曝光装置

摘要

本发明提供一种曝光装置，在通过使基板和掩模相对移动来进行图案曝光时，可对非曝光区域适当地遮光。在曝光区域的曝光中，通过对该曝光用的光EL横切遮光构件(20)并向上游侧移动，不管曝光区域个数，使用一个遮光构件(20)都可以避免非曝光区域的曝光。

权利要求

1.一种曝光装置，其特征在于具有：

照射部，该照射部照射曝光用的光；

基板驱动部，该基板驱动部保持具有曝光区域和非曝光区域的基板，使该基板横切由所述照射部射出的曝光用的光，并且使该基板向规定方向移动；

配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差的方向上延伸、遮光的第一遮光构件；

第一驱动部，该第一驱动部使所述第一遮光构件移动到遮挡从所述照射部射出的曝光用的光的位置；

配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差的方向上延伸、遮光的第二遮光构件；

第二驱动部，该第二驱动部保持所述第二遮光构件，并将该第二遮光构件相对于所述第一遮光构件独立地移动到遮挡所述照射部射出的曝光用的光的位置，所述第一驱动部驱动所述第一遮光构件，以使其在所述照射部向所述曝光区域照射光的期间，至少一次地横切所述照射部射出的光，并向所述规定方向的反方向移动，所述第二驱动部根据所述第一遮光构件的动作，驱动所述第二遮光构件，以使得所述第一遮光构件和所述第二遮光构件在所述曝光用的光的照射区域溢出规定量，由此控制所述曝光区域的曝光量的不平衡。

2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件具有一个带状的遮光部，所述第二遮光构件具有两个带状的遮光部。

3.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件在所述规定方向上的宽度是可变的。

4.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件以与中间成像区域相适合的方式形成边缘。

5.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于根据所述第一遮光构件的速度或加速度，遮挡从所述照射部朝向所述曝光区域的一部分光。

6.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于所述第一及第二驱动部驱动所述第一及第二遮光构件，使所述基板在曝光区域的曝光量恒定。

7.如权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

所述基板的曝光区域具有横截部分，在将光从所述照射部向所述曝光区域照射的期间，通过移动所述第一遮光构件横切来自所述照射部的光，该横截部分遮光，所述第一及第二驱动部驱动所述第一及第二遮光构件，使得所述曝光区域的曝光量为固定的量。

说明书

曝光装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种曝光装置，例如涉及对在液晶显示器及等离子显示器等大型平板显示器的基板上曝光复制掩模上的掩蔽图案适合的曝光装置。

背景技术

[0002] 用于大型的薄型电视等的液晶显示器、等离子显示器等大型平板显示器通过利用分割逐次曝光方式，在基板上接近曝光复制掩模的图案来制造。作为现有这种分割逐次曝光装置，例如众所周知，使用比作为被曝光材料的基板小的掩模，由掩模台保持该掩模，同时由工件台保持基板，将两者近接对置配置，以该状态使工件台相对于掩模步进移动，在每一步从掩模侧对基板照射图案曝光用的光，在基板上曝光复制描绘于掩模上的多个掩蔽图案，在一片基板上制作多个显示器等。特别是，用专利文献1的技术，通过使比其小型的掩模和光源同步移动，就可以给大型的基板曝光掩模的图案。

[0003] 专利文献1：特开平11-237744号公报

[0004] 但是，在从大型的玻璃基板切出多个面板时，给与面板对应的玻璃基板上的区域曝光复制曝光图案，但与相邻的面板彼此之间对应的区域是不应照射曝光用的光的非曝光区域。因此，可以考虑，通过在光源和玻璃基板之间设置遮光构件，用以覆盖非曝光区域，使曝光用的光不能到达非曝光区域。但是，在从一片玻璃基板切出的面板的种类和数量不同时，不能与其对应地设置多种形状的遮光构件，从而存在增加成本及增大空间的等问题。

发明内容

[0005] 于是，本发明是鉴于这样现有技术的课题而研制的，其目的在于提供一种曝光装置，通过使基板和掩模相对移动，在进行图案曝光时，可使用遮光构件将非曝光区域适当地遮光。

