶发生腐烂，形成5μm或以上的异物。因此，在现有的自动 显影处理机中，该明胶贮留在设于滚筒表面的槽中。进而，滚筒表面整 体腐烂，经常性地产生水垢，结果引起显影的膜表面受到污染的问题。
另一方面，为了强制性地除去这种污渍，研发出了采用清洁膜(例 如富士照相(株)制造的富士清洁膜)进行清洁的方法。然而对于现有 的自动显影处理机，通常必须要用10片左右的清洁膜。此外，为了完 美地除去该污渍，必须定期地清洗支架，就增高了人工费等。
另外，在对光掩模进行显影时，以前使用的是一般的印刷制版用自 动显影处理机。因此，在使用印刷制版用的自动显影处理机时，该滚筒 可以输送从最窄60μm到最宽175μm的PET基质的感光材料，且在 表面上没有进行用于提升输送力的槽处理。
然而，光掩模的支持体的厚度以175μm或以上为主流，因此废料 会进入为了提升上述输送力而设置的槽中，产生了附着在薄膜表面的问 题。
在特开平6-95335号公报中，公开了如下的一种自动显影机，其 通过多孔的输送滚筒运送感光材料，同时进行显影、定影和水洗的各处 理，具有向被夹持运送在前述多孔输送滚筒中的感光材料赋予处理液的 处理液付与装置，和对附着在前述感光材料上的处理液进行加热的加热 装置。由此，在特开平6-95335号公报中记载了，这种自动显影机器 可以小型化，且处理液的疲劳基本不存在，容易维持管理。
其中，虽然在特开平6-95335号公报中，公开了一种在滚筒表面 上具有多个孔的自动显影处理机，但是关于具体的滚筒表面的粗糙度， 没有任何的记载。而且，也没有任何关于本发明所述的这种水垢的记载。
另一方面，在特开平11-104613号公报中，公开了一种具有如下 特征的防止照相显影清洁水的水垢产生的方法，即在照相显影后的水洗 工序中，自动地向清洗水中供应水垢生成防止剂，自动地搅拌混合，防 止水垢的产生，自动供给之前，开始搅拌并在停止供给后，继续搅拌直 至水垢生成防止剂完全溶解、分散于清洗水中。因此，在特开平11- 104613号公报中记载了，前述水垢防止方法相对于在照相显影后的水洗 工序中使用清洗水的方法，可以有效且经济地防止水垢的产生。
在特开2004-33816号公报中，公开了如下的一种控制系统，其第 1特征在于，向水洗槽水中注入0.01ppm～0.1ppm的臭氧气体，第2特 征在于，以一定时间向水洗槽水中注入0.01ppm～0.1ppm的臭氧气体， 停止注入后，在以注入时间的5倍的时间内进行同样的注入操作，然后 重复该操作，第3特征在于，该控制系统由臭氧生成器、送风泵、注入 控制定时器、注入停止控制定时器构成，通过交替地运行注入控制定时 器和注入停止控制定时器，在用于各种照相用胶片、其它的发光材料用 处理工序、印刷工序等中的水洗水和循环水中，以一定的时间间隔注入 臭氧气体，第4特征在于如下的一种控制系统，在臭氧的注入时间、用 于注入臭氧的送风泵的驱动时间内，当臭氧的注入结束后，延迟用于注 入臭氧的送风泵的驱动时间，该延迟的时间与从本装置到水洗槽的管道 容量相应。由此，特开2004-33816号公报记载了，通过采用前述控制 系统，使用臭氧，可以不对照相胶片和印刷版感光材料产生不良影响， 而适当且容易地对应于水洗槽容量、照相胶片和印刷版感光材料等对象 体进行处理，能够防止照相胶片和印刷版感光材料等的水垢。
然而，特开平11-104613号公报和特开2004-33816号公报是防 止水垢产生的方法，而完全不能对已经产生的水垢进行处理。此外，也 不能对混入了异物的情况进行处理，因此不能根本性地解决问题。
特别是在现有的自动显影处理机的滚筒上，设有输送用的槽，并不 知道解决在该槽部，特别是水垢等容易附着的问题。
发明内容
本发明是以解决上述问题为目的而提出的，其目的是提供一种可以 简便地通过清洁膜除去产生的废料的自动显影处理机，以便于防止在显 影部、定影部、水洗用支架部浮游的废料附着在滚筒上而污染胶片。
因此，本发明者对于在使用自动显影处理机时，水垢和异物是通过 何种机理附着在滚筒表面和槽部进行了分析，结果发现是水垢钻入滚筒 自身表面的凹陷中进行转印而发生的。
特别是在这种自动显影处理机中，附着在滚筒上的废料主要是从胶 片(感光材料)上析出的明胶。这种明胶的粘合性较强，一旦附着在滚 筒上后难以简单地除去，胶片表面被污染。因此，在本发明中，以不设 置会使明胶附着在滚筒表面上的槽为目的，通过提高滚筒自身的平滑性 来实现。
由此，发明者经过积极的研究发现，通过使滚筒的表面粗糙度达到 20μm或以下，且在滚筒的表面上使用非极性材料，可以改善滚筒的粘 附性。具体地说，发现通过以下的方法可以解决上述问题。
(1)一种自动显影处理机，其用于对支持体的厚度为160～225μ m的照相感光材料进行处理，其中前述自动显影处理机具有显影部、定 影部和水洗用支架部，前述显影部、前述定影部和前述水洗用支架部分 别设置有用于输送前述感光材料的滚筒，前述显影部、前述定影部和前 述水洗用支架部中的至少一个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作 为主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下。
(2)如(1)所记载的自动显影处理机，其中前述水洗部的至少一 个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗 糙度(Ra)为20μm或以下。
(3)如(1)所记载的自动显影处理机，其中前述显影部的滚筒、 定影部的滚筒和水洗用支架部的滚筒均以非极性高分子物质作为主要 成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下。
(4)如(1)～(3)中任一项记载的自动显影处理机，其中以前 述非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20 μm或以下的滚筒上没有输送用的槽。
