用于形成透明导电膜的组合物、透明导电膜和显示器转让专利

申请号 : CN200780029483.6

文献号 : CN101501149B

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相似专利:

发明人 : 室田正道池田洋大村邦夫室内圣人林贤儿沟口大刚村上雅昭

申请人 : 日本电材化成股份有限公司三菱综合材料株式会社大日本涂料株式会社

摘要 :

通过使用基料组分、充当导电粉末的氢氧化锡粉末和高折射率粉末;通过将氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒以预定比率分散在基料组分中;或通过以预定比率使用特定基料组分及作为导电粉末的氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末,可以提供可形成表现出优异抗静电作用、并具有极高的可见光透射率并且由于没有色彩吸收而提供具有自然色调的透射图像的透明导电膜的组合物,另外如果需要,所述膜也表现出优异的抗划伤性、高的防眩光作用或受控的膜折射率;可以提供这种透明导电膜;和在其屏幕上具有这种透明导电膜的显示器。

权利要求 :

1.用于形成透明导电膜的组合物,其特征在于包含基料组分及分散在该基料组分中的用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和高折射率粉末,氢氧化锡/高折射率粉末所代表的质量比为30/70至90/10,(氢氧化锡+高折射率粉末)/基料组分所代表的质量比为5/95至95/5。

2.如权利要求1所述的用于形成透明导电膜的组合物,其中氢氧化锡粉末含有至少一种选自P、A1、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂。

3.如权利要求2所述的用于形成透明导电膜的组合物,其中作为至少一种选自P、A1、In、Zn和Sb的物质的掺杂剂的量为掺杂剂和Sn总量的0.1至20at%。

4.如权利要求1至3任一项所述的用于形成透明导电膜的组合物,其中高折射率粉末由至少一种选自氧化锆、二氧化钛和二氧化铈的物质形成。

5.用于形成防眩光透明导电膜的组合物,其特征在于包含基料组分及分散在该基料组分中的用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和确保光透射的微粒,其中,当用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和基料组分的总质量表示为X且确保光透射的微粒的质量表示为Y时,由X/Y表示的质量比在99.9/0.1至50/50的范围内,氢氧化锡粉末/基料组分所代表的质量比为5/95至95/5。

6.如权利要求5所述的用于形成防眩光透明导电膜的组合物,其中确保光透射的微粒由至少一种选自无机填料和树脂填料的物质形成。

7.如权利要求5所述的用于形成防眩光透明导电膜的组合物,其中氢氧化锡粉末含有至少一种选自P、A1、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂。

8.如权利要求7所述的用于形成防眩光透明导电膜的组合物,其中作为至少一种选自P、A1、In、Zn和Sb的物质的掺杂剂的量为掺杂剂和Sn总量的0.1至20at%。

9.用于形成透明导电膜的组合物,其特征在于包含基料组分和分散在该基料组分中的导电粉末,其中该基料组分是可光化辐射固化的基料组分,该导电粉末由用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和除用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末以外的导电粉末形成,且用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末构成整个导电粉末的45至99质量%,导电粉末/基料组分所代表的质量比为5/95至95/5。

10.如权利要求9所述的用于形成透明导电膜的组合物,其中氢氧化锡粉末含有至少一种选自P、A1、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂。

11.如权利要求10所述的用于形成透明导电膜的组合物,其中作为至少一种选自P、A1、In、Zn和Sb的物质的掺杂剂的量为掺杂剂和Sn总量的0.1至20at%。

12.如权利要求9至11任一项所述的用于形成透明导电膜的组合物,其中除氢氧化锡粉末以外的导电粉末由至少一种选自氧化锡、氧化铟锡和氧化锑锡的物质形成。

13.透明导电膜,其特征在于该膜通过经涂布或印刷施涂如权利要求1至3任一项所述的用于形成透明导电膜的组合物并将施涂的组合物固化来制造。

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14.如权利要求13所述的透明导电膜,其具有10 至10 Ω/□的表面电阻率,85%或更高的透光率和2.5%或更低的浊度。

15.防眩光透明导电膜,其特征在于该膜通过经涂布或印刷施涂如权利要求5所述的用于形成防眩光透明导电膜的组合物并将施涂的组合物干燥来制造。

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16.如权利要求15所述的防眩光透明导电膜,其具有10 至10 Ω/□的表面电阻率,

85%或更高的透光率和3至50%的浊度。

17.透明导电膜,其特征在于通过经涂布或印刷施涂如权利要求9至11任一项所述的用于形成透明导电膜的组合物并经光化辐射将施涂的组合物固化来制造。

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18.如权利要求17所述的透明导电膜,其具有10 至10 Ω/□的表面电阻率,85%或更高的透光率和2.5%或更低的浊度。

19.显示器,其特征在于,在其屏幕上具有如权利要求13所述的透明导电膜。

20.显示器,其特征在于,在其屏幕上具有如权利要求15所述的透明导电膜。

21.显示器,其特征在于,在其屏幕上具有如权利要求17所述的透明导电膜。

说明书 :

用于形成透明导电膜的组合物、透明导电膜和显示器

技术领域

[0001] 本发明涉及用于形成透明导电膜的组合物、涉及透明导电膜、并涉及在其屏幕上具有透明导电膜的显示器。更具体地,本发明涉及可以通过在任何透明基底表面上,特别是在LCD、等离子体显示器等的屏幕上涂布或印刷该组合物并将施涂的组合物干燥或固化来形成透明导电膜的组合物;涉及透明导电膜;并涉及在其屏幕上具有透明导电膜的显示器。形成的透明导电膜表现出优异抗静电作用,具有极高的可见光透射率,并且由于没有色彩吸收而提供具有自然色调的透射图像。此外,在适当改变该膜的组成时,该膜也表现出优异的抗划伤性和高的防眩光作用,或可以控制该膜的折射率。