[0006] 上述目的通过以下结构实现。

[0007] (1)一种曝光装置，其特征在于具有：

[0008] 照射部，该照射部照射曝光用的光；

[0009] 基板驱动部，该基板驱动部保持具有曝光区域和非曝光区域的基板，横切由所述照射部射出的曝光用的光并使该基板向规定方向移动；

[0010] 配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差的方向上延伸、遮光的第一遮光构件；

[0011] 第一驱动部，该第一驱动部使所述第一遮光构件移动遮挡将自所述照射部射出的曝光用的光的位置；

[0012] 配置于所述照射部与所述基板之间并在相对于所述规定方向交差的方向上延伸、遮光的第二遮光构件；

[0013] 第二驱动部，该第二驱动部保持所述第二遮光构件，并将该第二遮光构件相对于所述第一遮光构件独立地移动到遮挡所述照射部射出的曝光用的光的位置，[0014] 所述第一驱动部驱动所述第一遮光构件，以使其在从所述照射部向所述曝光区域照射光的期间，至少一次地横切所述照射部射出的光，并向所述规定方向的反方向移动，[0015] 所述第二驱动部根据所述第一遮光构件的动作，驱动所述第二遮光构件。

[0016] (2)如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件具有一个带状的遮光部，所述第二遮光构件具有两个带状的遮光部。

[0017] (3)如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件在所述规定方向上的宽度是可变的。

[0018] (4)如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一遮光构件配合中间成像区域，以形成边缘。

[0019] (5)如(1)所述的曝光装置，其特征在于根据所述第一遮光构件的速度或加速度，遮挡从所述照射部朝向所述曝光区域的一部分光。

[0020] (6)如(1)所述的曝光装置，其特征在于所述第一及第二驱动部驱动所述第一及第二遮光构件，使所述基板在曝光区域的曝光量恒定。

[0021] (7)如(6)所述的曝光装置，其特征在于，

[0022] 所述基板的曝光区域具有横截部分，在将光从所述照射部向所述曝光区域照射的期间，通过移动所述第一遮光构件横切来自所述照射部的光，该横截部分遮光，[0023] 所述第一及第二驱动部驱动所述第一及第二遮光构件，使得所述曝光区域的曝光量与该横截部分的曝光量相等。

[0024] 根据本发明的曝光装置，所述第一驱动部驱动所述第一遮光构件，使其在从所述照射部向所述曝光区域照射光的期间，至少一次横切来自所述照射部的光，并向所述规定方向的反方向移动，因此，可以仅仅用单个第一遮光构件就可以适当地遮光，使曝光用的光不能到达非曝光区域而不管其宽度及个数。另外，由于是小型轻量的结构，故实现了曝光装置整体的简化、小型化。另外，由于所述第二驱动部根据所述第一遮光构件的动作驱动所述第二遮光构件，故例如在所述第一遮光构件横切来自所述照射部的光并向所述规定方向的反方向移动时，通过配置所述第二遮光构件遮蔽来自所述照射部的一部分光，可抑制曝光量的偏差。

[0025] 优选的是，所述第一遮光构件具有一个带状的遮光部，所述第二遮光构件具有两个带状的遮光部。所述第二遮光构件也可以为コ字状或 字状。

[0026] 所述第一遮光构件在将所述规定方向的宽度设为可变时，可进行适当地遮光而与非曝光区域的宽度无关。另外，若横切来自所述照射部的光并向所述规定方向的反方向移动时减小宽度，则也可以抑制曝光区域上的曝光量下降。

[0027] 所述第一遮光构件配合中间成像区域而形成边缘时，可抑制边界的模糊，所以是所希望的。

[0028] 根据所述第一遮光构件的速度或加速度将自所述照射部朝向所述曝光区域的一部分光遮光时，可横切来自所述照射部的光并抑制向所述规定方向的反方向移动时的曝光量的减少。

