基板的处理装置

摘要

本发明提供一种防止以规定的角度被倾斜输送的基板的输送方向后方的下端部过量弯曲而损伤的基板处理装置。该基板处理装置一边使基板以规定的角度倾斜而进行输送，一边通过流体进行处理的基板的处理装置，具备：腔室(3)；支撑辊(14)，设在腔室内，并支撑基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，通过外周面支撑背面受支撑辊支撑的基板的下端，被旋转驱动而将基板向规定方向输送；喷嘴体(62)，对基板的倾斜方向上侧的前表面喷射处理液；以及防弯曲辊(64)，配置在驱动辊的附近，并在基板的输送方向后方的下端部承受从流体供给机构喷射的流体的压力而使上述基板的下端部向背面侧弯曲时，矫正该弯曲。

权利要求

1.一种基板的处理装置，一边使基板以规定的角度倾斜而进行输送，一边通过流体进行处理，其特征在于，具备：腔室；

支撑辊，设在该腔室内，并支撑上述基板的倾斜方向下侧的背面；

驱动辊，通过外周面支撑背面受上述支撑辊支撑的上述基板的下端，被旋转驱动而将上述基板向规定方向输送；

流体供给机构，对上述基板的倾斜方向上侧的前表面喷射上述流体；以及防弯曲辊，配置在上述驱动辊的附近，在上述基板的输送方向后方的下端部承受从上述流体供给机构喷射的流体的压力而使上述基板的下端部向背面侧弯曲时，矫正该弯曲。

2.如权利要求1所述的基板的处理装置，其特征在于，上述防弯曲辊设在上述驱动辊的沿着上述基板的输送方向的直径范围内。

3.如权利要求1或2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述防弯曲辊设在上述驱动辊的沿着上述基板的输送方向的直径范围内的上游侧。

4.如权利要求1或2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述防弯曲辊设在上述驱动辊的沿着上述基板的输送方向的直径范围内的上游侧和下游侧。

5.如权利要求1或2所述的基板的处理装置，其特征在于，上述防弯曲辊使旋转轴线与上述基板的输送方向和上述驱动辊的旋转轴线正交而被设置。

说明书

基板的处理装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一边将基板在以规定的角度倾斜立起的状态下输送一边由处理液等流体处理的基板处理装置。

背景技术

[0002] 在液晶显示装置中使用的玻璃制的基板上形成有电路图案。为了在基板上形成电路图案而采用光刻工艺。光刻工艺如周知那样在上述基板上涂布抗蚀剂，经由形成有电路图案的掩模对该抗蚀剂照射光。

[0003] 接着，将抗蚀剂的没有被照射光的部分或被照射了光的部分除去，将基板的除去了抗蚀剂的部分蚀刻。然后，通过多次反复进行在蚀刻后将抗蚀剂除去的一系列的工序，在上述基板上形成电路图案。

[0004] 在这样的光刻工艺中，需要对上述基板通过显影液、蚀刻液或者在蚀刻后将抗蚀剂除去的剥离液处理基板的工序、还有通过漂洗液进行清洗的工序、和在清洗后将附着残留在基板上的漂洗液除去的干燥工序。

[0005] 以往，在对基板进行上述的一系列的处理的情况下，上述基板通过使轴线为水平而配置的输送辊，以大致水平的状态依次输送到进行各个处理的处理腔室中，在各处理腔室中通过处理液处理基板、或者在处理后喷射压缩气体来进行干燥处理。

[0006] 最近，在液晶显示装置中使用的玻璃制的基板有大型化及薄型化的趋势。因此，如果水平输送基板，则输送辊间的基板的翘曲变大，所以产生了各处理腔室中的处理不能遍及基板的板面整体而均匀地进行的情况。

[0007] 进而，如果基板大型化，则使设有输送该基板的输送辊的输送轴长尺寸化。并且，通过基板大型化，被供给到基板上的处理液增大，根据基板上的处理液的量而施加在上述输送轴上的负荷变大，所以由此输送轴的翘曲增大。因此，有时基板会因输送轴翘曲而发生翘曲，不能进行均匀的处理。

[0008] 所以，在通过处理液处理基板时，为了防止上述基板因处理液的重量而翘曲，通过将基板以规定的倾斜角度、例如从垂直状态倾斜15度、以75度的角度输送、对位于倾斜方向的上侧的前表面喷射处理液，来处理该基板的前表面。

[0009] 如果将基板倾斜输送、对该基板的前表面喷射供给处理液，则处理液不会残留在基板的板面上，而在板面上从上方朝向下方平滑地流动，所以能够防止因处理液的重量而引起基板翘曲的情况发生。

[0010] 但是，在一边将基板以规定的角度倾斜而输送一边进行处理的处理装置的情况下，如专利文献1所示，基板的作为倾斜方向下侧的背面受支撑辊支撑，下端受驱动辊的外周面支撑。驱动辊安装在驱动轴上，通过驱动源旋转驱动该驱动轴。