背景技术

[0002] 电视中的布劳恩(Braun)管和电脑显示器或类似物中所用的阴极射线管是通过使电子束碰撞发射红光、绿光或蓝光的荧光屏来在显示屏上投射字符和图像的显示设备。因此,显示屏上产生的静电荷吸引灰尘,降低显示屏上提供的视觉品质。在最近已经用于显示器如壁装式电视机的等离子体显示器中也发生这种不希望的静电荷生成。因此,需要防止灰尘的沉积,目前采用的一种措施是赋予粘附在FPD表面上的光学膜导电性。另一个问题是由外部光(例如来自荧光灯的光)的强加引起的显示图像的能见度的降低。因此也要求赋予显示屏防眩光功能同时保持高透光率。
[0003] 为解决上述问题,迄今已经使用层压材料。具体而言,通过施涂涂料溶液(其中将银、金等的微粒均匀分散到显示屏上并干燥)或通过溅射或气相沉积而形成导电透明金属薄膜,并在该透明金属薄膜的上表面和/或下表面上形成折射率不同于该金属薄膜的透明层,由此防止带电和反光。已提出的一种表现出优异的电磁波屏蔽作用和防反射作用的透明导电膜是具有包括平均粒度2至20纳米的金属微粒的透明导电层和折射率不同于该包括金属微粒的层的透明涂膜的层压结构(参见例如专利文献1)。已提出的另一层压结构具有已通过添加有机 或无机粒子(如二氧化硅粒子、丙烯酸类材料粒子和氨基甲酸酯珠粒)而赋予了防眩光性能的膜(参见例如专利文献2)。
[0004] 同时,通常对可见光表现出高透光率并具有低电阻和高膜强度的氧化物半导体透明膜具有多种用途,例如液晶显示器和其它显示器的透明电极、太阳能电池的窗口材料、热反射膜和抗静电膜。这种氧化物半导体包括氧化锡、含锑的氧化锡(下文称作ATO)、含锡的氧化铟(下文称作ITO)和类似物(参见例如专利文献3至8)。
[0005] 传统上,通过气相技术,如真空气相沉积、溅射或离子电镀法在绝缘基底上沉积金属或半导体金属氧化物。或者,通过涂布法或印刷技术将金属材料在充当基料组分(基料)的树脂溶液中的分散体以涂层或油墨形式施涂到这种基底上。
[0006] [专利文献1]
[0007] 日本专利申请公开(kokai)No.8-77832
[0008] [专利文献2]
[0009] 日本专利申请公开(kokai)No.11-115087
[0010] [专利文献3]
[0011] 日本专利申请公开(kokai)No.5-289313
[0012] [专利文献4]
[0013] 日本专利申请公开(kokai)No.6-295666
[0014] [专利文献5]
[0015] 日本专利申请公开(kokai)No.7-242844
[0016] [专利文献6]
[0017] 日本专利申请公开(kokai)No.8-143792
[0018] [专利文献7]
[0019] 日本专利申请公开(kokai)No.8-199096
[0020] [专利文献8]
[0021] 日本专利申请公开(kokai)No.11-181335
[0022] 发明公开
[0023] 本发明要解决的问题
[0024] 但是,由银微粒制成的导电膜具有问题。具体而言,由于银特有的光透射谱,波长400至500纳米的透射光被吸收,以致导电膜黄化,引起透射图像色调的不自然改变。此外,由于该导电膜具有低的平均可见光透射率,倾向于发生与膜厚度分布状况对应的透射图像颜色的显著不均匀性,而对这种情况的防止会降低生产率。
[0025] 类似地,由包括含锡的氧化铟的用于形成导电膜的组合物形成的透明导电膜变黄或变蓝,由此不自然地改变透射图像的色调,这是成问题的。由于在红外区中,特别是在近红外区中存在尖锐的吸收峰,由ATO或ITO制成的氧化物半导体透明膜略显蓝色。由氧化锡制成的在红外区中没有吸收峰的氧化物半导体透明膜在400纳米附近具有低的透光率且略显黄色。因此,如上所述,迄今提供的氧化物半导体透明膜在可见光区域中没有表现出平坦的光谱曲线,从而造成透射图像色调不自然的改变,这是成问题的(参见图1:该图显示了ITO和SnO2的波长与透光率之间的关联性)。因此,即使使用透明基底时,也会在具有高透明度和膜特性(包括用途所需水平的导电性)的透明导电膜的制造中遇到困难。同时,迄今已经使用氧化物半导体(如ATO或ITO)和允许光透射的微粒(下文称作确保光透射的微粒)的组合以便赋予透明导电膜防眩光作用。但是,这种导电膜被轻微着色。因此,也难以制造具有高透明度的防眩光透明导电膜。
[0026] 近年来,在需要显著降低表面反射的电器件、光学产品等的显示屏上使用抗反射膜。这种多层抗反射膜的中间层由具有高折射率的无机材料,如金属氧化物制成,且需要根据该膜的用途调节该膜的折射率。
[0027] 为解决上述问题,已经完成本发明,且本发明的目的是提供可以形成表现出优异抗静电作用、具有极高的可见光透射率并且由于没有色彩吸收而提供具有自然色调的透射图像的透明导电膜的组合物。如果需要,该膜也表现出优异的抗划伤性和高的防眩光作用,或可以控制该膜的折射率。本发明的另一目的是提供这种透明导电膜。本发明的再一目的是提供在其屏幕上具有这种透明导电膜的显示器。
[0028] 解决问题的方式
[0029] 为实现上述目的,本发明人已经进行大量的研究,并且已经发现,通过使用基料组分、充当导电粉末的用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和高折射率粉末;通过将用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和确保光透射的微粒以预定比率分散在基料组分中;和通过以 预定比率使用特定基料组分及作为导电粉末的用化学式Sn(OH)4表示的氢氧化锡的粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末,可以实现这些目的。已经基于该发现完成本发明。
[0030] 因此,本发明提供了用于形成透明导电膜的组合物,其特征在于包含基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和高折射率粉末。
[0031] 本发明也提供了用于形成防眩光透明导电膜的组合物,其特征在于包含基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒,其中,当氢氧化锡粉末和基料组分的总质量表示为X且确保光透射的微粒的质量表示为Y时,质量比X/Y在99.9/0.1至50/50的范围内。
[0032] 本发明也提供了用于形成透明导电膜的组合物,其特征在于包含基料组分和分散在该基料组分中的导电粉末,其中该基料组分是可光化辐射固化的基料组分,该导电粉末由氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末形成,且氢氧化锡粉末构成整个导电粉末的45至99质量%。
[0033] 本发明也提供了透明导电膜或防眩光透明导电膜,其特征在于,该膜通过经涂布或印刷施涂用于形成透明导电膜的组合物或用于形成防眩光透明导电膜的组合物并将施涂的组合物干燥或固化来制造。