附图说明

[0029] 图1是第一实施方式的曝光装置的俯视图；

[0030] 图2是表示本实施方式的曝光装置曝光时的状态的侧视图；

[0031] 图3是表示遮帘和孔径构件和基板的立体图；

[0032] 图4是在Z轴方向观察到的遮光板20、孔径构件30和基板W的图。

[0033] 图5是表示曝光动作的流程图；

[0034] 图6是遮光板20的移动的时间图；

[0035] 图7是在Z轴方向看到的基板W的图；

[0036] 图8是变形例的遮光板20的移动的时间图；

[0037] 图9是变形例的遮光板20的移动的时间图；

[0038] 图10是变形例的遮光板20的移动的时间图；

[0039] 图11是变形例的遮蔽光板20的移动的时间图；

[0040] 图12是变形例的遮光板20的移动的时间图；

[0041] 图13是在Y轴方向看到的另一变形例的遮光板20的图；

[0042] 图14是在Y轴方向看到的又一变形例的遮光板20的图。

[0043] 符号说明

[0044] 1 基座

[0045] 2 基板卡盘

[0046] 2a 轨道

[0047] 10 保持装置

[0048] 11 臂

[0049] 12 保持部

[0050] 13 Z轴移动装置

[0051] 14 θ轴移动装置

[0052] 15 Y轴移动装置

[0053] 20 遮光板

[0054] 20a～20d 薄板条构件

[0055] 21、22 板材

[0056] 30 孔径构件

[0057] 31、32 纵向构件

[0058] 33、34 横向构件

[0059] 35 连接构件

[0060] EG 边缘

[0061] EL 曝光用的光

[0062] ER1 曝光区域

[0063] ER2 曝光区域

[0064] ER3 曝光区域

[0065] FP 中间成像位置

[0066] GS1 导轨

[0067] GS2 导轨

[0068] L 掩模输送路线

[0069] LM1、LM2 线性电动机

[0070] LS 光源

[0071] M 掩模

[0072] NR1 非曝光区域

[0073] NR2 非曝光区域

[0074] NR3 非曝光区域

[0075] NR4 非曝光区域

[0076] OPU 曝光组件

具体实施方式

[0077] 下面，参照附图对本发明的最佳实施方式进行说明。图1是本实施方式的曝光装置的俯视图，图2是表示本实施方式的曝光装置曝光时的状态的侧视图。另外，以下的实施方式中，假设在X轴方向和Y轴方向规定水平面，在Z轴方向规定垂直方向。

[0078] 图1中，在基座1上，大片薄板状的基板W由基板卡盘(基板驱动部)2把持，沿轨道2a与基板卡盘2一同自左向右可移动。在基座1上，夹着掩模输送路线(也称作掩模输送路径)L在左侧(上游侧)配置有7个、在右侧(下游侧)配置有6个(合计13个)吸附保持掩模M的保持装置10。夹着掩模输送路线L锯齿状交互配置由保持装置10保持的比基板W小型的掩模M。另外，图1中，左侧的7个保持装置10和右侧上起3个保持装置10位于曝光位置，右侧下起3个保持装置10位于掩模交接位置。另外，图1中，MS1、MS2为掩模储存器，RBT为输送机器手，AM表示输送臂。

[0079] 各保持装置10具有：在基座1上沿X轴方向的图2中左右方向(为相对于图1中掩模输送路线L正交的方向，假定基板W沿X轴方向自左向右移动)相对于未图示的构架可移动地配置的臂11、配置于臂11的前端且下面吸附保持掩模M的保持部12、相对于臂11在Z轴方向(图2中上下方向)驱动保持部12的Z轴移动装置13、驱动保持部12绕基座1的上面的法线旋转的θ轴移动装置14、相对于臂11在Y轴方向(图2中与纸面垂直的方向)驱动保持部12的Y轴移动装置15。保持部12具有未图示的矩形开口。在基座1上，与基板W的下面对置安装有喷出吸引组件(未图示)。

[0080] 在使用本实施方式的曝光装置进行曝光动作时，首先通过未图示的驱动部使基板W与基板卡盘2一同沿轨道2a自左向右移动。此时，基板W以离开喷出组件(未图示)上面浮起的状态沿X轴方向输送，防止给基板W的下侧面造成损伤等。

