一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法转让专利
申请号 : CN200910021217.X
文献号 : CN101514470B
文献日 : 2010-11-03
发明人 : 黄剑锋 , 朱辉 , 曹丽云 , 殷立雄 , 王艳 , 刘星 , 胡宝云 , 李抗
申请人 : 陕西科技大学
摘要 :
权利要求 :
1.一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:
2+
1)首先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.01mol/L~0.6mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;
2)然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶(2~10)∶1的摩尔比,所得溶液记为B;
3)向B溶液中加入摩尔分数为0.1%~1.5%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为1.5~
5.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;
4)将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为0.8~
20V,沉积时间为2min~120min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
2.根据权利要求1所述的一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:首
2+
先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.01mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶2∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.1%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为1.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;
将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为3V,沉积时间为10min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
3.根据权利要求1所述的一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:首
2+
先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.5mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶6∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.3%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为3.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为10V,沉积时间为2min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
4.根据权利要求1所述的一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:首
2+
先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.4mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶10∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.3%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为4.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为2V,沉积时间为30min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
5.根据权利要求1所述的一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:首
2+
先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.06mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶4∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为1.2%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为2.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;
将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为0.8V,沉积时间为60min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
6.根据权利要求1所述的一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:首
2+
先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.2mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶8∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为1.5%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为5.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;
将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为15V,沉积时间为90min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
7.根据权利要求1所述的一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法,其特征在于:首
2+
先将分析纯的ZnCl2加入蒸馏水中,配制成Zn 浓度为0.6mol/L的透明溶液,所得溶液记为A;然后,向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠,使得混合溶液中
2+ 2- 3-
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶5∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.8%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为3,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为20V,沉积时间为
120min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
说明书 :
一种ZnS:Cu光学薄膜的制备方法
技术领域:
背景技术
[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶(2~10)∶1的摩尔比,所得溶液记为B;
附图说明
具体实施方式
溶液中[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶2∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.1%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为1.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为3V,沉积时间为10min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
液中[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶6∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.3%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为3.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为10V,沉积时间为2min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
液中[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶10∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为0.3%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为4.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为2V,沉积时间为30min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
溶液中[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶4∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为1.2%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为2.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为0.8V,沉积时间为60min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
液中[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶8∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为1.5%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为5.5,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为15V,沉积时间为90min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。
液中[Zn ]∶[S2O3 ]∶[C6H5O7 ]=1∶5∶1的摩尔比,所得溶液记为B;向B溶液中加入摩尔分数为O.8%的CuCl2试剂,搅拌下调节pH值为3,形成前驱物溶液,所得溶液记为C;将C溶液置于电沉积装置中,将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极,采用石墨为阳极,用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备ZnS:Cu薄膜;沉积电压为20V,沉积时间为120min,沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干,即得最终产物ZnS:Cu光学薄膜。