[0034] 本发明也提供了显示器,其特征在于,在其屏幕上具有由用于形成透明导电膜的组合物或用于形成防眩光透明导电膜的组合物(下文中这两种组合物统称为用于形成透明导电膜的组合物)制成的透明导电膜或防眩光透明导电膜。
[0035] 发明效果
[0036] 本发明的用于形成透明导电膜的组合物可以通过经涂布或印刷在基底表面上以涂层或油墨形式施涂该组合物并随后将施涂的组合物干燥或固化(例如通过光化辐射)来提供透明导电膜或防眩光透明导电膜。因此,该组合物可以施涂到具有低耐热性的树脂基底和各种形状的基底上,并且可以大规模地连续制造透明导电膜或防眩光透明导电膜。无需说,可以容易地制造具有大面积的这种透明膜。
[0037] 附图简述
[0038] [图1]显示导电粉末的透射光的波长与透射率之间的关系的图。
[0039] 由含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和高折射率粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物制成的透明导电膜的折射率可以通过调节掺入到该组合物中的高折射率粉末的相对量来控制。此外,通过改变成膜条件,可以制造具有优异的透7 12 7 11
明性、导电性和抗划伤性;例如优选10 至10 Ω/□,更优选10 至10 Ω/□的表面电阻率,优选85%或更高的透光率和2.5%或更低的浊度的透明导电膜。
[0040] 可以通过改变成膜条件来调节由含有基料组分、分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒的本发明的用于形成防眩光透明导电膜的组合物制成的透明导电膜的特性,其中,当氢氧化锡粉末和基料组分的总质量表示为X且确保光透射的微粒的质量表示为Y时,质量比X/Y在99.9/0.1至50/50的范围内。由此,可以制造具有优异的7 12 7 11
透明度、导电性和防眩光性;例如10 至10 Ω/□,更优选10 至10 Ω/□的表面电阻率,优选85%或更高的透光率和优选3至50%,更优选8至40%的浊度的防眩光透明导电膜。 [0041] 可以通过改变成膜条件来调节由含有基料组分和分散在该基料组分中的导电粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物制成的透明导电膜的特性,其中该基料组分是可光化辐射固化的基料组分,该导电粉末由氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末形成,且氢氧化锡粉末构成整个导电粉末的45至99质量%。由此,可以制造具有优异的
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透明性、导电性和抗划伤性;例如优选10 至10 Ω/□,更优选10 至10 Ω/□的表面电阻率,优选85%或更高的透光率和优选2.5%或更低的浊度的透明导电膜。
[0042] 因此,本发明的用于形成透明导电膜的组合物可用在各种领域中,包括液晶显示器的透明电极、太阳能电池的窗口材料、红外线反射膜、抗静电膜、触摸面板、平面形加热器和电子照相记录,并在上述领域中表现出优异性能。
[0043] 本发明的最佳实施方式
[0044] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,将氢氧化锡粉末和高折射率粉末分散在基料组分中;将氢氧化锡粉末和确保光透射的微 粒分散在基料组分中;或将氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末分散在基料组分中。本发明中所用的氢氧化锡粉末可以是氢氧化锡本身的粉末,或含有至少一种选自P、Al、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂的氢氧化锡粉末。
[0045] 如图1中所示,本发明中可用的氢氧化锡粉末在宽波长范围内表现出高透光率。这种氢氧化锡粉末可以是其商品或通过已知方法(例如用碱中和溶解着氯化锡的酸性溶液,由此使氢氧化物共沉淀,并将该共沉淀物干燥)制成。当氢氧化锡粉末具有0.2微米或更小的平均初级粒度时,可以制造透明导电膜。但是,当平均初级粒度超过0.2微米时,形成的膜的透明度趋于降低。因此,氢氧化锡粉末优选由平均初级粒度为0.2微米或更小的超细微粒形成。当制成的透明膜的透明度对该膜的用途而言不是重要因素时,也可以使用粒度大于0.2微米的氢氧化锡粉末。特别地,通过X-射线衍射法测得的所用氢氧化锡的结
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晶性优选为非晶态或部分结晶态。氢氧化锡的压块优选具有1×10Ω·cm或更小的电阻率。
[0046] 含有至少一种选自P、Al、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂并可用在本发明中的氢氧化锡粉末可购得。或者,可以通过已知技术制造该掺杂的氢氧化锡粉末:例如,用碱中和溶解着氯化磷和氯化锡的酸性溶液,由此使磷/氢氧化锡共沉淀,并将该共沉淀物干燥。在含有至少一种选自P、Al、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂的氢氧化锡粉末中,相对于(掺杂剂+Sn),掺杂剂的量优选为0.1至20at%,更优选1至15at%。当掺杂剂的量低于0.1at%时,掺杂剂的作用不足,而当掺杂剂的量超过20at%时,含掺杂剂的氢氧化锡粒子通常具有高电阻,由此降低形成的导电膜的导电性。与上述情况类似,含有至少一种选自P、Al、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂的氢氧化锡粉末优选由平均初级粒度为0.2微米或更小的超细微粒形成。
[0047] 在含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和高折射率粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,将高折射率粉末掺入到该组合物中以控制形成的透明导电膜的折射率。因此,对高折射率粉末的种类没有特别限制,只要可以实现本发明的目的,并可以使用已知产品,包括商品。各种高折射率粉末的实例包括金属氧化物,如氧化锆、二氧化钛、二氧化铈、氧化锌、氧化锡、ATO、ITO、 氧化铟、氧化锌铝、五氧化锑和锑酸锌。其中,氧化锆、二氧化钛和二氧化铈更优选。与上述氢氧化锡粉末的情况类似,该高折射率粉末优选由平均初级粒度为0.2微米或更小的超细微粒形成。
[0048] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,导电粉末与高折射率粉末的质量比(导电粉末/高折射率粉末)优选为30/70至90/10,更优选35/65至85/15。当折算成上述质量比的导电粉末量小于30/70时,形成的膜通常具有高折射率但差的导电性。相反,当折算成上述质量比的导电粉末量超过90/10时,形成的膜具有良好导电性,但没有目标折射率。
