电子乐器的键盘装置

摘要

一种电子乐器的键盘装置，包括：多个枢转构件(白键主体(1)、黑键主体(2)和质量体(28))，每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转；框架(3)，其支承所述枢转构件；和限动构件(下限止动件(5)和上限止动件(6))，其与所述枢转构件产生碰撞，以限制允许所述枢转构件枢转的范围。所述限动构件的封闭区域(12)内容纳多个颗粒(11)，且，所述限动构件在框架侧设置成允许空气在所述封闭区域和外部空气之间流入和流出。

权利要求

1.一种电子乐器的键盘装置，包括：

多个枢转构件，每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转；

框架，其支承所述枢转构件，以使得所述枢转构件能够枢转；以及限动构件，其沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置，所述限动构件与所述枢转构件产生碰撞，以限制允许所述枢转构件枢转的范围，所述枢转构件是所述键和与所述键的按压同步地进行枢转的质量构件中的至少一种；其中：该限动构件包括容纳多个颗粒同时允许空气流入和流出的封闭构件，其中该封闭构件由带有气孔的薄柔性材料制成，所述气孔的尺寸小于封闭在该封闭构件内的每个所述颗粒的最小横截面的尺寸；

所述限动构件与所述枢转构件碰撞时的接触部位于该封闭构件上。

2.如权利要求1所述的电子乐器的键盘装置，其中：该封闭构件固定至一透气的基部。

3.如权利要求1至2中任意一项所述的电子乐器的键盘装置，其中：所述接触部处于该限动构件固定至该框架侧的位置的下方。

4.如权利要求1至2中任意一项所述的电子乐器的键盘装置，还包括：弹性限动构件，其用于施加比该限动构件所施加的排斥力更大的排斥力；其中：该限动构件和该弹性限动构件位于该框架上或位于处于该框架侧的一固定构件上，由此当所述枢转构件枢转时，所述枢转构件在与该限动构件碰撞之前与该弹性限动构件相碰撞。

5.如权利要求1所述的键盘装置，其中：由该封闭构件包围的空间设置有用于限制所述颗粒运动的限制运动构件。

6.如权利要求5所述的电子乐器的键盘装置，其中：该限制运动构件设置成使限制运动部位于作为相邻的接触部之间的中点的多个位置的至少一部分位置处。

7.如权利要求5所述的电子乐器的键盘装置，其中：该限制运动构件设置成使多个限制运动部中的每一个均位于作为相邻的接触部之间的中点的各个位置处；以及该限制运动构件具有多个倾斜壁，所述倾斜壁的最低端是与所述枢转构件相碰撞的接触部，且所述倾斜壁的最高端是设置所述限制运动部的位置。

8.如权利要求5所述的电子乐器的键盘装置，其中：该限制运动构件为近似竖直地设置的壁构件。

9.如权利要求6至8中任意一项所述的电子乐器的键盘装置，其中：该限制运动构件与该封闭构件部分地接合。

10.如权利要求1所述的电子乐器的键盘装置，其中：在沿着所述枢转构件的设置方向于该封闭构件上形成多个密封部。

11.如权利要求10所述的电子乐器的键盘装置，其中：该封闭构件沿键的设置方向形成为管状。

12.如权利要求11所述的电子乐器的键盘装置，其中：该封闭构件通过以下方式形成，即，将一矩形平面材料折叠成双层，然后将该矩形平面材料的端部相接合以形成管状。

13.如权利要求11或12所述的电子乐器的键盘装置，其中：所述密封部通过以下方式形成，即，沿着与所述枢转构件的设置方向近似垂直的方向部分地挤压该封闭构件，然后叠置为两层并使这两层接合以近似形成直线；以及该限制运动构件设置在该框架侧，由此所述枢转构件以近似垂直于所述密封部的角度与位于该封闭构件上的多个接触部相碰撞。

14.如权利要求10至12中任意一项所述的电子乐器的键盘装置，其中：所述密封部通过挤压该封闭构件而形成，以使所述密封部呈近似点状。

15.如权利要求10至12中任意一项所述的电子乐器的键盘装置，其中：所述密封部设置在作为相邻的接触部之间的中点的多个位置的至少一部分位置上。

16.如权利要求13所述的电子乐器的键盘装置，其中：所述密封部设置在作为相邻的接触部之间的中点的多个位置的至少一部分位置上。

17.如权利要求14所述的电子乐器的键盘装置，其中：所述密封部设置在作为相邻的接触部之间的中点的多个位置的至少一部分位置上。

说明书

电子乐器的键盘装置

技术领域

[0001] 本发明涉及电子乐器的键盘装置，特别是涉及限制键盘装置的键以及与键同步枢转的质量体枢转的止动构件。

背景技术

[0002] 通常，在电子乐器的键盘装置中，当键被按压时允许键枢转的范围(从初始位置至最大枢转位置)受到设置在键架上的上限止动件和下限止动件的限制。图20A至图20C为示意性地示出电子乐器的常规键盘装置的右视图。该键盘装置具有白键主体1、黑键主体2和键架3。该键架3沿键的纵向具有前阶梯部和后阶梯部，并在所述阶梯部之间具有水平部3a。在水平部3a的后端上设置有键支承部3b。

[0003] 在白键主体1的后端上设置有键枢转部1b。白键主体1利用键枢转部1b固定至键支承部3b，以围绕键枢转部1b枢转。白键主体1具有从顶面的两侧向下形成的右侧和左侧。白键主体1还具有设置在右侧和左侧的前端1a附近的中点处的左、右一对止动片1c，所述止动片从右侧和左侧向下悬置。止动片1c的前端1d朝键的向内(depth)方向近似成直角地弯曲。黑键主体2在与白键中的部件的位置类似的位置上也具有键枢转部2b和止动片2c。在键架3的前阶梯部上，竖直地形成多个平行的狭槽3c，使得白键的止动片的前端1d和黑键的止动片的前端2d可以插入相应的狭槽3c内。

[0004] 在键架3的水平部3a上设置有键开关4。在白键主体1和黑键主体2的底面上设置未示出的凸部(致动器)以与键开关4相对。在键架的水平部3a的底面上，沿着键设置形状如同带状的上限止动件182，以使上限止动件182与止动片1c的前端1d的顶面相对。在水平部3a的顶面上设置下限止动件181，并使该下限止动件181的形状如同带状。在所示出的实例中，白键和黑键具有相同的结构。

[0005] 考虑到减震、降噪和可枢转范围的再现性，上限止动件182和下限止动件181需要由具有弹性回复力的材料制成。通常，使用毡制品、聚氨脂弹性体等作为上限止动件和下限止动件的材料。当演奏者按压键时，键开关4被弹性地压缩以开启开关。当进一步按压键时，下限止动件181受到白键主体1或黑键主体2的左侧和右侧的撞击而弹性变形。在弹性变形时，内部摩擦力使动能转换成热能，从而使键减震。当下限止动件181从弹性变形复原时，下限止动件181产生弹性回复力。该弹性回复力变为对键的排斥力(称为回弹力)。该回弹力通过白键主体1或黑键主体2被传送至演奏者的手指，导致演奏者有不舒适感。

[0006] 当释放键时，使键复原的力(例如未示出的恢复弹簧的作用)使白键主体1或黑键主体2返回至初始位置。当键返回时，止动片1c的前端1d的顶面与上限止动件182相碰撞。在碰撞时，上限止动件182的弹性回复力变为对白键主体1或黑键主体2的推斥力。由于该推斥力朝着与使键复原的力相对的方向施加，因此白键主体1或黑键主体2产生晃动直到键完全停止。如果演奏者的手指与键接触，则该晃动被传递至演奏者，从而使演奏者产生不舒适感。

[0007] 另外，有一种常规的电子乐器的键盘装置，该键盘装置的质量体与演奏者对键的按压同步地进行枢转，由此为演奏者提供了与声学钢琴的键触觉接近的键触觉。枢转质量体的上限受到惯性力矩产生部的后自由端附近与上限止动件的碰撞的限制。当释放键以使其返回至初始状态时，质量体的位置受到惯性力矩产生部的后端附近与下限止动件的碰撞的限制。设置用于上述质量体的上限止动件和下限止动件还可以吸收质量体的惯性力矩的振动，从而使质量体减震。当驱使质量体与上限止动件发生碰撞时上限止动件产生推斥力，而当质量体回复至与下限止动件碰撞时下限止动件产生推斥力。