(5)如(1)～(4)中任一项记载的自动显影处理机，其中前述 非极性高分子物质为氟树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚偏二氟乙烯 树脂或聚碳酸酯树脂。
(6)如(1)～(4)中任一项记载的自动显影处理机，其中前述 非极性高分子物质为四氟乙烯树脂。
(7)一种图像形成方法，其特征在于：使用自动显影处理机，对 支持体的厚度为160～225μm的照相感光材料进行处理，其中所述自 动显影处理机具有分别设置有用于输送感光材料的滚筒的显影部、定影 部和水洗用支架部，前述显影部、定影部和水洗用支架部中的至少一个 的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗糙 度(Ra)为20μm或以下。
(8)如(7)记载的图像形成方法，其中前述照相感光材料的乳剂 面具有平均粒径为10μm或以下的消光材料。
(9)如(7)或(8)记载的图像形成方法，其中前述照相感光材 料在与乳剂面相反侧的面上具有明胶层。
(10)如(7)～(9)中任一项记载的图像形成方法，其中前述照 相感光材料的影调值(tone value)在10或以上。
如果采用本发明的自动显影装置，在显影部、定影部、水洗用支架 部产生的废料难以附着在滚筒上，即使附着也可以在短时间内简单地除 去。进而，即使在滚筒上没有槽，在输送性上没有问题。
其结果是，可以防止掩膜等表面的污染，减轻自动显影处理机的清 洗和清洁处理的负荷，进而在使用AOI机时，可以大幅地减少误检测， 可以对细线用的印刷电路板作出正确的评价。
因此，本发明者对于在使用自动显影处理机时，水垢和异物是通过 何种机理附着在滚筒表面和槽部进行了分析，结果发现是水垢钻入滚筒 自身表面的凹陷中进行转印而发生的。
特别是在这种自动显影处理机中，附着在滚筒上的废料主要是从胶 片(感光材料)上析出的明胶。这种明胶的粘合性较强，一旦附着在滚 筒上后难以简单地除去，胶片表面被污染。因此，在本发明中，以不设 置会使明胶附着在滚筒表面上的槽为目的，通过提高滚筒自身的平滑性 来实现。
由此，发明者经过积极的研究发现，通过使滚筒的表面粗糙度达到 20μm或以下，且在滚筒的表面上使用非极性材料，可以改善滚筒的粘 附性。具体地说，发现通过以下的方法可以解决上述问题。
(1)一种自动显影处理机，其用于对支持体的厚度为160～225μ m的照相感光材料进行处理，其中前述自动显影处理机具有显影部、定 影部和水洗用支架部，前述显影部、前述定影部和前述水洗用支架部分 别设置有用于输送前述感光材料的滚筒，前述显影部、前述定影部和前 述水洗用支架部中的至少一个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作 为主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下。
(2)如(1)所记载的自动显影处理机，其中前述水洗部的至少一 个的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗 糙度(Ra)为20μm或以下。
(3)如(1)所记载的自动显影处理机，其中前述显影部的滚筒、 定影部的滚筒和水洗用支架部的滚筒均以非极性高分子物质作为主要 成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下。
(4)如(1)～(3)中任一项记载的自动显影处理机，其中以前 述非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗糙度(Ra)为20 μm或以下的滚筒上没有输送用的槽。
(5)如(1)～(4)中任一项记载的自动显影处理机，其中前述 非极性高分子物质为氟树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、聚偏二氟乙烯 树脂或聚碳酸酯树脂。
(6)如(1)～(4)中任一项记载的自动显影处理机，其中前述 非极性高分子物质为四氟乙烯树脂。
(7)一种图像形成方法，其特征在于：使用自动显影处理机，对 支持体的厚度为160～225μm的照相感光材料进行处理，其中所述自 动显影处理机具有分别设置有用于输送感光材料的滚筒的显影部、定影 部和水洗用支架部，前述显影部、定影部和水洗用支架部中的至少一个 的滚筒的表面是以非极性高分子物质作为主要成分，且中心线表面粗糙 度(Ra)为20μm或以下。
(8)如(7)记载的图像形成方法，其中前述照相感光材料的乳剂 面具有平均粒径为10μm或以下的消光材料。
(9)如(7)或(8)记载的图像形成方法，其中前述照相感光材 料在与乳剂面相反侧的面上具有明胶层。
(10)如(7)～(9)中任一项记载的图像形成方法，其中前述照 相感光材料的影调值(tone value)在10或以上。
如果采用本发明的自动显影装置，在显影部、定影部、水洗用支架 部产生的废料难以附着在滚筒上，即使附着也可以在短时间内简单地除 去。进而，即使在滚筒上没有槽，在输送性上没有问题。
其结果是，可以防止掩膜等表面的污染，减轻自动显影处理机的清 洗和清洁处理的负荷，进而在使用AOI机时，可以大幅地减少误检测， 可以对细线用的印刷电路板作出正确的评价。
附图说明
图1表示本发明的自动显影处理机的一个示例。
图中，1为显影部、2为定影部、3为水洗用支架部、4为胶片、5 为胶片插入部、6为光阑、7为干燥部、8为明室胶片插入口、9为再水 洗插入口、10为胶片传感器、11为胶片载架。
图中，1为显影部、2为定影部、3为水洗用支架部、4为胶片、5 为胶片插入部、6为光阑、7为干燥部、8为明室胶片插入口、9为再水 洗插入口、10为胶片传感器、11为胶片载架。
具体实施方式