[0011] 在上述处理装置中，相对于上述基板的输送方向以规定间隔配置有多个上述支撑辊和上述驱动辊。由此，上述基板在背面受上述支撑辊支撑的同时，受上述驱动辊驱动。

[0012] 【专利文献1】日本特开2004-210511号公报

[0013] 可是，为了根据处理液的种类而提高其处理效果，而从喷射嘴以例如0.7MPa左右的较高的压力对输送的基板的前表面喷射上述处理液。如果以高压对基板的前面喷射处理液，则基板在该处理液的压力的作用下向背面侧弯曲。

[0014] 如果只是基板在处理液的压力的作用下弯曲，则该弯曲被支撑基板的背面的支撑辊限制。但是，如果基板的输送方向后方的下端部在处理液的压力下向背面侧弯曲、在弯曲的状态下接触到驱动辊的外周面，则该驱动辊的驱动力会经由其外周面传递到基板的下端。

[0015] 如果驱动辊的驱动力传递到弯曲的基板的输送方向的下端部，则通过该驱动力、基板的输送方向后方的下端部受到进一步弯曲的方向的力，所以有时基板的输送方向后方的下端部会过量弯曲而损伤。

发明内容

[0016] 本发明提供一种基板的处理装置，该基板的处理装置在从驱动辊受到的驱动力的作用下限制基板的输送方向后方的下端部向背面侧弯曲。

[0017] 本发明提供一种基板的处理装置，一边使基板以规定的角度倾斜而进行输送，一边通过流体进行处理，其特征在于，具备：

[0018] 腔室；

[0019] 支撑辊，设在该腔室内，并支撑上述基板的倾斜方向下侧的背面；

[0020] 驱动辊，通过外周面支撑背面受上述支撑辊支撑的上述基板的下端，被旋转驱动而将上述基板向规定方向输送；

[0021] 流体供给机构，对上述基板的倾斜方向上侧的前表面喷射上述流体；以及[0022] 防弯曲辊，配置在上述驱动辊的附近，并在上述基板的输送方向后方的下端部承受从上述流体供给机构喷射的流体的压力而使上述基板的下端部向背面侧弯曲时，矫正该弯曲。

[0023] 发明效果：

[0024] 根据本发明，由于在驱动辊的附近设有阻止基板的输送方向后方的下端部发生弯曲的防弯曲辊，所以能够防止基板的输送方向后方的下端部在弯曲的状态下从驱动辊受到驱动力、弯曲增大而损伤的情况。

[0025] 附图说明

[0026] 图1是表示本发明的第1实施方式的处理装置的概略结构的立体图。

[0027] 图2是上述处理装置的腔室的剖视图。

[0028] 图3是表示支撑辊与驱动辊的配置关系的主视图。

[0029] 图4是表示支撑辊与驱动辊的配置关系的俯视图。

[0030] 图5A是表示本发明的第2实施方式的表示支撑辊与驱动辊的配置关系的主视图。

[0031] 图5B是同样表示支撑辊与驱动辊的配置关系的俯视图。

[0032] 图6A是表示本发明的第3实施方式的表示支撑辊与驱动辊的配置关系的主视图。

[0033] 图6B是同样表示支撑辊与驱动辊的配置关系的俯视图。

具体实施方式

[0034] 以下，参照附图说明本发明的实施方式。

[0035] 图1至图4表示本发明的第1实施方式。图1是表示本发明的处理装置的概略结构的立体图，该处理装置具有装置主体1。该装置主体1是将被分割的多个处理单元、在本实施方式中是将第1至第5处理单元1A～1E可分解地连结为一列而成的。

[0036] 各处理单元1A～1E具有架台2。在该架台2的前表面上以规定的角度倾斜地保持有箱形状的腔室3。在上述架台2与腔室3的上表面上设有上部输送部4。在上述架台2的下端的宽度方向两端上可分解地设有板状的一对脚体5(仅图示1个)。通过该脚体5在上述架台2的下面侧形成空间部6。

[0037] 在上述空间部6中，收纳有设备部9，该设备部9在框架8上载置有控制装置等的设备7，该控制装置对在上述腔室3中如后述那样进行的用来处理基板W的药液或漂洗液等的处理液的箱或泵、或者处理液供给进行控制。即，各处理单元1A～1E通过用脚体5支撑架台2而在腔室3的下方形成空间部6，被分割成位于上下方向的腔室3、上部输送部4以及设备部9的3个部分。

[0038] 上述腔室3以规定的角度、即例如相对于垂直线以15度的角度倾斜的75度的角度倾斜而保持在上述架台2上，在宽度方向的两侧面上形成有被以75度的角度倾斜输送的基板W通过的缝隙13(在图1中仅图示了一处)。