[0008] 在日本专利No.2003-195853公开的发明中，对于设置用于音锤(质量体)的上限止动件，“质量部MB”与上限止动件一起设置。在该“质量部MB”中，质量体夹在下弹性垫和上弹性垫之间。该质量体由通过将人造橡胶或橡胶与金属粉末混合制得的弹性材料制成，由此该材料具有合适的质量和柔性。另外，日本专利No.2003-195853还公开了“质量部MB”可以采用链状金属丝或通过将沙子或金属粉末装入袋状构件而形成的构件，由此该构件具有与键的整个宽度或多个键的宽度相同的宽度。“质量部MB”通过接合等固定至底盘的后部，或通过与片状构件一起从下向上折叠该“质量部”而被保持。

[0009] 在日本专利No.2003-195853公开的发明中，质量体MB通过下垫接受来自音锤的撞击。质量体MB通过上垫被接合固定至底盘。因此，通过将沙子或金属粉末装入袋状构件而形成的构件并没有完全发挥其性能。另外，在日本专利No.2003-195853中，并没有研究用于将沙子或金属粉末装入袋状构件中的具体结构。例如，并没有研究装填沙子或金属粉末的装填构件的结构、以及应用于这种情况下的具体结构，即，利用毡制品的常规止动构件与质量部MB一起使用的情况下的具体结构。另外，也没有研究装入到装填构件中的沙子或金属粉末的长期稳定性。而且，也没有研究这种情况，即，装入到装填构件中的沙子或金属粉末会由于乐器抵靠在壁或乐器的支架上而运动到不期望的区域。

发明内容

[0010] 本发明用于解决上述问题，其目的在于提供一种具有限动构件的电子乐器的键盘装置，该限动构件限制允许诸如键和质量体之类的枢转构件的枢转范围，该限动构件具有提高由演奏者感知到的键触觉的具体结构。另外，本发明的另一目的在于提供具有限动构件的电子乐器的键盘装置，该限动构件限制允许诸如键和质量体之类的枢转构件的枢转范围，该限动构件具有在包围多个颗粒的封闭构件被用作限动构件的情况下使限动构件长期保持其性能的具体结构。

[0011] 本发明的特点在于提供一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包括：多个枢转构件，每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转；框架，其支承所述枢转构件，以使得所述枢转构件能够枢转；以及限动构件，其与所述枢转构件产生碰撞，以限制允许所述枢转构件枢转的范围；其中：在该限动构件的、由一封闭构件部分地或全部地包围的封闭区域内容纳多个颗粒，且在允许空气在该封闭区域和外部空气之间流入和流出的情况下，沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置该限动构件。在这种情况下，所述封闭构件例如具有透气性。而且，所述封闭构件固定至一透气的基部，由此所述封闭构件和所述透气的基部形成该封闭区域。在如上述构造的键盘装置中，当枢转构件与所述限动构件碰撞时，所述颗粒滑动且相互碰撞，导致显著的内部损耗。另外，由于允许空气在封闭区域和外部空气之间流入和流出，因此当所述枢转构件与所述限动构件碰撞时，将不会产生可能由所述封闭构件的内部气压导致的推斥力。由此，任何推斥力将不会由限动构件施加在所述枢转构件上。因而，当演奏者操作键盘装置时，具有本特点的键盘装置提高了由演奏者感知到的键触觉。

[0012] 所述封闭构件为网状封闭构件，例如，优选的是，该网状封闭构件设计成使网状开口的尺寸小于所述颗粒的最小横断面形状的尺寸，由此，该网状封闭构件可以防止颗粒穿过该网状开口。该封闭构件例如可以是具有多个气孔的薄膜。优选的是，该薄膜设计成使各个气孔的开口尺寸小于所述颗粒的最小横截面形状的尺寸，由此，该薄膜可以防止颗粒穿过该气孔。该封闭构件例如设计成使该封闭构件的表面根据从外部施加到该封闭构件上的力而膨胀或缩小。在这种情况下，该限动构件能够在其封闭区域容纳许多颗粒，且不会阻碍由该封闭构件包围的颗粒的滑动和碰撞。在该基部是可透气的情况下，用作封闭构件的薄膜可以没有气孔。

[0013] 在一些例子中，所述封闭区域由该封闭构件完全包围。在其它例子中，所述封闭区域由所述基部和所述封闭构件完全包围。而且，在一些例子中，该基部与该框架独立地设置。在其它例子中，该基部就是框架自身。

[0014] 在如上述构造的键盘装置中，位于该限动构件上且与该枢转构件相碰撞的点处于该限动构件固定至该框架侧的位置的下方。因为颗粒由于重力而向下聚集，因而如上述构造的键盘装置能准确地保持位于该封闭构件上且与该枢转构件相碰撞的点，还能准确地限制该枢转构件的初始位置、最大枢转位置和枢转范围。

[0015] 在如上述构造的键盘装置中，该键盘装置还包括：弹性限动构件，其用于施加比限动构件的推斥力更大的推斥力；其中该限动构件和该弹性限动构件位于该框架侧，由此当该枢转构件枢转时，该枢转构件在与限动构件碰撞之前与弹性限动构件相碰撞。产生推斥力的该弹性限动构件产生用于使其回复到初始形状的较大的回复力。因此，优选的是，该键盘装置设计成使该枢转构件在与限动构件碰撞之前与弹性限动构件相碰撞，以确保该枢转构件发生碰撞的准确位置。结果，如上述构造的键盘装置确保了对该枢转构件的初始位置、最大枢转位置和枢转范围的准确限制。当该枢转构件与限动构件碰撞时，该限动构件吸收了碰撞能量且没有产生推斥力。

[0016] 另外，一些键盘装置具有与键的按压同步地进行枢转的质量体，而其他键盘装置不具有质量体。在限动构件内，颗粒由透气的封闭构件包围，该限动构件可以用于限制键或质量体的枢转范围。或者，该限动构件可以用于限制键和质量体这两者的枢转范围。由于质量体的惯性力矩大于键的惯性力矩，因此在限动构件用于限制质量体的枢转范围的情况下，该限动构件更加有效。如果限动构件不采用这种限动构件，即在其内，颗粒由透气的封闭构件包围，那么限动构件可以采用常规的弹性限动构件。对枢转范围的限制包括对上限位置和下限位置的限制。在限动构件内，颗粒容纳在具有透气的封闭构件的封闭区域内，这种限动构件可以用于限制上限位置或下限位置。或者，该限动构件可以用于限制上限位置和下限位置这两个位置。在限动构件用于限制由键的按压所导致的枢转的情况下(通常，对上限位置的限制用于键，并且对下限位置的限制用于质量体)，特别地，因为该限动构件在演奏者利用手指按压键的状态下操作，从而如上述构造的键盘装置显著地提高了由演奏者所感知到的键触觉。

[0017] 本发明的另一特点在于提供一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包括：多个枢转构件，每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转；框架，其支承所述枢转构件，以使得所述枢转构件能够枢转；以及限动构件，其与所述枢转构件产生碰撞，以限制允许枢转构件枢转的范围；其中，在所述限动构件的、由一封闭构件部分地或全部地包围的封闭区域内容纳多个颗粒，且沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置所述限动构件；以及由该封闭构件包围的该封闭区域设置有用于限制颗粒运动的限制运动构件。在如上述构造的键盘装置中，当枢转构件与所述限动构件碰撞时，所述颗粒滑动且相互碰撞，从而导致显著的内部损耗。结果，由所述限动构件施加在所述枢转构件上的推斥力小。由此，当演奏者操作键盘装置时，具有本特点的键盘装置提高了由演奏者感知到的键触觉。另外，由于限制运动构件限制颗粒沿该枢转构件的设置方向运动，因而该键盘装置确保所述限动构件的长期性能。

[0018] 在如上述构造的键盘装置中，所述限制运动构件设置成使限制运动部位于作为多个点(或地点，point)之间的中点(midpoint)的多个位置(location)的至少一部分位置处，所述多个点是位于所述封闭构件上且与所述枢转构件相碰撞的点。由于所述枢转构件不会干扰所述限制运动构件，因此，确保了限动构件的减震性能。

[0019] 在如上述构造的键盘装置中，所述限制运动构件设置成使多个限制运动部中的每一个位于作为多个点之间的中点的各个位置处，所述多个点是位于所述封闭构件上且与所述枢转构件相碰撞的点；以及所述限制运动构件具有多个倾斜壁，所述倾斜壁的最低端是与所述枢转构件相碰撞的点，且所述倾斜壁的最高端是设置所述限制运动部的位置。根据该键盘装置，当所述枢转构件不再处于碰撞状态时，重力会使颗粒向所述枢转构件碰撞的点移动，从而导致颗粒回复至它们的初始状态。