以下对本发明的内容进行详细说明。另外，在本申请说明书中“～” 表示的意义是将其前后的数值作为下限值和上限值，且包含该数值。
图1表示本发明的自动显影处理机的一个示例，分别表示为：1为 显影部，2为定影部，3为水洗用支架部。其中胶片4从胶片插入部5 插入，按照显影部1、定影部2、水洗用支架部3的顺序经过这些部分 后达到光阑6、干燥部7。由此，本发明的自动显影处理机具有上述显 影部、定影部和水洗用支架部，且它们具有的滚筒中的至少1个的滚筒 的表面、优选所有滚筒表面是以非极性高分子物质为主要成分，且中心 线表面粗糙度(Ra)在20μm或以下(以下有时也称为本发明的滚筒)。
通过具有这种结构，可以防止由显影部、定影部、水洗用支架部产 生的废料附着在滚筒和胶片上，进一步地，即使附着也可以在短时间内 简单地除去。
进而，在本实施方式的自动显影处理机中，如图1所示，还可以有 明室胶片插入口8和再水洗插入口9、胶片传感器10和胶片载架11。 当然，没有必要具备所有的这些部件，另一方面，还可以设置这些以外 的部件也是不言而喻的。
设置在显影部、定影部和水洗用支架部的滚筒优选设置成，当从胶 片的侧面看时成为U型、V型、W型或波状的形态，以使显影液、定 影液和水没有遗漏地遍布于胶片表面，其中更优选U型。
另外，图1中的粗箭头表示插入胶片的前进方向。
设置在显影部、定影部和水洗用支架部的滚筒中，当仅对一个部分 采用本发明的滚筒时，优选设置在与乳剂面接触部分的滚筒处。此外， 在显影部、定影部和水洗用支架部中，当仅在任何一部分上设置本发明 的滚筒时，优选设置在水洗部。
设置在显影部、定影部和水洗用支架部上的滚筒数可以根据使用目 的而适宜地决定，在使用掩膜的情况下，优选10～16个。
而且，对于本发明的辊筒，在一对的滚筒中，也可以仅使其中的一 个为本发明的滚筒，另一个为现有的滚筒。
此外，滚筒的直径可以根据显影的胶片的尺寸等而适宜地决定，例 如在使用掩膜的情况下，直径优选20～40mm。此外，成为一对的两个 滚筒的直径可以相同，也可以不同。当滚筒设置成从胶片的侧面看为U 型的情况下，特别优选使设置在胶片的内侧(特别是拐角部)的滚筒的 直径比设在外侧的滚筒的直径更小。此外，在拐角部也可以不设置外侧 的滚筒。
此外，为了使显影液等向胶片的表里两侧浸透，显影部的滚筒的结 构为，可以以沿着输送路线交替地设置在表侧和里侧。
用于显影部的显影液可以根据显影的感光材料的用途和种类而广 泛采用公知的显影液，在使用掩膜的情况下，优选富士显影液ND-1 (富士照相胶片株式会社制造)。
干燥部7上可以设置输送胶片4的滚筒，这时，在垂直方向上优选 设置成交错状。更优选设置对干燥部的胶片4的两面吹送热风的热风供 应部，热风供应部优选夹住胶片4的输送路线并且设置多个。并且更优 选如下的结构，当从恒速干燥区域(将到达表面上残留有水分的胶片的 热量用作蒸发潜热的干燥区域)移至减速干燥区域(胶片表面的水分蒸 发，其水分减少的干燥区域)后，在低温下进行缓和地热风干燥。然后， 经过干燥部的胶片4通过滚筒输送，被胶片载架11容纳。
在本发明的自动显影处理机中，显影部、定影部和水洗用支架部的 滚筒中的至少1个滚筒的表面、优选所有滚筒表面采用非极性高分子。 从而，本发明的滚筒的材质只要其表面以非极性高分子物质为主要成 分，则没有特别的限定。其中，非极性高分子物质是指，不具有永久偶 极子的高分子物质，其中可以含有来自于通常程度的杂质、以及出于技 术上的需要而通常加入的添加剂、稳定剂等中的永久偶极子。
作为滚筒表面的材质，优选以特氟纶(注册商标，杜邦公司制造) 等四氟乙烯树脂为代表的氟树脂、聚乙烯树脂(PE)、聚丙烯树脂(PP)、 聚偏二氟乙烯树脂和聚碳酸酯树脂(PC)，更优选特氟纶(注册商标) 等四氟乙烯树脂、聚乙烯树脂(PE)和聚丙烯树脂(PP)。特别是用于 显影部的滚筒，更优选四氟乙烯树脂(特别是特氟纶)，用于定影部的 滚筒，更优选四氟乙烯树脂(特别是特氟纶)，用于水洗用支架部的滚 筒，更优选四氟乙烯树脂(特别是特氟纶)。这些树脂可以制成薄膜状 而贴在滚筒表面上，也可以涂布在表面上。
进而，上述滚筒的中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下，优 选为3～15μm，更优选为3～10μm。
另外，本发明中所谓的中心线表面粗糙度(Ra)是基于5μm测定 的。
通过采用这种滚筒，例如象明胶这样的粘合性材料难以附着在滚筒 的表面。进而，通过使用多片清洁膜可以简单地清洁废料。
在本发明的自动显影处理机中，可以进一步添加用于防止水垢产生 的水垢防止剂，也可以注入臭氧。作为水垢防止剂，只要在不脱离本发 明的主旨的范围内，没有特别的限定。可以用例如杂酚油、异噻唑酮系 化合物、卤化脂肪族硝基醇和氨基羧酸等。水垢防止剂可以仅使用1种， 也可以组合使用2种或多种。
作为用于本发明的自动显影处理机中的照相感光材料，只要厚度为 160～225μm(优选厚度为178～180μm)，可以广泛地采用公知的材 料。通过采用这种厚度的材料，即使没有像现有产品那样的在滚筒表面 上的槽，也可以避免输送性的问题。进而，通过采用聚酯(优选对苯二 甲酸乙二醇酯)作为支持体的材料，可以进一步提高输送性。
更具体地，作为用于本发明的自动显影处理机的照相感光材料，可 以列举出具有支持体和至少1层卤化银乳剂面的卤化银照相感光材料。 更优选在支持体上具有乳剂面，在与乳剂面相反的一侧具有导电面和基 底面的材料。此外，还优选乳剂面从接近支持体的一侧具有UL层、乳 剂层和保护层的材料。
在上述照相感光材料中，优选含有消光材料，更优选在乳剂面上含 有消光材料，当然，也可以在与乳剂面相反一侧的面上含有消光材料。
消光材料优选平均粒径在10μm或以下，更优选平均粒径为1～10 μm，进一步优选平均粒径为1～9μm，最优选平均粒径为1～5μm。
消光材料的含量优选为25mg/m2。此外，作为消光材料的材质，可 以列举出微粒二氧化硅和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。