[0081] 一边使基板W移动到规定位置一边自上方的曝光组件(照射部)OPU内的光源LS投射曝光用光EL时，这样的曝光用光EL就通过由保持装置10保持的掩模M，将其图案曝光复制于基板W上。此时，基板W的移动误差引起的图案偏差可通过利用保持装置10的Z轴移动装置13、θ轴移动装置14、及Y轴移动装置15微调整掩模M的位置来校正。同样，通过进行连续曝光，可对整个基板W进行图案的曝光。另外，本实施方式中，由于由掩模输送路线L的两侧保持的掩模M锯齿状地配置，故即使掩模输送路线L的单侧的掩模M分开配置，也可以在基板W上无间隙地形成图案。

[0082] 但是，在从基板W切出多个面板时，在与面板对应的基板W上的区域虽然曝光复制曝光图案，但与相邻的面板彼此之间对应的区域是非照射曝光用光的非曝光区域。因此，本实施方式中，在固定了的曝光组件OPU和基板W之间配置有遮光板20和孔径构件30。

[0083] 图3是表示遮帘和孔径构件和基板的立体图，掩模等被省略。下面，为便于理解，基板描绘为只是具有一列曝光区域，但实际上存在多列。图3中，作为第一遮光构件的遮光构件20具有与X轴方向正交(即Y轴方向)延伸的两片板材(遮光部)21、22。板材21、22均通过设于一方的未图示的驱动机构在X轴方向彼此可相对移动，以重叠的状态具有一个直线状带，它们的端部与线性电动机LM1连接。作为第一驱动部的线性电动机LM1通过未图示的驱动器沿导轨GS1在X轴方向移动自如。通过使板材21、22在X轴方向相对移动，配合非曝光区域可任意变更遮光部的宽度。

[0084] 另一方面，作为第二遮光构件的大致“口”字状的孔径构件30由在X轴方向延伸的一对纵向构件31、32、将纵向构件31、32的两端分别连接并在Y轴方向延伸的两个带状的横向构件(遮光部)33、34、将纵向构件31的中央与线性电动机LM2连接而成的连接构件35构成。作为第二驱动部的线性电动机LM2通过未图示的驱动器沿导轨GS2在X轴方向移动自如。遮光构件20和孔径构件30在可将曝光用的光EL遮光的位置移动自如。

[0085] 接着，对曝光时的遮光构件20和孔径构件30的动作进行说明。图4是在Z轴方向看到的遮光构件20、孔径构件30和基板W的图，概略表示曝光时的动作。图5是表示曝光动作的流程图。另外，在使用具有中间成像的光学系统的情况下，有时遮光构件20及孔径构件30的动作和遮光的非曝光区域(映像)的动作方向相反，但在此为便于理解，将映像的动作作为遮光构件20及孔径构件30的动作进行说明。另外，在采用具有中间成像的光学系统的情况下，有时遮光构件20及孔径构件30的移动量、和进行遮光的非曝光区域(映像)动作的量不同，但在此为便于理解，将映像动作的量作为遮光构件20及孔径构件30的移动量进行说明。

[0086] 图4(a)表示遮光构件20、孔径构件30和基板W的形状及相对位置对曝光用光EL的关系。在此，阴影表示基板W的曝光区域(ER1、ER2、ER3)，白地表示非曝光区域(NR1、NR2、NR3、NR4)。另外，下面未详细图示，但遮光构件20和孔径构件30与基板W的移动同步，通过驱动线性电动机LM1、LM2(图3)在X轴方向两方向可移动。

[0087] 在此，基板W朝向曝光用的光EL的照射区域(图中点划线)在X轴方向(图中右方)移动时，首先，最初的非曝光区域NR1与曝光用的光EL的照射区域接近。于是，如图4(b)所示，使孔径构件30在X轴方向(图中左方)移动，且通过横向构件33将曝光用的光EL遮光(图5中步骤S101)。通过以这样的遮光状态使基板W侵入孔径构件30的下方，可避免非曝光区域NR1的曝光。