[0020] 在如上述构造的键盘装置中，所述限制运动构件为近似竖直地设置的壁构件。该键盘装置具有用于限制颗粒沿所述枢转构件的设置方向运动的最简单的构造。优选的是，因为当颗粒由于所述枢转构件与所述封闭构件相碰撞而向上运动时、且当颗粒由于重力而向下运动时，壁构件将不会阻碍颗粒的运动，由此，所述限动构件被用作上限止动件，在所述限动构件中，所述壁构件位于所述封闭构件的内部。由此，该键盘装置确保了对限动构件的响应。

[0021] 在如上述构造的键盘装置中，所述限制运动构件与所述封闭构件部分地接合。该键盘装置防止所述限制运动构件在所述封闭构件内移动。另外，该键盘装置还避免封闭构件自身的移动和所述封闭区域的横截面形状的变形。

[0022] 同样，在如上述构造的键盘装置中，所述枢转构件是所述键和与所述键的按压同步地进行枢转的质量体中的至少一种。

[0023] 本发明的又一特点在于提供一种电子乐器的键盘装置，该键盘装置包括：多个枢转构件，每个所述枢转构件均响应键的按压或释放而进行枢转；框架，其支承所述枢转构件，以使得所述枢转构件能够枢转；以及限动构件，其与所述枢转构件产生碰撞，以限制允许所述枢转构件枢转的范围；其中：在该限动构件的、由一封闭构件部分地或全部地包围的封闭区域内容纳多个颗粒，且在沿着所述枢转构件的设置方向于该封闭构件上形成多个密封部的情况下，沿着所述枢转构件的设置方向在框架侧设置该限动构件。在如上述构造的键盘装置中，当枢转构件与所述限动构件碰撞时，所述颗粒滑动且相互碰撞，从而导致显著的内部损耗。结果，由所述限动构件施加在所述枢转构件上的推斥力小。因而，当演奏者操作键盘装置时，具有本特点的键盘装置提高了由演奏者感知到的键触觉。由于所述限动构件的封闭区域由所述密封部分成多个区域，因而该键盘装置防止颗粒沿所述枢转构件的设置方向运动。结果，该键盘装置确保所述限动构件的长期性能。另外，即使在该键盘装置倚靠在壁上的情况下，或者在该键盘装置纵向地由支架保持的情况下，该键盘装置也能确保限动构件的性能。在所述密封部为由从所述封闭构件的外部挤压所述封闭构件的构件形成的情况下，该键盘装置可靠地长期保持所述密封部。而且，在所述密封部通过物理处理所述封闭构件自身而形成的情况下，该键盘装置可靠地长期保持所述密封部。另外，在通过物理处理所述封闭构件而形成所述密封部的情况下，所述密封部的形成是容易的。

[0024] 在如上述构造的键盘装置中，所述封闭构件沿键的设置方向形成为管状。根据该键盘装置，所述密封部的形成是容易的，而且对颗粒的处理也是容易的。

[0025] 在如上述构造的键盘装置中，所述封闭构件通过以下方式形成，即，将一矩形平面材料折叠成双层，然后将该矩形平面材料的端部相接合以形成管状。因此，允许所述封闭构件由廉价的矩形平面材料形成。

[0026] 在如上述构造的键盘装置中，所述密封部通过以下方式形成，即，沿着与所述枢转构件的设置方向近似垂直的方向部分地挤压该封闭构件，然后叠置为两层并使这两层接合以近似形成直线；以及所述限制运动构件设置在框架侧，由此所述枢转构件以近似垂直于所述密封部的角度与位于所述封闭构件上的多个点相碰撞。根据该键盘装置，由于位于所述密封部上且与所述枢转构件相碰撞的各个点具有相同的变形形状，所以将不会发生形状扭曲。由此，该键盘装置确保了所述限动构件的性能。

[0027] 在如上述构造的键盘装置中，所述密封部通过挤压该封闭构件而形成，以使所述密封部呈近似点状。根据该键盘装置，即使所述枢转构件以任何角度与所述封闭构件相碰撞，也不会发生由所述密封部导致的形状扭曲。因而，键盘装置确保了所述限动构件的性能。

[0028] 在如上述构造的键盘装置中，所述密封部设置在作为多个点之间的中点的多个位置的至少一部分位置上，所述多个点是与所述枢转构件相碰撞的点，且所述多个点位于所述封闭构件上。由于所述枢转构件将不会干扰所述密封部，因此确保了所述限动构件的性能。

[0029] 在如上述构造的键盘装置中，所述枢转构件是所述键和与所述键的按压同步地进行枢转的质量体中的至少一种。

附图说明

[0030] 图1A至图1C为示出本发明的第一实施例的示意图；

[0031] 图2为示意性地示出本发明的第二实施例的右视图；

[0032] 图3A至图3C为示出图1A至图1C和图2所示的实施例中使用的封闭构件的行为状态的示意图；

[0033] 图4A至图4F为示出图1A至图1C和图2所示的实施例中使用的封闭构件的具体实例的示意图；

[0034] 图5为示出本发明的第三实施例的示意图；

[0035] 图6为示出本发明的第四实施例的示意图；

[0036] 图7A和图7B为示出重力施加在设置用于上限止动件的颗粒上的动作的示意图；

[0037] 图8A至图8C为示出图2所示的下限止动件的具体实例的示意图，该实例示出了内部具有限制运动构件的限动构件；

[0038] 图9A和图9B为示出图2所示的下限止动件的不同具体实例的示意图，这些实例示出了内部具有限制运动构件的限动构件；

[0039] 图10A和图10B为示出图2所示的下限止动件的其它不同具体实例的示意图，这些实例示出了内部具有限制运动构件的限动构件；

[0040] 图11A至图11D为示出图2所示的上限止动件的具体实例的示意图，这些实例示出了内部具有限制运动构件的限动构件；

[0041] 图12A至图12D为示出图2所示的上限止动件的不同具体实例的示意图，这些实例示出了内部具有限制运动构件的限动构件；

[0042] 图13为示出图2所示的上限止动件的其它不同具体实例的示意图，该实例示出了内部具有限制运动构件的限动构件；

[0043] 图14为示出图2所示的下限止动件的具体实例的示意图，该实例示出了外部具有阻止运动构件的限动构件；

[0044] 图15A和图15B为示出图2所示的下限止动件的具体实例的示意图，该实例示出了限动构件，该限动构件的封闭构件具有密封部；

[0045] 图16A至图16C为示出具有图15A和图15B所示的管状封闭构件的不同具体实例的示意图；

[0046] 图17A至图17E为示出采用管状封闭构件的键盘装置的示意图，该管状封闭构件具有图15A和图15B所示的近似线形的密封部；

[0047] 图1 8为示出不同具体实例的示意图，该实例示出了密封部在图15A和图15B所示的管状封闭构件上形成；

[0048] 图19A和图19B为示出图2所示的下限止动件的具体实例的示意性俯视图，该俯视图示出了形成于封闭构件上的密封部的布置；且

[0049] 图20A至图20C为示意性地示出常规电子乐器的键盘装置的右视图。

具体实施方式

[0050] 图1A至图1C示出了根据本发明的第一实施例的电子乐器的键盘装置。图1A为示意性地示出键盘装置的右视图。图1B示意性地示出从右侧观察时设置用于下限止动件5的颗粒的行为状态。图1C示意性地示出从前面观察时设置用于下限止动件5的颗粒的行为状态。在图1A至图1C中，与图20中应用的部件相同的部件采用与图20中的附图标记相同的附图标记表示，并省略对这些部件的描述。图1A中的下限止动件5(限动构件)和上限止动件6(限动构件)的结构不同于背景技术中描述的图20中采用的部件的结构。图1A的黑键主体2(枢转构件)的限动构件的结构也不同于图20中采用的部件的结构。

[0051] 参照图1B和图1C，以设置用于白键主体1的下限止动件5作为实例进行详细描述。利用透气的封闭构件12将下限止动件5部分地或全部地围住，以便在下限止动件5的封闭区域内容纳多个颗粒11。下限止动件5位于键架3(框架)的水平部3a上，该水平部3a用作下限止动件5的基部。封闭构件被密封并固定在该基部上。下限止动件5沿键盘装置的多个键的设置方向延伸。该下限止动件5不必位于键架3自身上，也可以位于如同键架3一样固定地保持键盘装置的任何部件上。颗粒11为实心物体，并以球形物体示出。
在颗粒11的形状为球形的情况下，优选的是颗粒11的直径为3毫米或更小。如日本专利第2003-19853号公报中所述，颗粒11可以是沙子或金属粉末。另外，颗粒11也可以是球形陶瓷、球形金属、球形塑料等。然而，颗粒11的形状并不必为球形。