此外，作为本发明的照相感光材料中设置的其它层，可以列举出粘 合剂层。其中，作为粘合剂、可以采用明胶、聚合物树脂、纤维素系粘 合剂等，更优选明胶。
但是在与乳剂面成相反侧的面上优选没有明胶层。通过采用这种感 光材料，可以使水垢难以附着在胶片上，因此优选。
进而，本发明的自动显影处理机中使用的感光材料优选影调值在10 或以上。这里的影调值是通过特开2003-280128号公报的0173～0175 号段落所记载的方法测定的。通过采用这种感光材料，使得画质良好且 没有废料附着，因此优选。
作为可以用于本发明的自动显影处理机的照相感光材料，优选采用 记载在例如特开2003-280143号公报和特开2003-208128号公报等中 的材料。
本发明的自动显影处理机可以用于、特别优选用于光掩模用卤化银 照相感光材料。
另外，本发明的自动显影处理机中，通过使用清洁膜，可以简单地 除去水垢等污渍，该清洁膜能适宜地采用可通过本发明的自动显影处理 机来除去水垢等污渍的清洁膜。
优选使用在PET表面上涂设3μm或以下厚度的明胶的清洁膜。
以下通过列举实施例对本发明进行更具体的说明。在以下的实施例 中所示的材料、用量、比例、处理内容、处理顺序等可以在不脱离本发 明的主旨的范围内，适当地进行变更。因此，本发明的范围不受到以下 所示的具体示例的限定。
(实施例1)
对通过AOI机的误检测数的研究
将市售产品的自动显影处理机(富士照相胶片株式会社制造， FG710FK)的显影部、定影部、水洗用支架部中设置的滚筒(12个) 全部取出，装上特氟纶(杜邦公司制造)制的表面粗糙度(Ra)18μm 的滚筒。
对于得到的自动显影处理机，如下述表1所示，使用清洁膜(富士 照相胶片株式会社制造)、感光材料(NIP-R175S(EMNo.673-001)、 富士照相胶片株式会社制造)、评价尺寸：50.8cm×61cm)，测定AOI 机(图像制造，FPT-MARVEL)的误检测数。另外，将评价缺陷设定 为5μm。
(比较例)
使用作为市售产品的自动显影处理机(富士照相胶片株式会社制 造，FG710FK)(没有替换滚筒)，与上述实施例同样地测定误检测数。
上述实施例1和比较例的结果如表1所示。
表1
清洁膜的片数 通常的自动显影处理机 (比较例) 改良的自动显影处理机 (本发明) 1片 450个 300个 2片 400个 100个 5片 300个 50个 10片 200个 50个
如表1所示，在使用本发明的自动显影处理机时，与使用现有的自 动显影处理机的情况相比，误检测数锐减。特别是清洁膜片数为2片时 达到4倍的精确度，清洁膜片数为5片时达到6倍的精确度。
另外，在本发明的自动显影处理机中，尽管没有设置槽，但在输送 性上没有问题。
(实施例2)
在实施例1中，除了将感光材料NIP-R175S(EMNo.673-001) 改变为通过下述方法制成的材料(样品1～8)，其余按照同样的方法进 行。
<制造方法>乳剂A的制造
在本实施例中，记载了用于制造卤化银照相感光材料的乳剂A的制 法。
第1溶液
水 650ml
明胶 20g
氯化钠 3g
1，3-二甲基咪唑烷-2-硫酮 20mg
苯硫磺酸钠 10mg
柠檬酸 0.7g
第2溶液
水 300ml
硝酸银 150g
第3溶液
水 300ml
氯化钠 21g
溴化钾 58g
(NH4)3[RhCl5(H2O)](0.001％、NaCl的20％水溶液) 15ml
用于第3溶液的(NH4)3[RhCl5(H2O)](0.001％)是通过，将 其粉末分别溶解于KCl的20％水溶液、NaCl的20％水溶液中，在40 ℃下加热120分钟而制成的。
向保持为38℃、pH4.5的第1溶液中，一边搅拌一边在20分钟内 分别加入相当于67％的量的第2溶液和第3溶液，形成0.18μm的核 粒子。接着在8分钟后加入下述第4溶液和第5溶液，进而在2分钟内 加入剩余的33％的量的第2溶液和第3溶液，使其生长至0.20μm。再 加入0.15g碘化钾，熟化5分钟完成形成颗粒。
第4溶液
水 100ml
硝酸银 50g
第5溶液
水 100ml
氯化钠 8.6g
溴化钠 19.2g
K4[Fe(CN)6]·3H2O(黄血盐) 20mg
然后，按照通常的方法，通过絮凝法水洗。具体的方法是，将温度 降至35℃，加入3g如下所示的阴离子性沉淀剂-1，用硫酸直到使卤化 银沉淀，降低pH(pH3.2±0.2的范围)。然后除去约2L上层清液(第 一水洗)。再加入2L蒸馏水，加入硫酸直至卤化银沉淀。再次除去2L 上层清液(第二水洗)。再重复进行1次和第二水洗同样的操作(第三 水洗)，完成水洗·脱盐工序。在水洗·脱盐后的乳剂中加入45g明胶， 调整至pH5.6、pAg7.5，加入10mg苯硫磺酸钠、3mg苯硫亚磺酸钠、 6.0mg硫代硫酸钠5水合物和4.0mg氯金酸，进行化学增感，加入100mg 作为稳定剂的4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚和100mg防 腐剂(ICI(株)制造，PROXEL)，以使在55℃得到最适合的感度。
最终得到含有55mol％溴化银、0.08mol％碘化银的、平均颗粒尺寸 0.21μm，偏差系数9％的碘盐溴化银立方体颗粒乳剂。作为最终的乳 剂，其pH＝5.7、pAg＝7.5、导电率＝40μS/m、密度＝1.2～1.25× 103kg/m3、粘度＝50mPa·s。此外，金属络合物所含有的内部的银的摩 尔量为银总量的92.5％。
阴离子性沉淀剂-1
平均分子量12万
卤化银照相感光材料的样品1～8的配制
涂布液的配制
在本实施例中配制的卤化银照相感光材料具有如下的结构，在两面 上设有底涂层的二轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜支持体的一面 上，形成UL层/乳剂层/保护层下层/保护层上层，在其相反的面上形成 导电层/基底层。