[0049] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,(导电粉末+高折射率粉末)与基料组分的质量比[(导电粉末+高折射率粉末)/基料组分]优选为5/95至95/5,更优选20/80至90/10,最优选30/70至85/15。当折算成上述质量比的导电粉末和高折射率粉末的总量小于5/95时,形成的膜通常具有足够的透明性但差的导电性。相反,当折算成上述质量比的导电粉末和高折射率粉末的总量超过95/5时,粉末分散性受损,且形成的导电膜通常具有差的透明性、与基底的粘合性和膜特性。
[0050] 在含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒的本发明的用于形成防眩光透明导电膜的组合物中,选自氢氧化锡粉末和含有至少一种选自P、Al、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(下文将这些氢氧化锡粉末统一简称为“氢氧化锡粉末”)的氢氧化锡粉末与基料组分的质量比(氢氧化锡粉末/基料组分)优选为5/95至95/5,更优选15/85至90/10,最优选25/75至85/15。当折算成上述质量比的氢氧化锡粉末量小于5/95时,形成的膜通常具有足够的透明性但差的导电性。相反,当折算成上述质量比的氢氧化锡粉末量超过95/5时,粉末分散性受损,且形成的导电膜通常具有差的透明性、与基底的粘合性和膜特性。
[0051] 在本发明的用于形成防眩光透明导电膜的组合物中,确保光透射的微粒可以由例如至少一种选自无机填料和树脂填料的物质形成。无机填料材料的实例包括二氧化硅、氧化铝、滑石、氧化锆、氧化锌和二氧化钛。如果这些粒子的尺寸显著降低,则通常具有差透明度的这些无机填料允许光透射。树脂填料的材料的实例包括丙烯酸类树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、环氧树脂和硅氧烷树脂。这类确保光透 射的微粒也可购得。该确保光透射的微粒优选具有球形。该确保光透射的微粒优选具有0.1至10微米,更优选2至8微米的粒度。通过由该粒子形成具有均匀压花图案的膜或通过由上述无机填料微粒或树脂填料形成薄膜以由此在膜中产生混浊,可以赋予涂膜防眩光作用。此外,当氢氧化锡粉末和基料组分的总质量表示为X,且确保光透射的微粒的质量表示为Y时,质量比X/Y必须在99.1/0.1至50/50,优选99/1至80/20的范围内。当确保光透射的微粒的量低于折算成质量比X/Y的值时,形成的防眩光透明导电膜表现出不足的光散射作用。在这种情况下,透明性和导电性高,但难以实现足够的防眩光作用。当确保光透射的微粒的量超过折算成质量比X/Y的值时,形成的防眩光透明导电膜表现出提高的防眩光作用,但具有过高的浊度值,这降低了图像清晰度和透光率。
[0052] 在含有基料组分和分散在该基料组分中的导电粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,基料组分是可光化辐射固化的基料组分,导电粉末由氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末形成,将除氢氧化锡粉末以外的导电粉末掺入到该组合物中以提高形成的透明导电膜的导电性。因此,对导电粉末的种类没有特别限制,只要可以实现本发明的目的,并可以使用已知产品,包括商品。各种导电粉末的类型的实例包括金属氧化物,如氧化锡、ATO、ITO、氧化锌铝、五氧化锑和锑酸锌。其中,为了获得高导电性和透明度,氧化锡、ATO和ITO更优选。与上述情况类似地,该导电粉末优选由平均初级粒度为0.2微米或更小的超细微粒形成。
[0053] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,导电粉末由选自氢氧化锡粉末和含有至少一种选自P、Al、In、Zn和Sb的物质作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(下文将这些氢氧化锡粉末简称为“氢氧化锡粉末”)的氢氧化锡粉末及除氢氧化锡粉末以外的导电粉末形成。氢氧化锡粉末构成整个导电粉末的45至99质量%,优选50至95质量%。当氢氧化锡粉末含量低于45质量%时,形成的透明导电膜通常具有足够的导电性但降低的透明度,而当氢氧化锡粉末含量超过99质量%时,形成的透明导电膜具有足够的透明度但未提高的导电性。
[0054] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,导电粉末与基料组分的质量比(导电粉末/基料组分)优选为5/95至95/5,更优选10/90至 90/10,最优选10/90至85/15。当折算成上述质量比的导电粉末的量小于5/95时,形成的薄膜通常具有足够的透明度但差的导电性。相反,当折算成上述质量比的导电粉末的量超过95/5时,粉末分散性受损,且形成的导电膜通常具有差的透明性、与基底的粘合性和膜特性。
[0055] 在含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和高折射率粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,对基料组分没有特别限制,只要该基料组分可以溶解在所用溶剂中,可以分散导电粉末和高折射率粉末,并且可以粘合导电粉末和高折射率粉末以形成透明导电膜。可以使用涂料中常用的任何基料组分。在本发明中,基料组分优选为可光化辐射固化的基料组分。
[0056] 基料组分的实例包括醇酸树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、乙烯基树脂、硅氧烷树脂、含氟树脂、邻苯二甲酸酯树脂、氨基树脂、聚酰胺树脂、聚丙烯酰基-硅氧烷树脂、三聚氰胺树脂、脲树脂及其改性物质。这些基料树脂可以单独使用或两种或多种种类结合使用。
[0057] 如果需要,基料组分可以进一步含有交联剂。可以使用在其分子中具有两个或多个反应性官能团,如碱性官能团(例如氨基)、中性官能团(例如OH基团)、酸性官能团(例如羧基)或异氰酸酯基团的任何交联剂。
[0058] 基料组分可以是可自由基聚合的单体。只要该单体具有可自由基聚合的不饱和基团(α,β-烯键式不饱和基团),可以使用具有碱性官能团(例如氨基)、中性官能团(例如OH基团)、酸性官能团(例如羧基)或没有这类官能团的任何单体。
[0059] 本发明的用于形成透明导电膜的组合物中可用的可光化辐射固化的基料组分的实例包括丙烯酸酯化合物和甲基丙烯酸酯化合物。下面将丙烯酸酯化合物和甲基丙烯酸酯化合物统称为(甲基)丙烯酸酯化合物。