[0052] 全面限制所包含的颗粒11的行为状态的封闭构件12由薄柔性材料(也称作薄膜材料)制成。限制程度可以根据封闭构件12的柔性程度自由确定，然而，优选的是具有这样的限制程度，即，该限制程度不会防止由碰撞产生的动能传递至颗粒11。更具体地说，封闭构件12为这种类型，即，由于封闭构件12的材料所具有的弹性，根据施加至封闭构件12的力允许封闭构件12的表面积扩大或收缩。或者，封闭构件12可以为这种类型，即，柔性地变形或变松，例如布。封闭构件12被密封并接合或熔接至作为下限止动件5的基部的水平部3a，从而防止颗粒11散开。

[0053] 当白键主体1的左侧部1e和右侧部1f的下端与封闭构件12碰撞时，由该碰撞产生的动能通过封闭构件12被传送至颗粒11。当颗粒11连续地相互碰撞或滑动以朝任意方向移动时，该动能被转换成热能从而消失。由于弹性能不会被积累，因此将不会产生对枢转构件的推斥力。因此，键盘装置能够消除演奏者所感觉到的不舒适的键触觉。由于白键主体1的左侧部1e和右侧部1f的下端通过封闭构件12与颗粒11直接碰撞，因此，提高了消除动能的作用，该作用通过颗粒11的移动而产生。另外，由于透气的封闭构件12使颗粒11容纳在透气区域内，因而将不会产生源于气压的弹性推斥力。

[0054] 在上述说明中，描述了下限止动件5(限动构件)，然而同样地，上限止动件6(限动构件)位于键架3的水平部3a的下侧上，该水平部3a用作该上限止动件6的基部。该上限止动件6的封闭构件12也被密封并固定在该基部上。然而，颗粒11接受碰撞力的方向与颗粒11接受重力的方向之间的关系不同于下限止动件5的情况下的这种关系。因此，上限止动件6与下限止动件5具有基本相同的结构，然而，上限止动件6与下限止动件5之间的结构可以进行变化。

[0055] 在本说明书中，颗粒11由封闭构件12封闭的这种结构将被简称为“颗粒袋”。至少下限止动件5或上限止动件6的其中之一可以具有“颗粒袋”结构，而另一止动件由采用毡制品等制成的常规弹性限动构件(在下文中称为弹性限动构件)构成。

[0056] 图2为示意性地示出本发明的第二实施例的电子乐器的键盘装置的右视图。该键盘装置具有白键主体(枢转构件)21、黑键主体(枢转构件)22和键架(框架)23。在键架23上，沿键的纵向在前部和后部内设置多个阶梯部。在多个阶梯部之间设置有水平部23a。
在水平部23a的后部上设置有键支承部23b。在水平部23a的下侧前部设置有质量体支承部23c。在白键主体21和黑键主体22的后端分别设置有键枢转部21b、22b。白键主体21和黑键主体22分别在键枢转部21b、22b处固定至键支承部23b，以使白键主体21和黑键主体22可以分别绕键枢转部21b、22b枢转。

[0057] 在键架23的阶梯部的前面和后面分别设置有安装部23d、23e，以将键架23安装至键架底板24。安装部23d的前面是竖直壁23f。键架底板24可以是键架侧的固定构件，例如电子乐器的下壳体(架板)。在竖直壁23f上设置用于白键主体21的键引导件25。键引导件25插入与白键主体21的前端部21a接近的下部，以限制键的横向位置和翻滚。设置固定至水平部23a的、用于黑键主体22的键引导件26。在键架的水平部23a上设置与图1所示的键开关相似的键开关4。在白键主体21和黑键主体22的下侧设置未示出的凸部(致动器)，以与键开关4相对。

[0058] 从白键主体21的下部伸出力传送部21c，以穿过设置在键架的水平部23a上的孔23g。该力传送部21c的端部具有底板。在该底板的上部设置有朝键的纵向的后侧打开的穿孔。在该底板的顶面和底面上固定有弹性构件27(顶面是不可见的)。为每个白键主体
21和黑键主体22设置质量体28。更具体地说，质量体28沿键的设置方向设置于各个键的下方。设置用于白键主体21的、所示出的质量体28由质量体支承部23c支承，以使质量体
28通过相应键的力传送部21c枢转。

[0059] 质量体28包括：枢转部28c，由相应的质量体支承部23c支承；主驱动部28a和次驱动部28b，位于枢转部28c的前面并与键的力传送部21c相接合；和臂状惯性力矩产生部28d，位于枢转部28c的后面，并用于产生惯性力矩。该惯性力矩产生部28d的后端为质量集中部28e。

[0060] 主驱动部28a和次驱动部28b与力传送部21c相接合，以使力传送部21c的底板通过弹性构件27而夹在主驱动部28a和次驱动部28b之间。当质量体28与演奏者对键的按压同步地进行枢转时，根据由惯性力矩产生部28d产生的惯性力矩确定的反作用从白键主体21传送到演奏者的手指。当演奏者从键上松开手指时，该质量体28由于重力的作用向后枢转，从而返回到所示出的位置。

[0061] 未示出的、黑键主体22的力传送部位于以下位置，即，该力传送部沿图2的向内方向与力传送部21c重叠的位置。因而，对于黑键主体22同样也设置类似的质量体，该质量体由质量体支承部支承以允许该质量体枢转。用于黑键主体22的质量体由相应的黑键的力传送部进行转动。

[0062] 在水平部23a的顶面上，用于键的下限止动件5设置成如图1的例子中的带状。在键架的水平部23a的底面上设置用于质量体28的上限止动件(限动构件)30。当质量体28与对白键主体21的按压同步地进行枢转时，该上限止动件30通过利用与质量集中部
28e的顶面的碰撞来限制质量体28的上限位置。在键架底板24上设置用于质量体28的下限止动件(限动构件)29。当质量体28与白键主体21的释放同步地进行枢转时，该下限止动件29通过利用与质量集中部28e的底面的碰撞来限制质量体28的初始位置。

[0063] 上限止动件30和下限止动件29具有如图1所示的上限止动件6和下限止动件5的例子中的“颗粒袋”结构。由于由质量体28的碰撞产生的动能比由键的碰撞产生的动能大，因此优选的是，上限止动件30和下限止动件29设计成具有较大的“颗粒袋”，以消除更多的能量。具有质量体的键盘结构和枢转方向不限于如图2所示的结构和方向。在一些键盘中，在初始位置处倾斜的质量体在键被按压时沿竖直方向升高。这种键盘可以设计成当质量体沿竖直方向升高时使“颗粒袋”沿水平方向接受碰撞。或者，质量体可以在初始位置位于上限处，而当键完全被按压时位于下限处。

[0064] 图3A至图3C示出了图1A至图1C和图2所示的实施例中使用的封闭构件12的行为状态。将描述图2中示出的下限止动件29的实例。封闭构件12具有这样的弹性：允许其表面根据内部和外部施加的力而扩大和缩小。图3A示出了这种封闭构件12的初始状态。如图3B所示，由质量集中部28e与下限止动件29碰撞所产生的碰撞力导致封闭构件12沿水平方向扩大，然而，封闭构件12施加充分的收缩力以将颗粒11限制在封闭区域内，并完全限制颗粒11的行为状态。通过控制封闭构件12的柔性，该键盘装置能够为演奏者提供期望的键触觉。如图3C所示，当质量集中部28e从下限止动件29释放时，膨胀的封闭构件12由于其弹性回复力而收缩以返回至图3A中所示的初始状态。

[0065] 参照图4A至图4F，将描述封闭构件的具体实例和基部的示例性构造。图4A至图4F示出了图1A至图1C和图2所示的实施例中使用的封闭构件12的具体实例。在图4A示出的具体实例中，使用网状封闭构件41作为封闭构件12。更具体地说，网状封闭构件41可以是用线编织成的布、由编织线制成的编织物等。该网状封闭构件41可以是由相互交错的许多线制成的无纺布。该网状封闭构件41的透气性允许空气在限制颗粒42的区域与外部空气之间流入和流出。假设封闭构件12不透气，而且封闭区域包含大量空气，则与枢转构件(键或质量体)的碰撞会导致封闭构件12的表面膨胀，从而表现出气垫的作用。由此，产生弹性回复力，从而不会达到期望的效果。