[0088] 另外，通过基板W在同方向的移动，曝光区域ER1与曝光用的光EL的照射区域接近起来。此时，让孔径构件30对基板W相对静止，且通过横向构件30将曝光用的光EL继续进行遮光时，不进行曝光区域ER1的曝光。于是，如图4(c)、(d)所示，使孔径构件30的横向构件33与非曝光区域NR1的移动同步在图中向右方移动，使曝光用的光EL对曝光区域ER1进行照射(图5中步骤S102、S103)。孔径构件30在横向构件33脱离曝光用的光EL的照射区域的时刻停止。

[0089] 另外，通过基板W在同方向的移动，如图4(e)所示，临近曝光区域ER1的曝光结束，非曝光区域NR2接近曝光用的光EL的照射区域。此时，由于孔径构件30的横向构件33位于曝光用的光EL的照射区域的相反侧，故使用其不能将非曝光区域NR2遮光。于是，如图4(f)所示，通过在曝光用的光EL的照射区域的上游侧待机(包含与基板W同步移动的状态，以下相同)的遮光构件20将曝光用的光EL遮光(图5中步骤S105)。通过在照旧由遮光构件20遮光的基板W侵入遮光构件20的下方，可避免非曝光区域NR2的曝光。

[0090] 通过基板W进一步在同方向移动，曝光区域ER2接近曝光用的光EL的照射区域。通过使与非曝光区域NR2的宽度对应的遮光构件20以与基板W相同的速度在同方向移动，如图4(g)所示，接着非曝光区域NR2进行曝光区域ER2的曝光(图5中步骤S106)。

[0091] 可是，在遮光构件20照旧位于曝光用的光EL的照射区域的下游侧，变成没有将下一非曝光区域NR3遮光的遮光部。于是，在本实施方式中，曝光区域ER2在曝光中，使遮光构件20从曝光用的光EL的照射区域的下游侧朝向上游侧(自右侧向左侧横切照射区域)移动。

[0092] 更具体地进行说明，如图4(h)及图4(i)所示，曝光区域ER2在曝光中，使遮光构件20横切曝光用的光EL的照射区域从下游侧向上游侧移动(图5中步骤S107)。此时，要使板材21、22重合以缩小遮光构件20的宽度，由此，可极力地减小对曝光的影响。

[0093] 通过基板W进一步在同方向移动，如图4(j)所示，临近曝光区域ER2的曝光结束，非曝光区域NR3接近曝光用的光EL的照射区域。在该时刻，遮光构件20在曝光用的光EL的照射区域的上游侧待机，因此，如图4(k)所示，使用其将曝光用的光EL遮光(图5中步骤S105)。通过使照旧由遮光构件20遮光的基板W侵入遮光构件20的下方，可避免非曝光区域NR3的曝光。

[0094] 通过基板W进一步在同方向移动，曝光区域ER3接近曝光用的光EL的照射区域。与上述相同，通过使与非曝光区域NR3的宽度对应的遮光构件20以与基板W相同的速度在同方向移动，接着非曝光区域NR3进行曝光区域ER3的曝光(图5中步骤S106)。

[0095] 另外，如图4(1)所示，曝光区域ER3在曝光中，使遮光构件20横切曝光用的光EL的照射区域自下游侧向上游侧移动(图5中步骤S107)。此时，通过使板材21、22重叠以缩小遮光构件20的宽度，可极力地减小对曝光的影响。

[0096] 在曝光区域为4以上的情况下，重复同样的动作，且全部的曝光区域的曝光结束后(图5中步骤S108)，如图4(m)所示，使孔径构件30在X轴方向移动，可通过横向构件34将曝光用的光EL遮光，由此，可避免非曝光区域NR4的曝光(图5中步骤S110)。另外，非曝光区域NR4也可以使遮光构件20向上游侧移动来遮光。

[0097] 根据本实施方式，在曝光区域的曝光中，通过使遮光构件20相对于该曝光用的光EL向上游侧移动，可使用一个遮光构件20避免非曝光区域的曝光而与曝光区域数无关。另外，图4中，虽然曝光用的光EL未照射曝光区域ER1整体，但未曝光的剩余部分(上下的部分(图4(m)的右上阴影部))通过下游侧(或上游侧)的曝光用的光EL进行曝光(参照图1)。