[0060] 除了上述(甲基)丙烯酸酯化合物外,本发明的用于形成透明导电膜的组合物中可用的可光化辐射固化的基料组分的实例包括可自由基聚合的单体和/或低聚物。对可自由基聚合的单体没有特别限制,并且可以使用任何这样的单体,只要该单体各自具有可自由基聚合的不饱和基团(α,β-烯键式不饱和基团)。这类单体的实例包括各自具有碱性 官能团如氨基的单体,各自具有中性官能团如OH基团的单体,各自具有酸性官能团如羧基的单体,和各自没有这类官能团的单体。
[0061] 可自由基聚合的单体的具体实例包括非-(甲基)丙烯酸酯可自由基聚合单体,如苯乙烯、乙烯基甲苯、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯腈和烯丙醇;单官能(甲基)丙烯酸酯,如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、N-乙烯基吡咯烷酮、(甲基)丙烯酸2-羟乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟丙酯、单(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、单(甲基)丙烯酸甲氧基-聚乙二醇酯、单(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、单(甲基)丙烯酸聚乙二醇聚丙二醇酯、单(甲基)丙烯酸聚乙二醇聚丁二醇酯和(甲基)丙烯酸缩水甘油酯;双官能(甲基)丙烯酸酯,如二(甲基)丙烯酸乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸二甘醇酯、二(甲基)丙烯酸三甘醇酯、二(甲基)丙烯酸四甘醇酯、二(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸烯丙酯、二(甲基)丙烯酸双酚A酯、环氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸双酚A酯、聚环氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸双酚A酯、环氧乙烷改性的二(甲基)丙烯酸双酚S酯、二(甲基)丙烯酸双酚S酯、二(甲基)丙烯酸1,4-丁二醇酯和二(甲基)丙烯酸1,3-丁二醇酯;和具有3个或更多个官能团的(甲基)丙烯酸酯,如三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙烷酯、三(甲基)丙烯酸甘油酯、三(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、四(甲基)丙烯酸季戊四醇酯、乙烯改性的三(甲基)丙烯酸三羟甲基丙烷酯和六(甲基)丙烯酸二季戊四醇酯。
[0062] 可自由基聚合的低聚物的具体实例包括各自具有至少一个(甲基)丙烯酰基的预聚物,如聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、低聚(甲基)丙烯酸酯、醇酸(甲基)丙烯酸酯、多元醇(甲基)丙烯酸酯和硅氧烷(甲基)丙烯酸酯。其中,聚酯(甲基)丙烯酸酯、环氧(甲基)丙烯酸酯和聚氨酯(甲基)丙烯酸酯特别优选。
[0063] 为赋予本发明的用于形成透明导电膜的组合物有利的可光化辐射固化性,优选在该组合物中掺入聚合引发剂(光敏剂)。通过掺入引发剂,可以用小剂量的光化辐射将组合物固化。但是,由于本发明的用于形成透明导电膜的组合物也可以用热固化,所以可以将适当的自 由基聚合引发剂(例如偶氮二异丁腈)作为热固化剂掺入到组合物中以代替光敏剂。
[0064] 允许树脂组合物可光化辐射固化的聚合引发剂的实例包括1-羟基环己基苯基酮、二苯甲酮、苄基二甲基酮、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、对氯二苯甲酮、4-苯甲酰基-4-甲基二苯硫醚、2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1和2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙酮-1。这些聚合引发剂可以单独使用或两种或多种种类组合使用。相对于100质量份基料组分,聚合引发剂优选以0.1至20质量份,更优选1至15质量份的量使用。
[0065] 在含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒的本发明的用于形成防眩光透明导电膜的组合物中,对基料组分没有特别限制,只要该基料组分可以溶解在所用溶剂中,可以分散氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒,并且可以形成透明导电膜。可以使用涂料中常用的任何基料组分。基料组分的实例包括醇酸树脂、聚酯树脂、不饱和树脂、聚氨酯树脂、丙烯酸类树脂、环氧树脂、酚醛树脂、乙烯基树脂、硅氧烷树脂、含氟树脂、邻苯二甲酸酯树脂、氨基树脂、聚酰胺树脂、聚丙烯酰基-硅氧烷树脂、三聚氰胺树脂、脲树脂及其改性物质。这些基料树脂可以单独使用或两种或多种种类组合使用。 [0066] 如果需要,基料组分可以进一步含有交联剂。可以使用在其分子中具有两个或多个反应性官能团,如碱性官能团(例如氨基)、中性官能团(例如OH基团)、酸性官能团(例如羧基)或异氰酸酯基团的任何交联剂。
[0067] 基料组分可以是可自由基聚合的单体。只要该单体具有可自由基聚合的不饱和基团(α,β-烯键式不饱和基团),可以使用具有碱性官能团(例如氨基)、中性官能团(例如OH基团)、酸性官能团(例如羧基)或没有这类官能团的任何单体。
[0068] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中(该组合物使用可光化辐射固化的基料),该可光化辐射固化的基料组分是指粘合氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末以形成透明导电膜的组分。该可光化辐射固化的基料组分具有如上定义的相同含义。
[0069] 只要不损害本发明的目的,可以在本发明的组合物中掺入其它常 规使用的添加剂以形成透明导电膜。这类添加剂的实例包括分散剂、分散助剂、聚合抑制剂、固化催化剂、抗氧化剂和匀平剂。
[0070] 在本发明的用于形成透明导电膜的组合物中,对溶剂没有特别限制,只要该溶剂可以溶解或分散基料组分,可以分散导电粉末、高折射率粉末和确保光透射的微粒的所需组分,并且没有腐蚀基底。可以使用涂料中常用的任何溶剂。本发明中可用的溶剂的实例包括烃类,如己烷、庚烷、环己烷、甲苯和间二甲苯;卤代烃,如四氯甲烷和三氯乙烯;酮,如丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮、二异丁基酮、异佛尔酮和环己酮;醚,如二乙醚、二氧杂环己烷和四氢呋喃;酯,如乙酸乙酯、乙酸丁酯和乙酸异戊酯;醇,如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、正戊醇、2-乙基己醇、环己醇、双丙酮醇、乙二醇、丙二醇、二甘醇和丙三醇;醚/醇和醚/酯,如乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚和丙二醇单甲醚乙酸酯;及其混合物。调节溶剂的量以使通过分散导电粉末、高折射率粉末和确保光透射的微粒的所需组分制备的组合物(最终产品)具有适合涂布或印刷的粘度。本发明的用于形成透明导电膜的组合物优选具有2至10,000cps的粘度(E-型粘度计:20℃)。