[0066] 然而，如果网状封闭构件41足够粗糙以允许颗粒42穿过，这样颗粒42可能会漏到外面。由于颗粒42可以沿任意方向运动，因此，该网状封闭构件41设计成使颗粒42不能穿过网的开口。在颗粒42为非球形的情况下，如图4B所示，横截面形状根据切割位置的不同而不同。在这种情况下，朝着面向具有最小横截面形状42a的平面的方向被视为通过方向43。因此，如图4C所示，作为原则，优选的是网状封闭构件设计成使网状开口的尺寸小于最小横截面形状42a的尺寸，由此，该网状封闭构件41能够防止颗粒42通过网状开口。该网状封闭构件41沿键的设置方向延伸，然而，沿键的设置方向定位的该网状封闭构件41的两端可以覆盖有与网状封闭构件41的材料相同的材料，以防止颗粒42滑出。或者，可以采用任何不同的构件来密封这两端。

[0067] 图4D示出了薄膜44被用作封闭构件12的具体实例。至于薄膜44，可以使用塑料、天然橡胶、合成橡胶等。泡沫塑料、泡沫橡胶等也可以被用作薄膜44。该薄膜44设置有多个气孔44a。这些气孔44a可以散布在包括与枢转构件(键或质量体)发生碰撞的表面在内的整个表面上。或者，如图4D所示，气孔44a可以散布在不发生碰撞的表面上。如图4E所示，作为原则，优选的是，薄膜设计成使气孔44a的尺寸小于每个颗粒的最小横截面形状42a的尺寸，由此，薄膜44能够防止颗粒42穿过气孔44a。

[0068] 气孔44a可以为任何形状，然而，优选的是，气孔44a具有尖缘，如所示出的三角形和矩形。在具有相同横截面积的气孔44a中，由于许多颗粒42为圆形，因此具有尖缘的气孔44a更可能阻止颗粒42。由此，具有尖缘的气孔44a可能防止颗粒42穿过薄膜44。另外，即使颗粒42卡在气孔44a内，气孔44a边缘处的空隙也能确保透气性。薄膜44a的透气性，换言之，空气流入/流出的特性可以根据气孔44a的尺寸和气孔44a的数量进行控制。

[0069] 图4F示出了一个实例，该实例中“颗粒袋”的基底设置有多个气孔。在这种情况下，在框架3的水平部3a上设置具有气孔45a的基部45，而且在水平部3a和基部45之间设置安装部46。对于该结构，将以图1中所示的下限止动件5作为实例。安装部46确保了允许空气在基部45和键架3(水平部3a)之间流入/流出的空隙。安装部46可以与基部45或水平部3a一体成形。或者，安装部46可以独立地构造，例如间隔件。至于封闭构件12，可以使用具有气孔44a的上述网状封闭构件41或薄膜44。或者，可以使用没有气孔的薄膜。

[0070] 在图1A-图1C、图2和图3A至图3C中，在不使用基部45的情况下，键架3侧的固定构件(或键架3本身)可以设置有与气孔45a相当的多个气孔。薄膜44沿键的设置方向延伸，然而，沿设置的键的方向定位的薄膜44的两端可以覆盖有与薄膜44相同的材料，以防止颗粒11滑出。或者，可以使用任何不同的构件来密封这两端。

[0071] 图5示出了本发明的第三实施例。该第三实施例可以通过将图1中所示的第一实施例修改成使常规弹性限动构件(例如毡制品)分别添加至下限止动件5和上限止动件6而得到。在图5中，与图1A至图1C中使用的部件相似的部件采用与图1A至图1C中的附图标记相同的附图标记表示。毡制品51与作为“颗粒袋”的下限止动件5一起设置，以一体地被用作下限止动件。相似地，毡制品52添加至作为“颗粒袋”的上限止动件6，以一体地被用作上限止动件。

[0072] 当白键主体1被按压时，白键主体1的右侧面和左侧面与下限止动件5和毡制品51这两者碰撞。由此，这两者的优点得以利用。更具体地说，“颗粒袋”提供了高减震性，但是形状的再现性(枢转构件的初始位置和动作范围的再现性)和对重复按压的耐受性较差。因此，键的初始位置和动作范围的再现性以及对重复按压的耐受性由常规弹性限动构件补偿，由此提高了键的减震和键盘装置的可操作性。另外，当释放白键主体1以使其返回到初始位置时，白键主体1与上限止动件6和毡制品52碰撞。在碰撞时，可以类似地利用上限止动件6和毡制品52的优点。

[0073] 如图5所示，假设下限止动件5的高度为h1，毡制品51的高度为h2，本实施例设计成使h1＜h2。由此，当白键主体1枢转时，键的右侧面和左侧面首先与毡制品51碰撞，接着与连同毡制品51一起设置的下限止动件5碰撞。换言之，毡制品51先于作为“颗粒袋”的下限止动件5执行弹性限动。

[0074] 在键碰撞后然后被释放以后，由于诸如毡制品之类的弹性限动构件比“颗粒袋”具有更高的回复力，因而毡制品51立即回复到其初始状态。由此，毡制品51为键随后的碰撞提供了稳定的限动位置，以确保准确的限动位置。作为“颗粒袋”的下限止动件5提供了不包含推斥力的减震性能。相似地，假设上限止动件6的高度为h3，毡制品52的高度为h4，本实施例设计成使h3＜h4。当白键主体1返回到初始位置时，止动件的前端1d与毡制品52碰撞，从而毡制品先于作为“颗粒袋”的上限止动件6执行弹性限动。

[0075] 一体的止动件的上述结构通过常规毡制品51和52之间的间隔确保了白键主体1的准确的枢转范围。因此，即使“颗粒袋”在一定程度上表现出对竖直位置的不准确的再现性，本实施例也能提高枢转范围的准确性。

[0076] 图6示出了本发明的第四实施例。该第四实施例可以通过将图2中所示的第二实施例修改成使常规弹性限动构件(例如毡制品)分别添加至下限止动件29和上限止动件30而得到。在图6中，与图2中使用的部件相似的部件采用与图2中的附图标记相同的附图标记表示。如同图5中示出的实施例的情况，毡制品61添加至作为“颗粒袋”的下限止动件29，而毡制品62添加至作为“颗粒袋”的上限止动件30。

[0077] 由此，对白键主体1的按压导致质量集中部28e的顶面与上限止动件30和毡制品62碰撞。因而，如图5所示的情况，可以利用上限止动件30和毡制品62这两者的优点。另外，当释放白键主体1时，质量集中部28e的底面返回到其初始位置，质量集中部28e与下限止动件29和毡制品61进行碰撞。在碰撞时，可以类似地利用下限止动件29和毡制品61这两者的优点。

[0078] 如图6所示，假设上限止动件30的高度为h1，毡制品62的高度为h2，本实施例同样设计成使h1＜h2。由此，当质量体28枢转时，毡制品62先于作为“颗粒袋”的上限止动件30执行对质量集中部28e的弹性限动。相似地，假设下限止动件29的高度为h3，毡制品61的高度为h4，本实施例设计成使h3＜h4。当质量集中部28e返回到初始位置时，毡制品61先于作为“颗粒袋”的下限止动件29执行对质量集中部28e的弹性限动。通过对常规毡制品61和62的位置控制，上述结构确保了质量集中部28e的准确的可枢转范围。即使“颗粒袋”在一定程度上表现出对竖直位置的不准确的再现性，本实施例也能提高可枢转范围的准确性。

[0079] 在图5和图6示出的实施例中，作为常规止动构件的毡制品被添加至下限止动件和上限止动件，以提高可枢转范围的准确性。但是，对于图1A示出的上限止动件6和图2示出的上限止动件30，由于施加到颗粒上的重力，因而即使没有添加常规止动构件，也可以容易地确定“颗粒袋”的位置。

[0080] 图7A和图7B示出了重力施加到上限止动件的颗粒上时的动作。图7A为在质量集中部28e处于初始位置的情况下键盘装置的部分放大视图。图7B为在质量集中部28e与上限止动件30碰撞的情况下键盘装置的部分放大视图。在这些图中，与图6中使用的部件相似的部件采用与图6中的附图标记相同的附图标记表示。在图7A中，当质量体28枢转时，质量集中部28e与上限止动件30碰撞，在该上限止动件30上，质量集中部28e发生碰撞的点(碰撞位置)位于键架23的水平部23a的、设置有上限止动件30的下方。