[0098] 但是，在曝光中遮光构件20横切并移动的曝光区域(ER2等)，平均曝光量比曝光中无遮光构件20横切的曝光区域(ER1)降低。因此，本实施方式中，通过根据遮光构件20的动作，使遮光构件20及孔径构件30在照射区域溢出规定量，由此控制曝光区域的曝光量的不平衡。下面，对这样的实施方式进行说明。

[0099] 图6是取横轴表示遮光构件20和孔径构件30的位置、取纵轴表示时间的时间图，将由遮光构件20遮光的区域和由孔径构件30的横向构件33、34遮光的区域区分表示。图7是在Z轴方向看到的基板W的图。

[0100] 首先，在图6中时刻t1，由孔径构件30将非曝光区域遮光进入曝光准备，但将遮光构件20配置在曝光用的光EL的照射区域上游侧溢出宽度△。从时刻t2开始曝光区域ER1的曝光时，位于曝光区域ER1的前头一侧的点A(图7)的曝光时间(暴露于曝光用的光EL的时间)为ET。另外，在时刻t3，使孔径构件30的横向构件33在X轴方向移动，与遮光构件20重叠。

[0101] 在时刻t4，遮光构件20因为起始不稳定，一度向上游侧移动，而成为将横向构件33配置在曝光用的光EL的照射区域的上游侧溢出宽度△的状态。因此，即使在处于曝光区域ER1的后头一侧的点B(图7)，曝光时间也为ET。遮光构件20边自上游侧加速边向下游侧移动。因此，在时刻t5以一定速度与基板W同步移动。由此，非曝光区域NR1(图7中点C)被遮光。将此时的遮光构件20的宽度设为D1。该时刻，孔径构件30的横向构件33退避到上游侧。

[0102] 在时刻t6，开始曝光区域ER2的曝光。在时刻t7，将孔径构件30的横向构件34配置在曝光用的光EL2的照射区域的下游侧溢出宽度△。在下游侧使孔径构件30溢出的理由，是因为在非曝光域进行遮光构件20的移动后的减速。在曝光区域ER2的前头一侧，即使在遮光构件20未通过的点D(图7)，曝光时间也为ET。在时刻t8，非曝光区域NR1的遮光结束后，遮光构件20超行程，而且为了返回上游侧，所以改变方向开始加速。因此，在时刻t9以一定速度向基板的反方向同步移动。此时的遮光构件20的宽度为D2(≤D1)。

[0103] 在此，位于曝光区域ER2的中央的点E(横截部分)被逆走的遮光构件20遮光，因此，只有其通过的时间，曝光量降低。但是，在时刻t10，由于使孔径构件30的横向构件34退避到曝光用的光EL的照射区域的下游侧，故在其中央的点E(图7)，曝光用的光EL的照射区域从端到端可用曝光。即，设遮光构件20通过点E上之前的曝光时间为ET1、遮光构件20通过点E上之后的曝光时间为ET2时，ET1+ET2＝ET，不管是否被遮光构件20遮光，全部的曝光区域的曝光量均一定。之后，在时刻t11，孔径构件30的横向构件33成为配置在曝光用的光EL的照射区域的上游侧溢出宽度△的状态，即使在位于曝光区域ER2的后头一侧的点F(图7)，曝光时间也为ET。下面重复同样的动作。

[0104] 图8～图12是其它实施方式的与图6相同的流程图，符号a～e与图4所示的尺寸对应。另外，图8～图11的例子中，在脱离曝光用的光EL的照射区域之前使遮光构件20相对于基板W相对静止，从而不是孔径30，而是遮光构件20溢出到照射区域内进行遮光。

[0105] 前、后部的溢出量△可由下式求出。

[0106] Lm＝Lb×(Vw/(Vw+Vb)) (1)

[0107] Lu＝Lb×(Vw/(Vw+Vb)) (2)

[0108] 其中，

[0109] Lm：前部遮光长度(mm)

[0110] ＝遮光构件20、孔径构件30的溢出量△

[0111] Lu：后部遮光长度(mm)

[0112] ＝遮光构件20、孔径构件30的溢出量△

[0113] Vw：工件移动速度(mm/s)

