光记录方法和光记录装置

摘要

一种光记录方法和光记录装置。光记录方法包含：从锁模激光光源发射具有在飞秒到微微秒量级范围内的超短脉冲的激光，以利用多个脉冲序列形成记录标记；利用能够接收、放大以及输出从所述锁模激光光源发出的激光的半导体光学放大器，在形成所述记录标记于介质中的时间段期间调制所述激光的脉冲序列中的脉冲的幅度，使得该脉冲序列的中心处的脉冲的幅度变成峰值；以及利用调制的所述激光照射所述介质。

权利要求

1.一种光记录方法，包括：

从锁模激光光源发射具有在飞秒到微微秒量级范围内的超短脉冲的激光，以利用多个脉冲序列形成记录标记；

利用能够接收、放大以及输出从所述锁模激光光源发出的激光的半导体光学放大器，在形成所述记录标记于介质中的时间段期间调制所述激光的脉冲序列中的脉冲的幅度，使得该脉冲序列的中心处的脉冲的幅度变成峰值；以及利用调制的所述激光照射所述介质。

2.如权利要求1所述的光记录方法，其中所述调制步骤包含调制所述脉冲序列中的脉冲的频率。

3.如权利要求1所述的光记录方法，其中用调制的所述激光照射正在旋转的所述介质。

4.如权利要求1所述的光记录方法，其中，在所述调制步骤中，非线性晶体被用于控制从所述锁模激光光源发出的激光的偏振态。

5.如权利要求1所述的光记录方法，其中，在调制步骤中，当调制从所述锁模激光光源发出的激光时，使用法布里-珀罗干涉仪。

6.一种光记录装置，包括：

以预定时间间隔发射具有在飞秒到微微秒量级范围内的超短脉冲的激光以利用多个脉冲序列形成记录标记的锁模激光光源；

能够接收、放大以及输出从所述锁模激光光源发出的激光的半导体光学放大器，在形成记录标记于介质中的时间段期间调制所述激光的脉冲序列中的脉冲的幅度，使得该脉冲序列的中心处的脉冲的幅度变成峰值；以及用于利用调制的所述激光照射所述介质的装置。

7.如权利要求6所述的光记录装置，其中所述半导体光学放大器调制所述脉冲序列中的脉冲的频率。

8.如权利要求6所述的光记录装置，还包括：用于旋转将被调制的所述激光照射的所述介质的装置。

说明书

光记录方法和光记录装置

[0001] 对相关专利申请的交叉引用

[0002] 本发明包含与2008年3月26日提交日本专利局的日本专利申请JP2008-081532相关的内容，这里通过引用包含了该专利申请的全部内容。

[0003] 技术领域

[0004] 本发明涉及通过用光照射介质来在介质上记录信息的光记录方法和光记录装置。 [0005] 背景技术

[0006] 已经提出了一种用于在介质上记录驻波的光盘作为当前所使用的CD(光盘)、DVD(数字通用光盘)和蓝光盘的下一代光盘。

[0007] 例如，将光聚焦在折射系数根据照射光的强度而改变的介质上一次，然后用光盘的背面上提供的反射器沿反方向再次将光聚焦在相同焦点位置上。因而，在介质上形成小光点尺寸的全息图，从而记录信息。

[0008] 当再现信息时，读出被以相同方式照射的光盘的表面所反射的光，以识别信息。 [0009] 通过用分层方法(layered manner)在介质上记录信息，与记录在普通光盘上的那些信息项相应的信息项可被集中地记录在介质的各层上(例如，参见R.R.McLeod等人的″Micro-holographic multilayer optical diskdata storage″，Appl.Opt.，Vol.44，2005，p.3197)。

[0010] 发明内容

[0011] 然而，在例如通过利用锁模激光(例如Ti:S超短脉冲激光)以脉冲序列照射介质一段恒定曝光时间而在介质中形成空穴(void)的空穴形成体积记录的情况下，存在一个问题，就是在旋转介质的状态下难以恰当地控制空 穴的形状。

[0012] 考虑到上述情况，期望提供能够利用锁模激光光源在介质的适当位置形成具有适当形状的记录标记的光记录方法和光记录装置。

[0013] 根据本发明的实施例，提供了一种光记录方法。光记录方法包含 [0014] 从锁模激光光源发射具有在飞秒到微微秒量级范围内的超短脉冲的激光，以利用多个脉冲序列形成记录标记；