以下所示的是用于形成各层的涂布液的组成。
UL层涂布液
明胶 0.8g/m2
聚丙烯酸乙酯乳液 260mg/m2
化合物(Cpd-7) 40mg/m2
化合物(Cpd-14) 10mg/m2
5-甲基苯并三唑 20mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 1.5mg/m2
乳剂层涂布液
明胶 1.2g/m2
Ag 2.9g/m2
光谱增感染料(III-3) 5.7×10-4mol/Agmol
KBr 3.4×10-4mol/Agmol
化合物(Cpd-1) 2.0×10-4mol/Agmol
化合物(Cpd-2) 2.0×10-4mol/Agmol
化合物(Cpd-3) 8.0×10-4mol/Agmol
4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚
1.2×10-4mol/Agmol
氢醌 1.2×10-2mol/Agmol
柠檬酸 3.0×10-4mol/Agmol
5-甲基苯并三唑 20mg/m2
肼化合物(Cpd-4) 7.0×10-4mol/Agmol
成核促进剂(Cpd-5) 1.0×10-4mol/Agmol
2，4-二氯-6-羟基-1，3，5-三嗪钠盐
90mg/m2
水性乳液(Cpd-6) 100mg/m2
聚丙烯酸乙酯乳液 150mg/m2
胶体二氧化硅(颗粒尺寸10μm) 相对明胶为15质量％
化合物(Cpd-7) 相对明胶为4质量％
丙烯酸甲酯和2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸钠盐和
甲基丙烯酸2-乙酰氧基乙酯的乳液共聚物
(质量比88∶5∶7) 150mg/m2
芯鞘型乳液
(芯：苯乙烯/丁二烯共聚物(质量比37/63)、
鞘：苯乙烯/丙烯酸2-乙酰氧基乙酯
(质量比84/16)、芯/鞘比＝50/50)
150mg/m2
用柠檬酸调整涂布液的pH至5.6。
保护层下层涂布液
明胶 0.7g/m2
化合物(Cpd-12) 15mg/m2
1，5-二羟基-2-苯醛肟 10mg/m2
聚丙烯酸乙酯乳液 300mg/m2
颗粒尺寸10～20μm的胶体二氧化硅
(日产化学制造、SNOWTEXC) 300mg/m2
化合物(Cpd-13) 3mg/m2
化合物(Cpd-20) 5mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 1.5mg/m2
保护层上层涂布液
明胶 0.3g/m2
平均1.5μm的无定形硫酸钡锶的消光泽剂
25mg/m2
化合物(Cpd-8)(明胶分散物) 20mg/m2
颗粒尺寸10～20μm的胶体二氧化硅
(日产化学制造、SNOWTEXC) 30mg/m2
化合物(Cpd-9) 50mg/m2
十二烷基苯磺酸钠 20mg/m2
化合物(Cpd-10) 20mg/m2
化合物(Cpd-11) 20mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 1mg/m2
另外，在各层的涂布液中，加入下述增稠剂-Z调整粘度。
基底层涂布液
明胶 3.8g/m2
化合物(Cpd-15) 40mg/m2
化合物(Cpd-16) 20mg/m2
化合物(Cpd-17) 90mg/m2
化合物(Cpd-18) 40mg/m2
化合物(Cpd-19) 26mg/m2
1，3-二乙烯基磺酰基-2-丙醇 60mg/m2
聚甲基丙烯酸甲酯颗粒(平均颗粒尺寸6.5μm)
3mg/m2
液体石蜡 78mg/m2
化合物(Cpd-7) 120mg/m2
化合物(Cpd-20) 5mg/m2
胶体二氧化硅(颗粒尺寸10μm) 相对明胶为15质量％
硝酸钾 20mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 12mg/m2
导电层涂布液
明胶 0.1g/m2
十二烷基苯磺酸钠 20mg/m2
SnO2/Sb(9/1质量比，平均颗粒尺寸0.25μm) 200mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 0.3mg/m2
Cpd-18
CH3(CH2)11-CH＝CHSO3Na
Cpd-19
CH3(CH2)1f-CH2-CH2SO3Na
支持体上的涂布方法
在将二轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯支持体(厚度为175μm) 的两面上设置底涂层并将其卷成辊状的外侧面上，作为乳剂面侧，从靠 近支持体侧按照UL层、乳剂层、保护层下层、保护层上层的顺序，一 边保持在35℃，一边通过滑珠(Slide Bead)涂布方式加入硬膜剂液同 时进行多层涂布，使其通过冷风凝固区域(set zone)(5℃)后，在和乳 剂面相反侧的被卷成辊状的支持体的内侧面上，从靠近支持体侧按照导 电层、基底层的顺序，通过帘幕式涂布的方式，一边加入硬膜剂液一边 进行多层涂布，使其通过冷风凝固区域(5℃)。在通过各凝固区域的时 刻，涂布液显示出充分的凝固性。接着在干燥区域中在下述干燥条件下 同时干燥两面。另外，从涂布基底面侧后，直到卷绕之前，在与其它物 质没有任何接触的状态下输送滚筒。这时的涂布速度为200m/分钟。
干燥条件
凝固后，以30℃的干燥风干燥，直至水/明胶的质量比为800％， 以35℃相对湿度30％的干燥风干燥，使其从800％降至200％，然后继 续送风，当表面温度达到34℃的时刻(认为干燥结束)的30秒钟后， 用48℃相对湿度2％的空气干燥1分钟。这时干燥时间为，从干燥开始 到水/明胶比达到800％为50秒、从800％降至200％为35秒，从200 ％到干燥结束为5秒。