[0071] 本发明的用于形成透明导电膜的组合物可以通过例如将导电粉末、高折射率粉末和确保光透射的微粒的所需组分分散在已任选用有机溶剂稀释的基料组分溶液中来制造。或者,该组合物可以通过将导电粉末、高折射率粉末和确保光透射的微粒的所需组分分散在有机溶剂中并在该分散体中加入基料组分来制造。无需说,该组合物也可以通过在单一操作中将基料组分、导电粉末、高折射率粉末和确保光透射的微粒的所需组分和有机溶剂混合在一起,由此形成分散体来制造。该分散法可以通过常规方法借助油漆振荡器、球磨、砂磨、中心磨(centri-mill)、三辊磨或类似装置进行。无需说,可以通过通常实施的搅拌法进行分散。
[0072] 将本发明的用于形成透明导电膜的组合物施涂到基底上以形成透明导电膜或防眩光导电膜,基底材料的实例包括合成树脂、玻璃材料和陶瓷材料,它们广泛用在各种领域,包括电和电子领域中。基底可以具有任何形状,如片、膜或板形。合成树脂的非限制性具体实例包括聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯酸类树脂、甲基丙烯酸类树脂、 聚(氯乙烯)、聚酯树脂、聚酰胺树脂和酚醛树脂。
[0073] 可以通过常规方法,如辊涂、旋涂或丝网印刷法将本发明的用于形成透明导电膜的组合物施涂(涂布或印刷)到基底上。随后,当基料组分不可光化辐射固化时,如果需要,将施涂的组合物加热以蒸发溶剂,由此将该涂膜干燥和固化。通过该方法,使基料组分聚合,并使氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒粘合到树脂上,由此形成透明导电膜。由此形成的透明导电膜优选具有0.5至10微米,更优选2至8微米的厚度。当基料组分可光化辐射固化时,如果需要,将施涂的组合物加热以蒸发溶剂,并将该涂膜干燥。随后,用光化辐射(UV射线或电子束)照射涂膜。本发明中可用的光化辐射源的实例包括UV源,如低压汞灯、高压汞灯、金属卤化物灯、氙灯、准分子激光器及染料层和电子束加速器。光化辐射的剂2
量优选在UV射线的情况下为50至3,000mJ/cm,并在电子束的情况下为0.2至1,000μC/
2
cm。通过光化辐射作用,使基料组分聚合,由此形成透明导电膜,其中用树脂粘合导电粉末和确保光透射的微粒。优选地,透明导电膜具有0.1至10.0微米的厚度。
[0074] 由含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和高折射率粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物在基底上形成的本发明的透明导电膜具有优异的透明7 12 7 11
性、导电性和抗划伤性;例如,优选10 至10 Ω/□,更优选10 至10 Ω/□的表面电阻率,优选85%或更高的透光率和2.5%或更低的浊度。此外,可以控制透明导电膜的折射率。具有这类性质的透明导电膜可以用作例如用在电子照相记录中的防尘膜或抗静电膜。该膜也可以用在显示屏上。
[0075] 由含有基料组分及分散在该基料组分中的氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒的本发明的用于形成防眩光透明导电膜的组合物在基底上形成的本发明的防眩光透明导电7 12 7 11
膜具有优异的透明性、导电性和防眩光性;例如10 至10 Ω/□,更优选10 至10 Ω/□的表面电阻率,优选85%或更高的透光率和优选3至50%,更优选8至40%的浊度。具有这类性质的防眩光透明导电膜可以用作例如用在电子照相记录中的防尘膜或抗静电膜。该膜也可以用在显示屏上。
[0076] 由含有基料组分和分散在该基料组分中的导电粉末的本发明的用于形成透明导电膜的组合物(其中该基料组分是可光化辐射固化的 基料组分,该导电粉末由氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末形成)在基底上形成的本发明的透明导电膜具有6 11 6 10
优异的透明性、导电性和抗划伤性;例如优选10 至10 Ω/□,更优选10 至10 Ω/□的表面电阻率,优选85%或更高的透光率和优选2.5%或更低的浊度。具有这类性质的透明导电膜可以用作例如用在电子照相记录中的防尘膜或抗静电膜。该膜也可以用在显示屏上。 [0077] 接着通过实验实施例详细描述本发明。除非另行指明,在实验实施例中,单位“份数”是指“质量份数”。在实验实施例1至14中,氢氧化锡粉末由平均初级粒度为0.05微米
7
的粒子形成并具有1×10Ω·cm的电阻率。含磷作为掺杂剂的氢氧化锡粉末具有5.0at%的P(Sn+P)并由平均初级粒度为0.05微米的粒子形成。
[0078] 实验实施例1
[0079] 将由三丙烯酸三羟甲基丙烷酯(20份)和聚酯丙烯酸酯(10份)构成的基料组分、氢氧化锡粉末(25份)、氧化锆粉末(45份)、异丁醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,将充当光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(3份)添加到捏合产物中,并使混合物完全溶解。移除玻璃珠,由此产生粘性液体。随后,借助辊涂器将该粘性液体施涂到PET膜(厚度:100微米,Toyobo A4100)上,并蒸发有机溶剂。用来自高压汞灯的2
UV射线以500mJ/cm 的剂量照射形成的涂层,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。 [0080] 实验实施例2
[0081] 将由三丙烯酸三羟甲基丙烷酯(30份)构成的基料组分、含磷作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(70份)、异丁醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,将充当光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(3份)添加到捏合产物中,并使混合物完全溶解。移除玻璃珠,由此产生粘性液体(组合物A)。单独重复制备组合物A的程序,只是使用二氧化钛粉末(70份)代替氢氧化锡粉末(70份),由此产生另一粘性液体(组合物B)。将由此制成的组合物A(80份)和组合物B(20 份)充分混合,由此制备涂布液体。随后,按照与实验实施例1类似的方式,形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0082] 实验实施例3