[0015] 利用能够接收、放大以及输出从所述锁模激光光源发出的激光的半导体光学放大器，在形成所述记录标记于介质中的时间段期间调制所述激光的脉冲序列中的脉冲的幅度，使得该脉冲序列的中心处的脉冲的幅度变成峰值；以及

[0016] 利用调制的激光照射所述介质。

[0017] 锁模激光光源具有以预定时间间隔发射超短脉冲光(例如，脉冲宽度在飞秒(femtosecond)到微微秒量级范围内)的功能。从锁模激光光源发出的激光具有非常小的脉冲宽度和非常大的脉冲幅度，因此可被应用于介质上记录标记的形成。 [0018] 在该实施例中，在形成记录标记于介质中的时间段期间，调制从锁模激光光源发出的激光的脉冲并且用其照射介质。因此，用具有大强度的激光照射介质上的期望用具有大强度的激光照射的位置，而用具有小强度的激光照射介质上的期望用具有小强度的激光照射的位置，从而可以在介质上适当的位置形成具有适当形状的记录标记。 [0019] 调制步骤包含调制脉冲的幅度。利用这种结构，当利用从锁模激光光源发出的激光的多个脉冲序列形成记录标记时，脉冲序列的中心处的脉冲的幅度被设置成大于其两端处的幅度，从而可以恰当地控制记录标记的形状。

[0020] 调制步骤包含调制脉冲的频率。利用这种结构，当利用从锁模激光光源发出的激光的多个脉冲序列形成记录标记时，每一预定时间段的脉冲序列的脉冲数量被减少，从而在保证记录标记的所述适当形成的同时，电能、发热值以及激光发射所需的功耗可被降低。 [0021] 用调制过的激光照射正在旋转的介质。

[0022] 利用这种结构，用激光照射正在旋转的介质，在介质中可以形成大量记录标记。 [0023] 调制步骤包含调制激光，使得形成记录标记的脉冲序列的中心处的脉冲的幅度变成峰值。

[0024] 利用这种结构，中心部分的记录标记可按期望地被形成为大于两端部分处的记录标记。

[0025] 调制步骤包含调制激光，使得形成记录标记的脉冲序列的两端处的脉冲的幅度均变成峰值。

[0026] 利用这种结构，可以将记录标记的端部形成为大于其中心部分，即双端钟形，因此，每当再现记录标记时可增强对再现信号的边缘的反应。

[0027] 在调制步骤中，使用能够接收、放大以及输出从锁模激光光源发出的激光的半导体光学放大器。

[0028] 利用这种结构，当利用从锁模激光光源发出的激光的多个脉冲序列形成记录标记时，脉冲序列的两端处的脉冲的幅度可被设置成小于其它脉冲的幅度，从而可以恰当地控制记录标记的形状。

[0029] 在调制步骤中，非线性晶体被用于控制从锁模激光光源发出的激光的偏振态。 [0030] 利用这种结构，当通过对非线性晶体施加电压来控制激光的偏振态，并且利用从锁模激光光源发出的激光的多个脉冲序列形成记录标记时，不用脉冲序列的两端处的脉冲而用其它脉冲照射介质，从而可以恰当地控制记录标记的形状。

[0031] 在调制步骤中，当调制从锁模激光光源发出的激光时，使用法布里-珀罗干涉仪。 [0032] 利用这种结构，使从锁模激光光源发出的激光进入法布里-珀罗干涉仪，调制激光，并且用合适的激光照射介质上的适当位置，从而可以形成具有适当形状的记录标记。 [0033] 根据本发明的另一个实施例，提供了一种光记录装置。光记录装置包含：以预定时间间隔发射具有在飞秒到微微秒量级范围内的超短脉冲的激光以利用多个脉冲序列形成记录标记的锁模激光光源；能够接收、放大以及输出从所述锁模激光光源发出的激光的半导体光学放大器，在形成记录标记于介质中的时间段期间调制所述激光的脉冲序列中的脉冲的幅度，使得该脉冲序列的中心处的脉冲的幅度变成峰值；以及用于利用调制过的激光照射介质的装置。

[0034] 在该实施例中，在形成记录标记于介质中的时间段由调制装置调制从锁模激光光源发出的激光的脉冲，并且利用所述脉冲照射介质。因此，用具有更大强度的激光照射期望用具有更大强度的激光照射的介质的位置，而用具有更小强度的激光照射期望用具有更小强度的激光照射的介质的位置，从而可以在介质上适当的位置形成具有适当形状的记录标记。