[0081] 包含在作为上限止动件30的“颗粒袋”内的许多颗粒11由于重力作用向下聚集，从而确定了封闭构件12的底面的位置。更具体地说，通过重力将位于发生碰撞的区域上的颗粒的位置初始化(复位)。当如图7B所示质量集中部28e与上限止动件30碰撞时，颗粒11向上散开。而当质量集中部28e从上限止动件30释放时，颗粒11又向下回复，如图7A所示。优选的是，“颗粒袋”设计成使容纳在“颗粒袋”内的颗粒11的密度低，以使得“颗粒袋”的顶部具有空间，从而有利于颗粒11向上分散。

[0082] 参照图4A至图4E描述的“颗粒袋”沿键均匀地延伸。如果颗粒11在使用一段时间之后沿键移动至不期望的位置，则“颗粒袋”将最终失去减震性能。例如，当如图1C所示白键主体1的右侧部1e和左侧部1f与封闭构件12碰撞时，正好位于受碰撞的右侧部1e和左侧部1f的下方的部分发生凹陷。当白键主体1接着向上返回时，期望颗粒11会回复至使封闭构件12变平，然而，长期的使用会妨碍封闭构件12的完全回复。另外，如果电子乐器被轻微倾斜地安置，则颗粒11非期望地沿键的设置方向发生分散。因此，优选的是，在封闭构件12内部沿着键设置用于限制颗粒11运动的限制运动构件。由此，限制运动构件防止颗粒11沿枢转构件的设置方向运动，从而使限动构件(下限止动件或上限止动件)长期保持减震性能。

[0083] 图8A至图8C示出了图2所示的下限止动件的具体实例。在该具体实例中，限制运动构件设置在限动构件内。图8A为下限止动件29的立体图。图8B和图8C为示出限制运动构件71的行为状态的前视图。在这些图中，与图1A至图1C和图2中使用的部件相似的部件采用与图1A至图1C和图2中的附图标记相同的附图标记表示。在图8A中，省略了颗粒11。

[0084] 限制运动构件71具有倾斜壁71a、接合成与倾斜壁71a邻接的竖直壁71b、和支承竖直壁71b的基部71c。倾斜壁71a的右端与倾斜壁71a的左端相对，以在其间形成凹部。在限制运动构件71中，倾斜壁71a、与倾斜壁71a相邻的竖直壁71b和支承竖直壁71b的基部71c被视为一个单元。限制运动构件71设置在由键架3和封闭构件12完全包围的封闭区域内，且该键架3作为基部。限制运动构件71沿键的方向设置，限制运动构件71的每个单元的横截面的形状呈近似字母M形。

[0085] 与质量集中部28e相碰撞的点位于从倾斜壁71a的最底端引出的竖直线上。在所示出的实例中，该凹部平滑地弯曲，然而，该倾斜壁71a的左侧和右侧可以分别为平坦的。各个单元与沿键设置的质量体的质量集中部28e相关联。基部71c可以固定至键架3。或者，基部71c可以简单地放置于键架3上。

[0086] 如图8B所示，当质量集中部28e与下限止动件相碰撞时，碰撞荷载通过封闭构件12施加到颗粒上。该碰撞荷载迫使颗粒11运动，然而倾斜壁71a限制颗粒11的运动方向。
更具体地说，当颗粒11与倾斜壁71a相碰撞时，倾斜壁71a对颗粒11产生反向力。由此，颗粒11沿倾斜壁71a的表面向上移动。颗粒11如流体一样移动。倾斜壁71a和竖直壁71b之间的接合处是顶端，其提供与封闭构件12之间的紧密空间。该顶端被用作障碍物，使得已向上移动的颗粒11难以越过障碍物而运动到相邻区域。

[0087] 如图8C所示，当去除荷载时，颗粒11由于重力和弹性回复力(如果封闭构件12施加了任何的这种力)沿倾斜壁71 c的表面向下移动以回复到初始的平坦位置。由此，防止颗粒沿键的设置方向运动超出键的范围。换言之，防止颗粒11运动超出质量体的范围。由于限制运动构件71设计成使倾斜壁71a的凹部的中央重合于与质量体相碰撞的点，而且接合至倾斜壁71a的竖直壁71b位于相邻质量体的碰撞点之间的中点处，因而，颗粒的运动不会由于与质量体的碰撞而受到阻碍。

[0088] 如上所述，限制运动构件71设置在由键架3和封闭构件12形成的空间内，该空间被用作“颗粒袋”。更具体地说，倾斜壁71a和与竖直壁71b的接合处被用作限制运动部，以防止颗粒11沿键的设置方向运动。另外，当去除荷载时，形成凹部的倾斜壁有助于移动的颗粒11的回复。因此，限制运动构件71使“颗粒袋”长期保持减震性能。

[0089] 图9A和图9B示出了图2所示的下限止动件的不同具体实例。在这些具体实例中，限制运动构件设置在限动构件内。在这两个图中，以对应于一个单元的限制运动构件作为示例。在图9A所示的具体实例中，限制运动构件81具有水平部81a、位于水平部81a的中央的开口81b、支承水平部81b的竖直壁81c和基部81d。在该实例中，竖直壁81c被用作限制运动部，以防止已进入到开口81b下方区域内的颗粒11沿键运动。

[0090] 在图9B示出的实例中，限制运动构件82具有水平部82a、(沿键的纵向)设置在水平部82a的前部和后部上的凹口82b、支承水平部82a的竖直壁82c、和基部82d。在该实例中，竖直壁82c被用作限制运动部以防止已进入到凹口82b下方的区域内的颗粒11沿键运动。

[0091] 图10A和图10B示出了图2所示的下限止动件的其它不同具体实例。在这些具体实例中，限制运动构件设置在限动构件内。在图10A中示出的实例中，限制运动构件91具有形状为字母H形的水平横截面。该限制运动构件91具有形成字母H的水平线的竖直壁91a和连接至各个竖直壁91a的两侧以形成字母H的纵向线的凸缘91b。在该实例中，竖直壁91a被用作限制运动部以防止颗粒11沿键运动。竖直壁91a和凸缘91b被视为限制运动构件91的一个单元。该限制运动构件91沿键的设置方向设置在由作为基部的键架底板
24和封闭构件12完全包围的区域内。

[0092] 限制运动构件91可以固定至作为基部的键架底板24或与键架底板24一体成形。或者，限制运动构件91可以简单地放置于键架底板24上。在所示出的实例中，凸缘91b的阴影线部分通过结合、粘结(例如双面胶带)、熔接、螺钉固定等接合至封闭构件12。因而，即使在限制运动构件91简单地放置于键架底板24上的情况下，也能使限制运动构件91固定。另外，由于封闭构件12固定至限制运动构件91，因而封闭构件12不易于失去其截面形状。

[0093] 图10B示出的限制运动构件92的倾斜壁92a与图8A中示出的倾斜壁71a相似。各个倾斜壁92a也具有平滑的凹部。限制运动构件92具有水平部92b。水平部92b连接至倾斜壁92a的顶端以形成限制运动部。倾斜壁92a和位于倾斜壁92a的两侧上的水平部
92b的一半被视为限制运动构件92的一个单元。限制运动构件92沿键的设置方向设置在由作为基部的键架底板24和封闭构件12所包围的内部区域内。限制运动构件92可以固定至作为基部的键架底板24。或者，限制运动构件92可以简单地放置于键架底板24上。
水平部92b的阴影线部分通过结合、粘结(例如双面胶带)、熔接、螺钉固定等接合至封闭构件12。

[0094] 在参照图8A至图8C、图9A、图9B和图10A、图10B进行的说明中，这些实例以图2中示出的、设置用于质量体28枢转的下限止动件为基础。而如图1A中示出的、设置用于键的枢转的下限止动件5也是相似的。然而，相邻键的右侧和左侧之间的空间是微小的。因此，相邻键的右侧和左侧，例如键的左侧(对应于图1C中的附图标记1e)和与该键的左侧相邻的键的右侧(对应于图1 C中的附图标记1f)，或键的右侧(对应于图1C中的附图标记1f)和与该键的右侧相邻的键的左侧(对应于图1C中的附图标记1e)可以视为等同于上述质量集中部28e的枢转构件的一个单元。

[0095] 因此，优选的是限制运动构件71、81、82设置成使限制运动构件71、81、82的限制运动部位于各个键的中点处(键的左侧1e和键的右侧1f之间的中点)。由于图10A中示出的限制运动构件91与碰撞点没有直接关联，因此只要限制运动构件位于相邻的质量体28(质量集中部28e)之间的中点处，则限制运动构件91就不需要为相邻质量体28(质量集中部28e)之间的每个中点设置限制运动部。并非为所有的相邻质量体28的中点设置限制运动部，更具体地说，限制运动构件91的限制运动部可以以期望的间隔设置，以具有没有限制运动部的中点。