[0083] 将由六丙烯酸二季戊四醇酯(20份)和聚酯丙烯酸酯(10份)构成的基料组分、氢氧化锡粉末(70份)、异丁醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,将充当光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(3份)添加到捏合产物中,并使混合物完全溶解。移除玻璃珠,由此产生粘性液体。随后,借助辊涂器将该粘性液体施涂到PET膜(厚2
度:100微米,Toyobo A4100)上,并蒸发有机溶剂。用来自高压汞灯的UV射线以500mJ/cm的剂量照射形成的涂层,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0084] 借助TC-HIII DPK(Tokyo Denshoku Technical Center的产品)测定实验实施例1至3中制成的透明固化涂膜的总透光率(%)和浊度(%)。在将各膜堆叠在基底上时,测定这些值。通过表面电阻率计(Hiresta IPMCP-HT260,Mitsubishi Chemical Co.,Ltd.的产品)测定各膜的表面电阻率(Ω/□)。基于下述等级目测抗划伤性。通过下列程序测定各膜的折射率。首先,借助棒涂器将实验实施例1至3中制成的各涂布液施涂到硅片上,
2
并蒸发有机溶剂。用来自高压汞灯的UV射线以500mJ/cm 的剂量照射形成的涂层,由此形成厚度0.2微米的透明固化涂膜。借助Filmtek 3000(SCI的产品)测定所得样品的折射率。结果显示在表1中。在表1中,也显示了导电粉末和高折射率粉末的类型和组成,以及比率(导电粉末+高折射率粉末)/基料组分。
[0085] <抗划伤性评测用等级>
[0086] 将各透明固化涂膜样品的表面用钢丝棉(#0000)在1,000克载荷下来回划擦10次。基于下列等级目测划擦后的表面状态:
[0087] ○:无划痕;
[0088] △:轻微划伤;和
[0089] ×:划伤
[0090] [表1]
[0091] 表1
[0092]
[0093] 在表1中,P是指导电粉末+高折射率粉末的相对量,B是指基料组分的相对量。 [0094] 从表1中清楚看出,在将用于形成透明导电膜的组合物(该组合物含有氢氧化锡粉末和高折射率粉末)施涂到基底上时(实验实施例1和2),制成具有优异的透明性、导电7 11
性和抗划伤性;例如10 至10 Ω/□的表面电阻率、85%或更高的透光率和2.5%或更低的浊度的透明导电膜,并且可以控制该膜的折射率。但是,在将不含高折射率粉末的用于形成透明导电膜的组合物施涂到基底上时(实验实施例3),形成的透明膜表现出不足的抗划伤性和低折射率。
[0095] 实验实施例4
[0096] 将充当基料组分的丙烯酸类树脂溶液(Dianal LR-90,固含量:30%,Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.的产品)(230份)、氢氧化锡粉末(30份)、异丙醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,移除玻璃珠,由此产生粘性液体。向该粘性液体中,加入确保光透射的微粒的分散体(NV.20%)(50份),其是充当确保光透射的微粒的Sylophobic#200(无机填料,粒度:4.0微米,Fuji Silysia Chemical Ltd.的产品)在异丙醇中的分散体。随后,借助辊涂器将所得粘性液体施涂到PET膜(厚度:75微米,Toyobo A4300,透光率:91%,浊度:0.7%)上,并蒸发有机溶剂。将形成的涂层在60℃下干燥10分钟,由此形成厚度3微米 的防眩光透明导电膜。
[0097] 实验实施例5
[0098] 重复实施例4的程序,只是使用将有机填料MX-300(粒度:2.8微米,Soken Chemical Engineering Co.,Ltd.的产品)分散在异丙醇中而得的确保光透射的微粒的分散体代替将Sylophobic#200分散在异丙醇中而得的确保光透射的微粒的分散体,由此形成厚度2.5微米的防眩光透明导电膜。
[0099] 实验实施例6
[0100] 重复实施例4的程序,只是将确保光透射的微粒的分散体(NV.20%)(其中将Sylophobic#200分散在异丙醇中)的量从50份变成100份,由此形成厚度3微米的防眩光透明导电膜。
[0101] 实验实施例7
[0102] 重复实施例4的程序,只是将氢氧化锡粉末(30份)换成含磷作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(30份),由此形成厚度3微米的防眩光透明导电膜。
[0103] 实验实施例8
[0104] 将氢氧化锡粉末(30份)、乙酸丁酯(溶剂)(200份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,移除玻璃珠。将由此形成的分散体与充当基料组分的丙烯酸类树脂(Dianal HR-633,固含量:50%,Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.的产品)(70份)和三聚氰胺树脂(U-Van 225,固含量:60%,MitsuiChemicals Inc.的产品)(58份)借助分散器在搅拌下混合,由此产生粘性液体。向该粘性液体中,加入确保光透射的微粒的分散体(NV.20%)(50份),其是充当确保光透射的微粒的Sylophobic#200在异丙醇中的分散体。随后,借助辊涂器将所得粘性液体施涂到PET膜(厚度:75微米,Toyobo A4300,透光率:91%,浊度:0.7%)上,并蒸发有机溶剂。将形成的涂层在120℃下干燥15分钟,由此形成厚度3微米的防眩光透明导电膜。 [0105] 实验实施例9
[0106] 重复实施例4的程序,只是丙烯酸类树脂溶液(Dianal LR-90,固含量:30%,Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.的产品)的量从230份变成100份,并将氢氧化锡粉末的量从30份变成70份,由此形成厚度5微米的防眩光透明导电膜。
[0107] 实验实施例10
[0108] 重复实施例4的程序,只是将氢氧化锡粉末(30份)换成ITO粉末(30份),由此形成厚度5微米的防眩光透明导电膜。
[0109] 实验实施例11
[0110] 重复实施例4的程序,只是将氢氧化锡粉末(30份)换成氧化锡粉末(30份),由此形成厚度5微米的防眩光透明导电膜。
[0111] 实验实施例12
[0112] 重复实施例4的程序,只是不加入确保光透射的微粒的分散体,由此形成厚度3微米的防眩光透明导电膜。