[0035] 调制装置调制脉冲的幅度。

[0036] 利用这种结构，当利用从锁模激光光源发出的激光的多个脉冲序列形成记录标记时，形成记录标记的脉冲序列的两端处的脉冲的幅度被设置成小于其它脉冲的幅度，从而可以恰当地控制记录标记的形状。

[0037] 调制装置调制脉冲的频率。

[0038] 利用这种结构，当利用从锁模激光光源发出的激光的多个脉冲序列形成记录标记时，每个预定时间段的脉冲序列的脉冲数量被减少，从而在确保记录标记的正确形成的同时，电能、发热量以及激光发射所需的功耗可被降低。

[0039] 光记录装置还包含用于旋转介质以利用调制过的激光照射介质的装置。 [0040] 利用这种结构，用所述激光照射正在旋转的介质，从而在介质中可以形成大量记录标记。

[0041] 如上所述，根据本发明的实施例，利用锁模激光光源可以在介质上的合适位置形成具有正确形状的记录标记。

[0042] 根据如附图中所示本发明的以下优选实施例的详细描述，本发明的这些以及其它目的、特性和优点会变得更明显。

[0043] 附图说明

[0044] 图1的模块图示出了根据本发明的第一实施例的光记录装置；

[0045] 图2的图例示出了激光的束强度的平方与记录标记的尺寸之间的关系； [0046] 图3的流程图示出了使用图1的光记录装置的光记录方法；

[0047] 图4的图例示出了照射位置与由半导体光学放大器放大的激光的强度之间的关系；

[0048] 图5A的剖面图示出了第一实施例中的记录标记的曝光历史，图5B的剖面图示出了对比例1中的记录标记的曝光历史，以及图5C的剖面图示出了对比例2中的记录标记的曝光历史；

[0049] 图6A的剖面图示出了第一实施例中的记录标记，图6B的剖面图示出了对比例1中的记录标记，以及图6C的剖面图示出了对比例2中的记录标记；

[0050] 图7的图例根据第二实施例和第三实施例示出了照射位置与由半导体光学放大器放大的激光的强度之间的关系；

[0051] 图8的图例根据第二实施例和第四实施例示出了照射位置与由半导体光学放大器放大的激光的强度之间的关系；

[0052] 图9A至9C的剖面图分别根据第二至第四实施例示出了记录标记，以及图9D和9E的剖面图分别示出了对比例3和4中的记录标记；

[0053] 图10的图例示出了利用电光调制器的光记录装置的光学系统；以及 [0054] 图11的图例示出了利用声光调制器的光记录装置的光学系统。 具体实施方式

[0055] 下面将参考附图描述本发明的实施例。

[0056] 图1的模块图根据本发明的第一实施例示出了一种光记录装置。 [0057] 如图1所示，光记录装置1包含锁模激光器2、半导体光学放大器3、控制器4、透镜5、中继透镜6、物镜7、纯伺服(servo-only)激光器8、透镜9、光束分离器11、光束分离器12、聚焦透镜13、聚焦伺服的光电检测器14、物镜聚焦伺服装置15、物镜致动器16和主轴17。

[0058] 锁模激光器2以预定时间间隔产生超短脉冲。″超短脉冲″是指例如其脉冲宽度落在飞秒至微微秒量级范围内。激光具有500MHz的频率和405nm的波长，并且被用于记录。作为激光介质，使用例如Ti:S(掺入钛的蓝宝石)。因此，可以获得具有非常短的脉冲宽度和大峰值功率的脉冲。

[0059] 半导体光学放大器3接收从锁模激光器2发射的激光，并且根据来自控制器4的控制信号放大所述激光以及调制其频率以输出所述激光。

[0060] 控制器4以预定时间间隔向半导体光学放大器3输出用于控制由半导体光学放大器3接收的激光的放大系数的控制信号，用于调制频率的控制信号等等。半导体光学放大器3和控制器4控制定时和放大系数，其中以该定时和放大系数利用来自锁模激光器2的激光来照射记录介质10。

[0061] 透镜5使从半导体光学放大器3输出的激光朝着中继透镜6行进。 [0062] 中继透镜6使来自透镜5的激光经由光束分离器11和12朝着物镜7行进。中继透镜6也被用于沿着记录介质10的厚度方向调整激光的焦点 位置。