[0039] 在上述腔室3的内部中，如图2和图3所示，在腔室3的宽度方向上以规定间隔设有构成倾斜输送机构的多个输送轴15。在该输送轴15上，沿轴向以规定间隔可旋转地设有多个支撑辊14。上述输送轴15的上端及下端分别受托架15a支撑，以使轴线以与上述缝隙13相同的角度倾斜。

[0040] 在上述腔室3内，基板W被图1中用点划线表示的第1姿势变换部16从水平状态变换为75度的角度而从上述缝隙13送入。即，未处理的基板W被上述上部输送部4从第5处理单元1E侧向第1处理单元1A侧输送，被上述第1姿势变换部16从水平状态倾斜75度的角度，被送入到上述第1处理单元1A中。

[0041] 被送入到第1处理单元1A的腔室3内的基板W受设在上述输送轴15上的支撑辊14支撑作为非设备面的背面。该基板W的下端受驱动辊17(图2所示)的外周面支撑。

[0042] 上述驱动辊17设在驱动单元18的旋转轴19上。并且，通过旋转驱动该旋转轴19，下端受驱动辊17支撑而背面受上述支撑辊14支撑的上述基板W被向上述驱动辊17的旋转方向输送。

[0043] 基板W在由输送方向上游侧的第1至第3处理单元1A～1C用作为处理液的剥离液进行了抗蚀剂的除去后，由第4处理单元1D用作为处理液的清洗液进行清洗处理。接着，由第5处理单元1E进行通过热风的干燥处理。

[0044] 依次通过各处理单元1A～1E而被处理后的基板W在以75度的角度倾斜的状态下被从上述第5处理单元1E送出。被从第5处理单元1E送出的基板W被图1中点划线所示的第2姿势变换部23将姿势从倾斜状态变换为水平状态，而交给下个工序。

[0045] 如图2所示，上述驱动单元18沿着腔室3的宽度方向(基板W的输送方向)具有长板状的下部基座部件24。在该下部基座部件24的上表面上，固接设置有与下部基座部件24相同长度的槽状的上部基座部件25。

[0046] 在上述上部基座部件25上，相对于上部基座部件25可进行倾斜调节地连结设置有与上述下部基座部件24大致相同大小的平板状的安装部件26的宽度方向的一端部与另一端部。即，上述安装部件26在腔室3的前后方向上能够进行倾斜角度的调节。

[0047] 在上述安装部件26的宽度方向的一端和另一端上，相对于上述安装部件26的长度方向以规定间隔、并且在对应于宽度方向的位置上分别设有多个托架31。在宽度方向上对应的一对托架上，经由未图示的轴承可旋转地支撑上述旋转轴19的轴方向的中途部。在该旋转轴19的前端上安装有上述驱动辊17，在后端上嵌装着第1齿轮33。

[0048] 并且，在将腔室3设置在上述架台2上后，将杆状的4条基准部件35的下端面通过螺钉42安装固定在设于该架台2上的支撑部41的上表面上。上述驱动单元18的下部基座部件24的四角部下表面通过螺钉42安装固定在上述基准部件35的上端面上。4条基准部件35的上端面位于相同的平面上。因此，驱动单元在其下部基座部件24的宽度方向及长度方向上不发生变形地被安装固定。

[0049] 在将上述驱动单元18以基准部件35的上端面为基准组装到腔室3内时，支撑在驱动单元18上的多个旋转轴19的后端部从开口于腔室3的前面板12b上的导出孔44突出到驱动室45中。接着，在将驱动单元18组装到腔室3内之后，将上述第1齿轮33嵌装在上述旋转轴19的后端上。

[0050] 在上述驱动室45中设有驱动源51。在该驱动源51的输出轴上嵌装有驱动滑轮53。在该驱动滑轮53与从动滑轮54上张设有带55。上述从动滑轮54与未图示的第2齿轮同轴地设置。该第2齿轮与上述第1齿轮33啮合。由此，如果驱动源51动作，则上述旋转轴19被旋转驱动，所以设在该旋转轴19的前端上的上述驱动辊17也被旋转驱动。

[0051] 如果驱动辊17被旋转驱动，则由这些驱动辊17支撑下端的基板W被向上述驱动辊17的旋转方向输送。

[0052] 如图2和图4所示，在对基板W的前表面喷射剥离液而进行抗蚀剂的除去的第1至第3处理单元1A～1C中，沿着基板W的输送方向以规定间隔、与倾斜输送的基板W的倾斜方向的上侧的面、即形成有电路图案的前表面平行地离开并相对地配设有多个给液管61。