[0113] 实验实施例13
[0114] 重复实施例4的程序,只是将确保光透射的微粒的分散体(NV.20%)的量从50份变成600份,由此形成厚度3微米的防眩光透明导电膜。
[0115] 实验实施例14
[0116] 重复实施例4的程序,只是将确保光透射的微粒的分散体(NV.20%)的量从50份变成0.25份,由此形成厚度3微米的防眩光透明导电膜。
[0117] 按照与实验实施例1中类似的方式测定实验实施例4至14中制成的各防眩光透明导电膜的总透光率、浊度和表面电阻率。结果显示在表2中。
[0118] [表2]
[0119] 表2
[0120]
[0121] 在表2中,P是指导电粉末(例如氢氧化锡粉末),B是指基料组分。X是指导电粉末与基料组分的总质量,且Y是指确保光透射的微粒的质量。
[0122] 从表2中清楚看出,在将用于形成防眩光透明导电膜的组合物(该组合物含有氢氧化锡粉末和确保光透射的微粒)施涂到基底上时(实验实施例4至9),制成具有优异的7 12
透明性、导电性和防眩光作用;例如10 至10 Ω/□的表面电阻率,85%或更高的透光率和
3至50%的浊度的防眩光透明导电膜。由此形成的膜具有令人满意的FPD光学膜功能。但是,在将含有ITO粉末或氧化锡粉末的用于形成透明导电膜的类似组合物施涂到基底上时(实验实施例10和11),形成的透明薄膜表现出小于85%的透光率。在添加到组合物中的确保光透射的微粒的量不在适当范围内时(实验实施例12至14),没有获得所需防眩光作用。
[0123] 在实验实施例15至21中,氢氧化锡粉末由平均初级粒度为0.04微米的粒子形成7
并具有1×10Ω·cm的电阻率。含磷作为掺杂剂的氢氧 化锡粉末具有5.0at%的P/(Sn+P)并且由平均初级粒度为0.04微米的粒子形成。氧化锡是平均初级粒度为0.04微米的粒子形式,ATO是平均初级粒度为0.02微米的粒子形式,且ITO是平均初级粒度为0.04微米的粒子形式。
[0124] 实验实施例15
[0125] 将由三丙烯酸三羟甲基丙烷酯(10份)和聚酯丙烯酸酯(5份)构成的基料组分、氢氧化锡粉末(导电粉末)(65份)、氧化锡粉末(20份)、乙基醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,将充当光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(3份)添加到捏合产物中,并使混合物完全溶解。移除玻璃珠,由此产生粘性液体。随后,借助辊涂器将该粘性液体施涂到PET膜(厚度:100微米,ToyoboA4100)上,并蒸发有机溶剂。用来2
自高压汞灯的UV射线以500mJ/cm 的剂量照射形成的涂层,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0126] 实验实施例16
[0127] 将由三丙烯酸三羟甲基丙烷酯(25份)和聚氨酯丙烯酸酯(5份)构成的基料组分、含磷作为掺杂剂的氢氧化锡粉末(导电粉末)(70份)、异丁醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,将充当光聚合引发剂的2-苄基-2-二甲氨基-1-(4-吗啉代苯基)-丁酮-1(3份)添加到捏合产物中,并使混合物完全溶解。移除玻璃珠,由此产生粘性液体(用于形成透明导电膜的组合物A)。单独重复制备用于形成透明导电膜的组合物A的程序,只是使用ATO粉末(70份)代替含P(掺杂剂)的氢氧化锡粉末(70份),由此产生另一粘性液体(用于形成透明导电膜的组合物B)。将由此制成的用于形成透明导电膜的组合物A(65份)和用于形成透明导电膜的组合物B(5份)充分混合,由此制备涂布液体。随后,按照与实验实施例15类似的方式,形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0128] 实验实施例17
[0129] 重复实验实施例15的程序,只是使用六丙烯酸二季戊四醇酯基 料组分(60份)、由氢氧化锡粉末(30份)、氧化锡粉末(5份)和ITO粉末(5份)形成的导电粉末,和由异丙醇(120份)和甲乙酮(30份)形成的溶剂,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。 [0130] 实验实施例18
[0131] 重复实验实施例15的程序,只是使用由六丙烯酸二季戊四醇酯(75份)和聚酯丙烯酸酯(15份)形成的基料组分、由氢氧化锡粉末(5份)和氧化锡粉末(5份)形成的导电粉末,和双丙酮醇(150份)溶剂,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0132] 实验实施例19
[0133] 将充当基料组分的丙烯酸类树脂溶液(Dianal LR-90,固含量:30%,Mitsubishi Rayon Co.,Ltd.的产品)(30份)、ITO粉末(导电粉末)(70份)、双丙酮醇(溶剂)(150份)和玻璃珠(250份)装在容器中并借助油漆振荡器捏合5小时,借助粒子计监测分散状态。在捏合后,移除玻璃珠,由此产生粘性液体。随后,借助辊涂器将该粘性液体施涂到PET膜(厚度:100微米,Toyobo A4100)上,并蒸发有机溶剂。将形成的涂层在60℃下干燥10分钟,由此形成厚度5微米的防眩光透明导电膜。
[0134] 实验实施例20
[0135] 重复实验实施例15的程序,只是使用氢氧化锡粉末(30份)和氧化锡粉末(40份)作为导电粉末,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0136] 实验实施例21
[0137] 重复实验实施例15的程序,只是使用氧化锡粉末(2份)和ATO粉末(8份)作为导电粉末,由此形成厚度5微米的透明固化涂膜。
[0138] 按照与实验实施例1类似的方式测定和评价实验实施例15至21中制成的各透明导电膜的总透光率、浊度、表面电阻率和抗划伤性。结果显示在表3中。在表3中,也显示了导电粉末的组成和比率P/B(氢氧化锡粉末含量(质量%))。
[0139] [表3]
[0140] 表3
[0141]
[0142] 在表3中,P是指导电粉末,B是指基料组分。
[0143] 从表3中清楚看出,在将用于形成透明导电膜的组合物(该组合物含有氢氧化锡粉末和除氢氧化锡粉末以外的导电粉末作为导电粉末)施涂到基底上时(实验实施例15至18),制成具有优异的透明性、导电性和抗划伤性;例如106至1010Ω/□的表面电阻率,85%或更高的透光率和2.5%或更低的浊度的透明导电膜。但是,在将ITO粉末含量或氢氧化锡粉末含量(相对于导电粉末的总量)不在45至99质量%范围内的用于形成透明导电膜的组合物施涂到基底上时(实验实施例19至21),形成的透明膜表现出小于85%的透光率。在将不含可光化辐射固化的基料组分的用于形成透明导电膜的组合物施涂到基底上(实验实施例19)时,形成的膜表现出低抗划伤性。