通过使用本发明的自动显影处理机，废料没有附着在滚筒上。进而， 即使附着废料也可以容易地除去。作为结果，可以在胶片的污渍较少的 情况下进行显影处理。因此，可以广泛地适用于掩膜等的领域中。
图1表示本发明的自动显影处理机的一个示例，分别表示为：1为 显影部，2为定影部，3为水洗用支架部。其中胶片4从胶片插入部5 插入，按照显影部1、定影部2、水洗用支架部3的顺序经过这些部分 后达到光阑6、干燥部7。由此，本发明的自动显影处理机具有上述显 影部、定影部和水洗用支架部，且它们具有的滚筒中的至少1个的滚筒 的表面、优选所有滚筒表面是以非极性高分子物质为主要成分，且中心 线表面粗糙度(Ra)在20μm或以下(以下有时也称为本发明的滚筒)。
通过具有这种结构，可以防止由显影部、定影部、水洗用支架部产 生的废料附着在滚筒和胶片上，进一步地，即使附着也可以在短时间内 简单地除去。
进而，在本实施方式的自动显影处理机中，如图1所示，还可以有 明室胶片插入口8和再水洗插入口9、胶片传感器10和胶片载架11。 当然，没有必要具备所有的这些部件，另一方面，还可以设置这些以外 的部件也是不言而喻的。
设置在显影部、定影部和水洗用支架部的滚筒优选设置成，当从胶 片的侧面看时成为U型、V型、W型或波状的形态，以使显影液、定 影液和水没有遗漏地遍布于胶片表面，其中更优选U型。
另外，图1中的粗箭头表示插入胶片的前进方向。
设置在显影部、定影部和水洗用支架部的滚筒中，当仅对一个部分 采用本发明的滚筒时，优选设置在与乳剂面接触部分的滚筒处。此外， 在显影部、定影部和水洗用支架部中，当仅在任何一部分上设置本发明 的滚筒时，优选设置在水洗部。
设置在显影部、定影部和水洗用支架部上的滚筒数可以根据使用目 的而适宜地决定，在使用掩膜的情况下，优选10～16个。
而且，对于本发明的辊筒，在一对的滚筒中，也可以仅使其中的一 个为本发明的滚筒，另一个为现有的滚筒。
此外，滚筒的直径可以根据显影的胶片的尺寸等而适宜地决定，例 如在使用掩膜的情况下，直径优选20～40mm。此外，成为一对的两个 滚筒的直径可以相同，也可以不同。当滚筒设置成从胶片的侧面看为U 型的情况下，特别优选使设置在胶片的内侧(特别是拐角部)的滚筒的 直径比设在外侧的滚筒的直径更小。此外，在拐角部也可以不设置外侧 的滚筒。
此外，为了使显影液等向胶片的表里两侧浸透，显影部的滚筒的结 构为，可以以沿着输送路线交替地设置在表侧和里侧。
用于显影部的显影液可以根据显影的感光材料的用途和种类而广 泛采用公知的显影液，在使用掩膜的情况下，优选富士显影液ND-1 (富士照相胶片株式会社制造)。
干燥部7上可以设置输送胶片4的滚筒，这时，在垂直方向上优选 设置成交错状。更优选设置对干燥部的胶片4的两面吹送热风的热风供 应部，热风供应部优选夹住胶片4的输送路线并且设置多个。并且更优 选如下的结构，当从恒速干燥区域(将到达表面上残留有水分的胶片的 热量用作蒸发潜热的干燥区域)移至减速干燥区域(胶片表面的水分蒸 发，其水分减少的干燥区域)后，在低温下进行缓和地热风干燥。然后， 经过干燥部的胶片4通过滚筒输送，被胶片载架11容纳。
在本发明的自动显影处理机中，显影部、定影部和水洗用支架部的 滚筒中的至少1个滚筒的表面、优选所有滚筒表面采用非极性高分子。 从而，本发明的滚筒的材质只要其表面以非极性高分子物质为主要成 分，则没有特别的限定。其中，非极性高分子物质是指，不具有永久偶 极子的高分子物质，其中可以含有来自于通常程度的杂质、以及出于技 术上的需要而通常加入的添加剂、稳定剂等中的永久偶极子。
作为滚筒表面的材质，优选以特氟纶(注册商标，杜邦公司制造) 等四氟乙烯树脂为代表的氟树脂、聚乙烯树脂(PE)、聚丙烯树脂(PP)、 聚偏二氟乙烯树脂和聚碳酸酯树脂(PC)，更优选特氟纶(注册商标) 等四氟乙烯树脂、聚乙烯树脂(PE)和聚丙烯树脂(PP)。特别是用于 显影部的滚筒，更优选四氟乙烯树脂(特别是特氟纶)，用于定影部的 滚筒，更优选四氟乙烯树脂(特别是特氟纶)，用于水洗用支架部的滚 筒，更优选四氟乙烯树脂(特别是特氟纶)。这些树脂可以制成薄膜状 而贴在滚筒表面上，也可以涂布在表面上。
进而，上述滚筒的中心线表面粗糙度(Ra)为20μm或以下，优 选为3～15μm，更优选为3～10μm。
另外，本发明中所谓的中心线表面粗糙度(Ra)是基于5μm测定 的。
通过采用这种滚筒，例如象明胶这样的粘合性材料难以附着在滚筒 的表面。进而，通过使用多片清洁膜可以简单地清洁废料。
在本发明的自动显影处理机中，可以进一步添加用于防止水垢产生 的水垢防止剂，也可以注入臭氧。作为水垢防止剂，只要在不脱离本发 明的主旨的范围内，没有特别的限定。可以用例如杂酚油、异噻唑酮系 化合物、卤化脂肪族硝基醇和氨基羧酸等。水垢防止剂可以仅使用1种， 也可以组合使用2种或多种。
作为用于本发明的自动显影处理机中的照相感光材料，只要厚度为 160～225μm(优选厚度为178～180μm)，可以广泛地采用公知的材 料。通过采用这种厚度的材料，即使没有像现有产品那样的在滚筒表面 上的槽，也可以避免输送性的问题。进而，通过采用聚酯(优选对苯二 甲酸乙二醇酯)作为支持体的材料，可以进一步提高输送性。
更具体地，作为用于本发明的自动显影处理机的照相感光材料，可 以列举出具有支持体和至少1层卤化银乳剂面的卤化银照相感光材料。 更优选在支持体上具有乳剂面，在与乳剂面相反的一侧具有导电面和基 底面的材料。此外，还优选乳剂面从接近支持体的一侧具有UL层、乳 剂层和保护层的材料。
在上述照相感光材料中，优选含有消光材料，更优选在乳剂面上含 有消光材料，当然，也可以在与乳剂面相反一侧的面上含有消光材料。
消光材料优选平均粒径在10μm或以下，更优选平均粒径为1～10 μm，进一步优选平均粒径为1～9μm，最优选平均粒径为1～5μm。