[0053] 在各给液管61上，相对与基板W的输送方向交叉的轴线方向以规定间隔设有多个喷嘴体62。上述给液管61与喷嘴体62形成本发明的处理液供给机构。

[0054] 对上述给液管61以0.7MPa左右的较高的压力供给剥离液。由此，从设在给液管61上的喷嘴体62向上述基板W的前表面以高压喷射上述处理液。

[0055] 在支撑基板W的下端的驱动辊17的附近，配置有防弯曲辊64，该防弯曲辊64用来阻止下端受驱动辊17的外周面支撑的基板W的下端部在从喷嘴体62喷射的处理液的压力下向背面侧弯曲。该防弯曲辊64可旋转地支撑在支轴66上，该支轴66被设于从上述腔室3的内底面立设的托架65上。

[0056] 即，上述防弯曲辊64设在驱动辊17的附近，在该实施方式中，如图3和图4所示，使旋转轴线O2与上述驱动辊17的旋转轴线O1和上述基板W的输送方向X正交而配设，以使其径向的一部分位于比驱动辊17的旋转轴线O1靠基板W的输送方向(箭头X所示)的上游侧、并且位于沿着基板W的输送方向X的驱动辊17的直径(图3所示)的范围内的上方，并且外周面成为与背面受上述支撑辊14支撑的基板W的下端部的背面接触的位置。

[0057] 根据这样的结构，在基板W的下端受驱动辊17的外周面支撑、背面受支撑辊14支撑的状态下旋转驱动上述驱动辊17。由此，基板W在其下端与驱动辊17的外周面的接触阻力的作用下沿着上述驱动辊17的旋转方向被输送。并且，从设在给液管61上的喷嘴体62对被输送的基板W的前表面喷射高压的处理液，处理其前表面。

[0058] 如果基板W受到从喷嘴体62喷射的处理液的压力，则没有受基板W的支撑辊14支撑的部分向背面侧弯曲，特别是基板W的包括输送方向后方的下端部E(图3和图4所示)的周边部与其他部分相比容易向背面侧弯曲。

[0059] 并且，如果基板W的周边部中的输送方向后方的下端部E、在如图4中点划线所示那样弯曲的状态下、被输送到与驱动辊17的外周面接触的位置，则从驱动辊17的外周面受到的驱动力向使弯曲的基板W的输送方向后方的下端部E如图4中箭头B所示那样向进一步弯曲的方向作用。因此，基板W的输送方向后方的下端部E的弯曲变大，有可能在其下端部E上发生断裂等的损伤。

[0060] 但是，在驱动辊17的附近配设有防弯曲辊64。因此，基板W通过如图4中实线所示那样与驱动辊17的外周面的接触、来阻止上述下端部E向箭头B所示的背面侧的方向弯曲。

[0061] 即，如果基板W受到处理液的压力、在输送方向后方的下端部E弯曲的状态下被输送到与驱动辊17的外周面接触的位置的附近，则其下端部E被防弯曲辊64矫正了弯曲状态，而与驱动辊17的外周面接触。

[0062] 因此，基板W的输送方向后方的下端部E即使在从处理液受到的压力的作用下向背面侧弯曲，也能够可靠地防止该下端部E在驱动辊17的作用下被更大地弯曲而损伤。

[0063] 上述防弯曲辊64设在与设有上述支撑辊14的输送轴15不同的支轴66上。因此，上述防弯曲辊64在驱动辊17的附近能够不受支撑辊14的设置状态限制而自由地设定设置位置。

[0064] 图5A、图5B表示本发明的第2实施方式。该实施方式在作为设置防弯曲辊64的位置的驱动辊17的附近、在沿着基板W的输送方向的驱动辊17的直径D的范围内的上游侧和下游侧的两处设有一对防弯曲辊64，以使其径向的一部分位于上述直径D的范围内。

[0065] 图6A、图6B表示本发明的第3实施方式。在该实施方式中，上述防弯曲辊64设置在驱动辊17的附近、使防弯曲辊64的旋转轴线O2在基板W的输送方向上与上述驱动辊17的旋转轴线O1正交的位置上。即，上述防弯曲辊64使旋转轴线O2与沿着基板W的输送方向的驱动辊17的直径D的中心、即驱动辊17的旋转轴线O1一致而设置。

[0066] 在上述第2、第3实施方式中，即使基板W的输送方向后方的下端部E受到处理液的压力而弯曲，如果被输送到与驱动辊17的外周面接触的位置，也会被上述防弯曲辊64矫正弯曲状态。

[0067] 因此，与上述第1实施方式同样，能够可靠地防止基板W的输送方向后方的下端部E在从驱动辊17受到的驱动力的作用下过量弯曲而发生损伤。

[0068] 本发明的防弯曲辊不仅在通过剥离液处理基板的情况、在喷射纯水等的其他处理液或气体而处理的情况下也能够使用，只要是以高压对基板喷射处理液或气体等的流体的情况就是有效的。