[0096] 图11A至图11D示出了图2所示的上限止动件的具体实例。在这些图中，限制运动构件设置在限动构件内。图11A为键盘装置的俯视简图。图11B为示出从下方观察时上限止动件30的立体图。图11C和图11D示出了上限止动件30的操作。在这些图中，与图1A至图1C和图2中使用的部件相似的部件采用与图1A至图1C和图2中的附图标记相同的附图标记表示。在图11A和图11B中，省略了颗粒11。

[0097] 如图11A所示，限制运动构件101具有形状如同字母H形的水平横截面，如同图10A所示的下限止动件29的限制运动构件91的情况。限制运动构件101具有竖直壁101a和凸缘101b。在该实例中，竖直壁101a和重力防止颗粒11沿键运动。限制运动构件101固定至作为基部的键架水平部23a的底面。或者，限制运动构件101与键架水平部23a一体成形。

[0098] 在限制运动构件101中，如图11A所示，限制运动部位于质量集中部28e不会碰撞的点处，即，处于相邻的质量集中部28e之间的中点处。如图11D所示，在初始状态，颗粒11由于重力而降低。如果容纳在封闭区域内的颗粒11的数量少，则被用作顶棚的键架水平部23a的下方产生空隙102。

[0099] 如图11C所示，当由质量集中部28e的碰撞产生的荷载施加至封闭构件12时，尽管有重力，颗粒11仍向上散开，跳进空隙102内。在散开时，竖直壁101a导致颗粒11主要沿碰撞力方向(沿竖直方向向上)运动，防止颗粒11挤压通过封闭构件12与竖直壁101a之间的空隙而沿键宽度方向运动。如图11D所示，当移除由质量集中部28e施加的荷载以返回至初始状态时，颗粒11由于重力再次降低。

[0100] 由于限制运动构件101的竖直壁101a由竖直面构成，如上所述，当颗粒11向上运动以及当颗粒11由于重力降低时，防止了颗粒11沿键运动。另外，由于竖直壁101a，对颗粒11的摩擦阻力保持为最小。由此，并没有削弱在质量集中部28e碰撞时的响应和从荷载的移除到回复至初始状态时的响应。

[0101] 图12A至图12D示出了图2所示的上限止动件的不同具体实例。在这些图中，限制运动构件设置在限动构件内。这些图分别示出了限制运动构件的一个单元。图12A中示出的限制运动构件111以图11A至图11D中示出的限制运动构件101为基础，然而，限制运动构件111具有高度较低的凸缘111b和竖直壁111a，该竖直壁111a的、面向封闭构件12的端部为圆形，以便于使该竖直壁111a与封闭构件12的侧截面相一致。

[0102] 图12B中示出的限制运动构件112采用具有圆形开口112a的筒体，筒形竖直壁112b被用作近似竖直地设置的壁构件。图12C中所示的限制运动构件113采用具有翻转(flipped)的Z形水平截面的构件。限制运动构件113具有朝键的设置方向倾斜的竖直壁
13a、和支承竖直壁113a的两侧的凸缘113b。图12D中所示的限制运动构件114采用形状类似中空鞍状物的构件，该鞍状物具有略微倾斜的表面114b。位于该鞍状物的前面和后面的半圆形侧面是一对竖直壁114a。

[0103] 图12A至图12D中示出的限制运动构件111至114分别具有竖直壁。该竖直壁被用作近似竖直地设置的壁构件，以防止颗粒11沿键运动超出竖直壁。上述限制运动构件111至114固定至作为基部的键架水平部23a。或者，各个限制运动构件111至114与键架水平部23a一体成形。限制运动构件111至114可以部分连接至未示出的封闭构件12。

[0104] 图13示出了图2所示的上限止动件的其它不同具体实例。在该图中，限制运动构件设置在限动构件内。图13为从下方示出上限止动件的立体图。在该图中，与图1A至图1C和图2中使用的部件相似的部件采用与图1A至图1C和图2中的附图标记相同的附图标记表示。通过连接图1A至图11D中示出的限制运动构件101的多个限制运动部以获得一体的构件，从而形成限制运动构件121。限制运动构件121具有竖直壁121a和弧形侧板
121b。该竖直壁121a被用作限制运动部，而竖直地位于侧板121b的弧形凹部下方的多个点分别是与质量集中部28e碰撞的点。

[0105] 上述限制运动构件121固定至作为基部的键架水平部23a。或者，限制运动构件121与键架水平部23a一体成形。作为将密封的封闭构件12固定至作为基部的键架水平部
23a的替代，密封的封闭构件12可以固定至弧形侧壁121b的侧面121c，该侧面121c位于键架水平部23a的附近。

[0106] 只要上述限制运动构件的限制运动部位于相邻的质量体28的质量集中部28e之间的中点处，限制运动部就可以设置用于所有相邻的质量集中部28之间的中点。或者，限制运动部可以以期望的间隔设置，以具有没有限制运动部的中点。上述限制运动构件是设置用于质量体28的质量集中部28e的上限止动件30，然而，上述限制运动构件可以设置成用于限制键运动的上限止动件6。

[0107] 在键盘装置处于靠在壁上的情况下或在键盘装置纵向地由支架支承的情况下，尽管采用了图8A至图8C、图9A、图9B、图10A、图10B、图11A至图11D、图12A至图12D或图13中所示的限制运动构件，由封闭构件包围的颗粒仍可以沿键分散。这种分散可能导致演奏者辨别出高音键和低音键之间的键触觉的变化，或者可能丧失期望的减震性能。

[0108] 因此，在下述具体实例中，限动构件被设计成具有分开的封闭区域，以阻止颗粒11沿键运动。另外，不管长期使用或抵靠在墙上，这些实例被设计成不仅防止颗粒在操作过程中运动到不期望的区域，而且长期保持限动构件的性能。

[0109] 图14示出了图2所示的下限止动件的具体实例。在图14中，在限动构件的外部设置阻止运动构件。在该图中，与图1A至图1C和图2中使用的部件相似的部件采用与图1A至图1C和图2中的附图标记相同的附图标记表示。在图14中，未示出颗粒11。阻止运动构件131具有臂部131a、支承臂部131a的支承部131b和将支承部131b固定至键架底板
24的基部131c。通过该阻止运动构件131，由封闭构件12包围的“颗粒袋”的接合处132和“颗粒袋”的腹部133形成于键架底板24上。

[0110] 臂部131a位于封闭构件12的外部，以被用作从封闭构件12的外部挤压“颗粒袋1”的阻止运动构件。臂部131a将由“颗粒袋”形成的下限止动件29的封闭区域分成多个腔。由于颗粒11被限制在分开的封闭区域(腔)内，从而阻止了颗粒11沿键运动。由于上述接合处132(断开处)并没有传递减震性能，因而将接合处132设置在相邻的质量集中部28e之间无需减震的中点处。质量集中部28e与腹部133的顶部(断开处之间的中点)相碰撞。

[0111] 图15A和图15B示出了图2所示的下限止动件的具体实例。这些图示出了限动构件，这些限动构件的封闭构件具有密封部。首先，如图15A所示，封闭构件141制成形状如同袋状。更具体地说，呈平面的矩形材料折叠成双层以将上端141a重叠在相对的下端141b上，并将它们接合在一起以形成管状封闭构件141。上端141a和下端141b可以通过用于接合相对表面的常用的任意方法接合在一起，所述方法例如为熔接材料、利用粘合剂接合、利用线缝在一起、用夹子夹住等。

[0112] 接着，使管状封闭构件141的一端密封，同时将颗粒11从另一端注入到封闭构件141中。如图15B所示，然后将由封闭构件141包围颗粒11的封闭区域分成多个腔。在分隔时，位于断开处的颗粒11移动以挤压封闭构件的上层和下层，从而使得这两层叠置以近似形成直线。之后，与所述两端(上端141a和下端141b)的接合类似，将封闭构件141的叠置层相接合。被接合的近似线形的断开处是平坦的密封部141c。如图15B所示，密封部
141c沿着与沿两端引出的线垂直的方向形成(垂直于键的设置方向)。