消光材料的含量优选为25mg/m2。此外，作为消光材料的材质，可 以列举出微粒二氧化硅和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等。
此外，作为本发明的照相感光材料中设置的其它层，可以列举出粘 合剂层。其中，作为粘合剂、可以采用明胶、聚合物树脂、纤维素系粘 合剂等，更优选明胶。
但是在与乳剂面成相反侧的面上优选没有明胶层。通过采用这种感 光材料，可以使水垢难以附着在胶片上，因此优选。
进而，本发明的自动显影处理机中使用的感光材料优选影调值在10 或以上。这里的影调值是通过特开2003-280128号公报的0173～0175 号段落所记载的方法测定的。通过采用这种感光材料，使得画质良好且 没有废料附着，因此优选。
作为可以用于本发明的自动显影处理机的照相感光材料，优选采用 记载在例如特开2003-280143号公报和特开2003-208128号公报等中 的材料。
本发明的自动显影处理机可以用于、特别优选用于光掩模用卤化银 照相感光材料。
另外，本发明的自动显影处理机中，通过使用清洁膜，可以简单地 除去水垢等污渍，该清洁膜能适宜地采用可通过本发明的自动显影处理 机来除去水垢等污渍的清洁膜。
优选使用在PET表面上涂设3μm或以下厚度的明胶的清洁膜。
以下通过列举实施例对本发明进行更具体的说明。在以下的实施例 中所示的材料、用量、比例、处理内容、处理顺序等可以在不脱离本发 明的主旨的范围内，适当地进行变更。因此，本发明的范围不受到以下 所示的具体示例的限定。
(实施例1)
对通过AOI机的误检测数的研究
将市售产品的自动显影处理机(富士照相胶片株式会社制造， FG710FK)的显影部、定影部、水洗用支架部中设置的滚筒(12个) 全部取出，装上特氟纶(杜邦公司制造)制的表面粗糙度(Ra)18μm 的滚筒。
对于得到的自动显影处理机，如下述表1所示，使用清洁膜(富士 照相胶片株式会社制造)、感光材料(NIP-R175S(EMNo.673-001)、 富士照相胶片株式会社制造)、评价尺寸：50.8cm×61cm)，测定AOI 机(图像制造，FPT-MARVEL)的误检测数。另外，将评价缺陷设定 为5μm。
(比较例)
使用作为市售产品的自动显影处理机(富士照相胶片株式会社制 造，FG710FK)(没有替换滚筒)，与上述实施例同样地测定误检测数。
上述实施例1和比较例的结果如表1所示。
表1
清洁膜的片数 通常的自动显影处理机 (比较例) 改良的自动显影处理机 (本发明) 1片 450个 300个 2片 400个 100个 5片 300个 50个 10片 200个 50个
如表1所示，在使用本发明的自动显影处理机时，与使用现有的自 动显影处理机的情况相比，误检测数锐减。特别是清洁膜片数为2片时 达到4倍的精确度，清洁膜片数为5片时达到6倍的精确度。
另外，在本发明的自动显影处理机中，尽管没有设置槽，但在输送 性上没有问题。
(实施例2)
在实施例1中，除了将感光材料NIP-R175S(EMNo.673-001) 改变为通过下述方法制成的材料(样品1～8)，其余按照同样的方法进 行。
<制造方法>乳剂A的制造
在本实施例中，记载了用于制造卤化银照相感光材料的乳剂A的制 法。
第1溶液
水 650ml
明胶 20g
氯化钠 3g
1，3-二甲基咪唑烷-2-硫酮 20mg
苯硫磺酸钠 10mg
柠檬酸 0.7g
第2溶液
水 300ml
硝酸银 150g
第3溶液
水 300ml
氯化钠 21g
溴化钾 58g
(NH4)3[RhCl5(H2O)](0.001％、NaCl的20％水溶液) 15ml
用于第3溶液的(NH4)3[RhCl5(H2O)](0.001％)是通过，将 其粉末分别溶解于KCl的20％水溶液、NaCl的20％水溶液中，在40 ℃下加热120分钟而制成的。
向保持为38℃、pH4.5的第1溶液中，一边搅拌一边在20分钟内 分别加入相当于67％的量的第2溶液和第3溶液，形成0.18μm的核 粒子。接着在8分钟后加入下述第4溶液和第5溶液，进而在2分钟内 加入剩余的33％的量的第2溶液和第3溶液，使其生长至0.20μm。再 加入0.15g碘化钾，熟化5分钟完成形成颗粒。
第4溶液
水 100ml
硝酸银 50g
第5溶液
水 100ml
氯化钠 8.6g
溴化钠 19.2g
K4[Fe(CN)6]·3H2O(黄血盐) 20mg
然后，按照通常的方法，通过絮凝法水洗。具体的方法是，将温度 降至35℃，加入3g如下所示的阴离子性沉淀剂-1，用硫酸直到使卤化 银沉淀，降低pH(pH3.2±0.2的范围)。然后除去约2L上层清液(第 一水洗)。再加入2L蒸馏水，加入硫酸直至卤化银沉淀。再次除去2L 上层清液(第二水洗)。再重复进行1次和第二水洗同样的操作(第三 水洗)，完成水洗·脱盐工序。在水洗·脱盐后的乳剂中加入45g明胶， 调整至pH5.6、pAg7.5，加入10mg苯硫磺酸钠、3mg苯硫亚磺酸钠、 6.0mg硫代硫酸钠5水合物和4.0mg氯金酸，进行化学增感，加入100mg 作为稳定剂的4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚和100mg防 腐剂(ICI(株)制造，PROXEL)，以使在55℃得到最适合的感度。
最终得到含有55mol％溴化银、0.08mol％碘化银的、平均颗粒尺寸 0.21μm，偏差系数9％的碘盐溴化银立方体颗粒乳剂。作为最终的乳 剂，其pH＝5.7、pAg＝7.5、导电率＝40μS/m、密度＝1.2～1.25× 103kg/m3、粘度＝50mPa·s。此外，金属络合物所含有的内部的银的摩 尔量为银总量的92.5％。
阴离子性沉淀剂-1
平均分子量12万
卤化银照相感光材料的样品1～8的配制
涂布液的配制
在本实施例中配制的卤化银照相感光材料具有如下的结构，在两面 上设有底涂层的二轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜支持体的一面 上，形成UL层/乳剂层/保护层下层/保护层上层，在其相反的面上形成 导电层/基底层。