[0114] Vb：遮光构件返回速度(mm/s)

[0115] Lb：遮光构件返回宽度(mm)

[0116] 首先，图8的例子中，将曝光用的光EL的照射区域的X轴方向宽度设为50mm，将遮光构件20的宽度设为固定的20mm，使遮光构件20和基板W沿X轴方向以100m/s移动，之后使遮光构件20向反方向以100mm/s移动，此时，遮光构件20的溢出量△为10mm。该例子中，与遮光构件20未横切曝光区域的情况相比，曝光量降低20％。

[0117] 图9的例子中，将曝光用的光EL的照射区域的X轴方向宽度设为50mm，将遮光时的遮光构件20的宽度设为20mm，但以返回时的宽度为10mm，使遮光构件20和基板W沿X轴方向以100mm/s移动，之后，使遮光构件20向反方向以100mm/s移动，此时，遮光构件20的溢出量△为5mm。该例子中，与遮光构件20未横切曝光区域的情况相比，曝光量降低10％。即，返回时缩小遮光构件20的宽度时，可抑制曝光量的降低。

[0118] 图10的例子中，将曝光用的光EL的照射区域的X轴方向宽度设为50mm，将遮光时的遮光构件20的宽度设为20mm，但以返回时的宽度为10mm，使遮光构件20和基板W沿X轴方向以100mm/s移动，之后，使遮光构件20向反方向以200mm/s移动，此时，遮光构件20的溢出量△为3.3mm。该例子中，与遮光构件20未横切曝光区域的情况相比，曝光量降低6.7％。即，增大遮光构件20返回时的速度时，可抑制曝光量的降低。

[0119] 图11的例子中，将曝光用的光EL的照射区域的X轴方向宽度设为50mm，将遮光时的遮光构件20的宽度设为20mm，但以返回时的宽度为10mm，使遮光构件20和基板W沿X轴方向以100mm/s移动，之后，将遮光构件20的速度增大到20mm/s返回，设此时的加速度为0.2G。此时，遮光构件20的溢出量△为3.3mm。该例子中，虽然遮光构件20的加减速度引起曝光量的减少，但最小曝光量相对于最大曝光量为98.9％，加速度的影响有限，可以说是实用的，但在期望更高精度的曝光时，优选以下叙述的图12的例子。

[0120] 图12的例子中，与图11的例子相对而言，使孔径构件溢出到照射区域内进行遮光代替使遮光构件20超行程，。该溢出量为3.3mm。由图12很清楚，但在曝光用的光EL的照射区域以外进行遮光构件20的加减速，若在照射区域内以固定速度移动，则曝光量不会减少。

[0121] 图13是在Y轴方向看到的变形例的遮光构件20’。图13所示的遮光构件20具有层叠的四个薄板条构件20a～20d。如图13所示，通过彼此不分间隔，使薄板条构件20a～20d在X轴方向相对移动，可将遮光范围SR调整到任意的长度(该例中从最小直到约4倍)。另外，在X轴方向，以决定两端的薄板条构件20a、20b的侧缘为锥面形成边缘EG，通过使这样的边缘EG在Z轴方向与曝光装置的中间成像位置FP一致，可进行高图像分辨率的曝光。

[0122] 图14是在Y轴方向看到的又一变形例的遮光构件20’。图14所示的遮光构件20具有弯曲了一片板材的形状。如图14所示，通过变更弯曲角度θ，可将遮光范围调整到任意长度。另外，通过使在X轴方向决定两端的边缘EG与在Z轴方向曝光装置的中间成像位置FP一致，遮光构件20可进行高图像分辨率的曝光。

[0123] 以上参照实施方式对本发明进行了说明，但本发明不应限于上述实施方式来解释，当然可进行适宜变更、改良。例如曝光区域和非曝光区域的数量是任意的。另外，在并设多个遮光板时，通过改变返回遮光板的时机，可使曝光显著均匀。另外，遮光构件的宽度也可以不可变而是固定的，可根据基板的非曝光区域更换为对应的宽度的遮光构件。

[0124] 本申请基于2006年5月16日提出的日本专利申请(特愿2006-136591)，引用其内容在此作为参照。