[0113] 为了形成密封部141c，优选的是，在密封部接合之前，朝着所设置的键的中心轴线方向牵拉封闭构件141并使封闭构件141聚集，由此封闭区域的横截面扩大，从而允许包围大量颗粒11。在每次形成密封部141c时，可以完成将颗粒11注入袋状封闭构件141。

[0114] 图16A至图16C示出了具有图15A和图15B所示的管状封闭构件的不同具体实例。图16A中示出的封闭构件142采用两片平坦矩形材料。一片材料的左端142a和右端142b分别叠置在另一片材料的左端142c和右端142d上，并使所述端接合。所述端采用与图15A和图15B中的例子类似的方式接合。在图16B中示出的封闭构件143中，旋转平坦材料以将内端143a叠置在外端143b上，并使它们接合在一起。图16C采用管状体144。管状体144的实例包括形成袋子的平织物、循环编织制品和管状的注塑成型薄膜。同样，在图
16A至图16C中示出的这些实例中，在断开处上近似线形地形成的密封部采用与图15A和图
15B的例子中类似的方式形成。

[0115] 图17A至图17E示出了一种键盘装置，该键盘装置采用具有图15A和图15B所示的近似线形的密封部的管状封闭构件。对图17A至图17E中示出的键盘装置的说明将以图2中所示的结构为基础。与图2中采用的部件类似的部件使用与图2中的附图标记相同的附图标记表示。图17A示意性地示出了电子乐器的键盘装置的右视图。图17B至图17E示出了上限止动件的操作。

[0116] 图17A中示出的下限止动件151和上限止动件152分别限制质量体28的动作。下限止动件151和上限止动件152是限动构件，该限动构件采用具有参照图15A和图15B描述的近似线形的密封部141c的封闭构件141。限制白键主体21的动作的下限止动件153和未示出的、限制黑键主体22的动作的下限止动件可以分别采用类似的限动构件。这些止动件设置成使它们具有水平碰撞面。将各个限动构件固定。或者，密封部141c由诸如图14中示出的臂部131c之类的构件支承，由此相应的限动构件保持其初始形状。

[0117] 如图17B所示，封闭构件141的腹部的底面接受由质量集中部28e施加的碰撞荷载。限动构件设置在键架的水平部23a上，以使该腹部的底面变成几乎平行于近似线形的密封部141c。类似地，用于键的下限止动件153设置成使接受碰撞荷载的腹部的顶面变成几乎平行于近似线形的密封部141c。这种设置允许质量集中部28e以几乎垂直于密封部141c的角度与封闭构件141碰撞，以施加碰撞荷载，从而导致封闭构件141的碰撞面平稳地变为近似平坦。因此，尽管封闭构件141具有密封部141c，封闭构件141也能在作为接合处的密封部141c与作为腹部的碰撞部之间平稳地变形，从而正常地传递减震性能。

[0118] 如图17C所示，可以采用源于图15A中所示的封闭构件141的封闭构件154。更具体地说，通过开启封闭构件141的顶面和底面而形成封闭构件154，从而提供了这样的封闭构件154：沿着垂直于叠置的端部的方向平坦，且线形密封部154c近似垂直于由端部引出的线。而且，在该例子中，限动构件设置在键架的水平部23a上，由此腹部的底面变为几乎平行于近似线形的密封部154c。当施加碰撞荷载时，封闭构件154的碰撞面平稳地变为近似平坦，从而为该具体实例确保了正常的减震性能。

[0119] 如作为比较实例的图17D所示，假设上限止动件152设置成使封闭构件141的顶面和底面以及密封部141c近似地垂直于水平部23a。当将碰撞荷载施加在上限止动件152上时，如图17E所示，封闭构件141被向下挤压，从而具有沿垂直于近似线形的密封部141c的水平方向的横截面为平面。然而，密封部141c会尽力保持沿竖直方向为近似线形的形状，从而导致密封部141c垂直于碰撞面。由此，该碰撞引起封闭构件141在该封闭构件141的碰撞部(腹部)和密封部141c(接合处)之间产生严重变形。因此，这种设置不仅妨碍了平稳的减震而且对由演奏者所感知到的触觉产生不好的影响，从而降低了封闭构件141的耐用性。

[0120] 上限止动件152的上述行为方式可以类似地应用于下限止动件151、153。另外，上限止动件152的行为方式可以类似地应用于这种情况，即，具有参照图15A、图15B描述的封闭构件141的限动构件应用于用于键的枢转的下限止动件5和上限止动件6，所述下限止动件5和上限止动件6应用于图1A至图1C所示的键盘装置。

[0121] 图18示出了不同的具体实例，该实例示出密封部形成于图15A和图15B所示的管状封闭构件上。利用挤压构件162在密封部161a处挤压封闭构件161。对封闭构件161的材料没有限制，由此可以使用图3A至图3C中示出的封闭构件。在该具体实例中，通过利用挤压构件162挤压封闭构件161而形成密封部161a，由此密封部161a呈近似点状。

[0122] 挤压构件162可以为橡胶、线或绳。封闭构件161利用线或绳进行包扎、利用橡胶固定或利用线缝制以形成密封部161a。或者，可以将金属环用作挤压构件162，以利用金属环压紧封闭构件161。另外，在不使用挤压构件162的情况下，可以通过扭转封闭构件161自身而形成密封部161a。

[0123] 与图15A和图15B示出的近似线形的密封部141c相比，通过挤压密封构件161以具有呈近似点状的密封部161a、从而形成限动构件的组合是较容易的。另外，封闭构件161具有横截面近似为圆形的内封闭区域，能够容纳大量颗粒11。另外，如参照图17A至图17E所描述的，近似线形的密封部141c具有质量体或键与封闭构件141相碰撞的碰撞角度的问题(角度的各向异性)，然而，即使质量体或键以任何角度与封闭构件161的腹部相碰撞，形状呈近似点状的密封部161a不会施加任何影响。

[0124] 在图14、图15A、图15B、图16A至图16C、图17A至图17E和图18中，密封部设置在封闭构件上以将封闭区域分成多个封闭区域，由此阻止颗粒沿着键运动。密封部设置在键或与键同步枢转的质量体(枢转构件)发生碰撞的多个点之问的每个中点处。更具体地说，对于质量体来说，相邻质量体之间的每个中点处均具有密封部。对于键来说，密封部设置在每个键的中点处。

[0125] 然而，密封部可以不必设置在每个中点处。另外，由密封部分开的每个封闭区域均可以包括图8A至图8C、图9A、图9B、图10A、图10B、图11A至图11D、图12A至图12D和图13中示出的限制运动构件。示出图2所示的下限止动件的具体实例的图19A至图19B为示出形成于封闭构件上的密封部的布置的示意性俯视图。至于下限止动件，图19A和图19B以具有图15A和图15B中所示的封闭构件的限动构件为基础。在图19A和图19B中，与图2中使用的部件相似的部件采用与图2中的附图标记相同的附图标记表示，并省略详细的描述。

[0126] 在图19A中示出的限动构件171上，由密封部171a形成的断开处位于相邻的质量集中部28e之间的每个中点处。在图19B中示出的限动构件172上，相邻的三个质量集中部28e被视为一组，以利用该组将限动构件172分开。在限动构件172上，由密封部形成的断开处172a设置在相邻的组之间的中点处。更具体地说，视为一组的质量集中部28e共用一个封闭区域。由此，可以简化密封部172的结构和制作。通常，每个组具有相同数量的质量集中部28e，然而，组与组之间的质量集中部28e的数量可以不同。

[0127] 在参照图15A、图15B、图16A至图16C、图1A至图17E和图18描述的具体实例中，管状密封构件均具有密封部。但是，在限动构件不具有图1A至图1C、图2、图3A至图3C、图4A至图4E、图5、图6、图7A、图7B、图8A至图8C、图9A、图9B、图10A、图10B、图11A至图11D、图12A至图12D、图13和图14(在这些图中封闭构件固定至基部以进行密封)中示出的密封部的情况下，可以采用管状封闭构件。由于对颗粒的处理有助于简化装备，因而优选的是，在将封闭构件固定至键架之前将颗粒填入封闭构件。

[0128] 在本说明书中，上限止动件和下限止动件(限动构件)位于典型的位置上，然而，上限止动件和下限止动件可以位于不同于所示出的位置的任何位置上，只要止动件能够执行用于键或与键同步枢转的质量体(枢转构件)的限动性能。更具体地说，上限止动件和下限止动件(限动构件)不必设置在键架自身上，而是，只要止动件设置在固定枢转构件的一侧上，则止动件可以设置在任何位置。更具体地说，止动件可以设置在键架侧上的任何期望的固定构件上。