以下所示的是用于形成各层的涂布液的组成。
UL层涂布液
明胶 0.8g/m2
聚丙烯酸乙酯乳液 260mg/m2
化合物(Cpd-7) 40mg/m2
化合物(Cpd-14) 10mg/m2
5-甲基苯并三唑 20mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 1.5mg/m2
乳剂层涂布液
明胶 1.2g/m2
Ag 2.9g/m2
光谱增感染料(III-3) 5.7×10-4mol/Agmol
KBr 3.4×10-4mol/Agmol
化合物(Cpd-1) 2.0×10-4mol/Agmol
化合物(Cpd-2) 2.0×10-4mol/Agmol
化合物(Cpd-3) 8.0×10-4mol/Agmol
4-羟基-6-甲基-1，3，3a，7-四氮杂茚
1.2×10-4mol/Agmol
氢醌 1.2×10-2mol/Agmol
柠檬酸 3.0×10-4mol/Agmol
5-甲基苯并三唑 20mg/m2
肼化合物(Cpd-4) 7.0×10-4mol/Agmol
成核促进剂(Cpd-5) 1.0×10-4mol/Agmol
2，4-二氯-6-羟基-1，3，5-三嗪钠盐
90mg/m2
水性乳液(Cpd-6) 100mg/m2
聚丙烯酸乙酯乳液 150mg/m2
胶体二氧化硅(颗粒尺寸10μm) 相对明胶为15质量％
化合物(Cpd-7) 相对明胶为4质量％
丙烯酸甲酯和2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸钠盐和
甲基丙烯酸2-乙酰氧基乙酯的乳液共聚物
(质量比88∶5∶7) 150mg/m2
芯鞘型乳液
(芯：苯乙烯/丁二烯共聚物(质量比37/63)、
鞘：苯乙烯/丙烯酸2-乙酰氧基乙酯
(质量比84/16)、芯/鞘比＝50/50)
150mg/m2
用柠檬酸调整涂布液的pH至5.6。
保护层下层涂布液
明胶 0.7g/m2
化合物(Cpd-12) 15mg/m2
1，5-二羟基-2-苯醛肟 10mg/m2
聚丙烯酸乙酯乳液 300mg/m2
颗粒尺寸10～20μm的胶体二氧化硅
(日产化学制造、SNOWTEXC) 300mg/m2
化合物(Cpd-13) 3mg/m2
化合物(Cpd-20) 5mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 1.5mg/m2
保护层上层涂布液
明胶 0.3g/m2
平均1.5μm的无定形硫酸钡锶的消光泽剂
25mg/m2
化合物(Cpd-8)(明胶分散物) 20mg/m2
颗粒尺寸10～20μm的胶体二氧化硅
(日产化学制造、SNOWTEXC) 30mg/m2
化合物(Cpd-9) 50mg/m2
十二烷基苯磺酸钠 20mg/m2
化合物(Cpd-10) 20mg/m2
化合物(Cpd-11) 20mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 1mg/m2
另外，在各层的涂布液中，加入下述增稠剂-Z调整粘度。
基底层涂布液
明胶 3.8g/m2
化合物(Cpd-15) 40mg/m2
化合物(Cpd-16) 20mg/m2
化合物(Cpd-17) 90mg/m2
化合物(Cpd-18) 40mg/m2
化合物(Cpd-19) 26mg/m2
1，3-二乙烯基磺酰基-2-丙醇 60mg/m2
聚甲基丙烯酸甲酯颗粒(平均颗粒尺寸6.5μm)
3mg/m2
液体石蜡 78mg/m2
化合物(Cpd-7) 120mg/m2
化合物(Cpd-20) 5mg/m2
胶体二氧化硅(颗粒尺寸10μm) 相对明胶为15质量％
硝酸钾 20mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 12mg/m2
导电层涂布液
明胶 0.1g/m2
十二烷基苯磺酸钠 20mg/m2
SnO2/Sb(9/1质量比，平均颗粒尺寸0.25μm) 200mg/m2
防腐剂(ICI(株)制造，PROXEL) 0.3mg/m2
Cpd-18
CH3(CH2)11-CH＝CHSO3Na
Cpd-19
CH3(CH2)1f-CH2-CH2SO3Na
支持体上的涂布方法
在将二轴拉伸的聚对苯二甲酸乙二醇酯支持体(厚度为175μm) 的两面上设置底涂层并将其卷成辊状的外侧面上，作为乳剂面侧，从靠 近支持体侧按照UL层、乳剂层、保护层下层、保护层上层的顺序，一 边保持在35℃，一边通过滑珠(Slide Bead)涂布方式加入硬膜剂液同 时进行多层涂布，使其通过冷风凝固区域(set zone)(5℃)后，在和乳 剂面相反侧的被卷成辊状的支持体的内侧面上，从靠近支持体侧按照导 电层、基底层的顺序，通过帘幕式涂布的方式，一边加入硬膜剂液一边 进行多层涂布，使其通过冷风凝固区域(5℃)。在通过各凝固区域的时 刻，涂布液显示出充分的凝固性。接着在干燥区域中在下述干燥条件下 同时干燥两面。另外，从涂布基底面侧后，直到卷绕之前，在与其它物 质没有任何接触的状态下输送滚筒。这时的涂布速度为200m/分钟。
干燥条件
凝固后，以30℃的干燥风干燥，直至水/明胶的质量比为800％， 以35℃相对湿度30％的干燥风干燥，使其从800％降至200％，然后继 续送风，当表面温度达到34℃的时刻(认为干燥结束)的30秒钟后， 用48℃相对湿度2％的空气干燥1分钟。这时干燥时间为，从干燥开始 到水/明胶比达到800％为50秒、从800％降至200％为35秒，从200 ％到干燥结束为5秒。
通过使用本发明的自动显影处理机，废料没有附着在滚筒上。进而， 即使附着废料也可以容易地除去。作为结果，可以在胶片的污渍较少的 情况下进行显影处理。因此，可以广泛地适用于掩膜等的领域中。