[0063] 物镜7在记录介质10上聚焦入射激光。物镜7具有0.85的NA。在双光子吸收材料被用于记录介质10的情况下，在焦点附近的能量较大，因而发生双光子吸收，从而在焦点位置处形成空穴(孔)。相反，偏离焦点的区域具有小能量，因而不发生双光子吸收，不形成空穴(孔)。

[0064] 纯伺服激光器8朝着透镜9发射仅用于聚焦伺服并且具有例如630nm波长的聚焦伺服光F。

[0065] 透镜9使聚焦伺服光F朝着光束分离器11行进。

[0066] 光束分离器11朝着光束分离器12反射聚焦伺服光F。

[0067] 光束分离器12使来自光束分离器11的聚焦伺服光F穿过其中。已穿过光束分离器12的聚焦伺服光F被物镜7聚焦并且被记录介质10的参考表面反射。记录介质10的参考表面是波长选择性薄膜，其反射聚焦伺服光F，但是使用于记录的激光穿过其中。被参考表面反射的聚焦伺服光F通过物镜7进入光束分离器12。光束分离器12朝着聚焦透镜13反射入射聚焦伺服光F。

[0068] 聚焦透镜13在光电检测器14上聚焦被光束分离器12反射的聚焦伺服光F。 [0069] 基于来自聚焦透镜13的聚焦伺服光F，光电检测器14利用例如散光方法将信号输出到物镜聚焦伺服装置15。

[0070] 基于来自光电检测器14的信号，物镜聚焦伺服装置15输出用于控制物镜致动器16的控制信号。

[0071] 物镜致动器16根据来自物镜聚焦伺服装置15的控制信号移动物镜7以执行聚焦控制。

[0072] 图2的图例示出了激光的束强度的平方与记录标记的尺寸之间的关系。 [0073] 如图2所示，例如通过针对记录介质调整照射激光的幅度(光束强度)，可以调整记录介质上形成的记录标记的尺寸。

[0074] 例如，双光子吸收材料被用于记录材料，物镜的数值孔径NA为0.85，激光的波长为400nm，并且进入记录介质的激光的幅度(光束强度)按1进行标准化。 [0075] 在这种情况下，当光束强度的平方超过阈值(例如0.2)时，形成空穴(孔)，当激光的幅度为1、0.8和0.6(光束强度分别为1.0、0.8和0.6)时，记录标记的尺寸分别变为0.48μm、0.41μm和0.29μm。通过这种方式，当双光子吸收材料被用于记录介质时，得到平方律特性，因此仅在记录介质的焦点位置处可以产生激励。

[0076] 接下来，将描述有关利用图1中所示的光记录装置1在记录介质10上光学记录信息的方法。

[0077] 图3流程图示出了利用图1的光记录装置1的光记录方法，图4的图例示出了照射位置与由半导体光学放大器3放大的激光的强度之间的关系。

[0078] 如图1所示，记录介质10被安置在主轴17上并且被驱动机构(未示出)旋转(ST301)。例如，线速度被设置成5m/s。

[0079] 例如，锁模激光器2以预定时间间隔发射具有超短脉冲的激光(ST302)。 [0080] 控制器4以预定时间间隔向半导体光学放大器3输出用于控制已进入半导体光学放大器3的激光(的脉冲)的幅度的放大系数的控制信号。从而，以预定时间间隔调制从锁模激光器2发出的激光的脉冲的幅度(ST303)。

[0081] 例如，如图4中所示，在激光对记录介质10的照射位置范围为从0到40(nm)的情况下，穿过半导体光学放大器3的激光的强度被设置成0。在激光对记录介质10的照射位置范围为从40到50(nm)以及从70到80(nm)的情况下，穿过半导体光学放大器3的激光的强度被设置成0.1。此外，在激光对记录介质10的照射位置范围为从50到70(nm)的情况下，穿过半导体光学放大器3的激光的强度被设置成大约为0.9。即，用于形成单个记录标记G的脉冲序列的两端处的脉冲的幅度被设置成小于脉冲序列的其它脉冲的幅度。用于形成记录标记G的脉冲序列的中心处的脉冲具有峰值幅度。因此，在记录表面上沿着共面方向X的记录标记G的长度变为期望的长度L1(例如，120nm)。

[0082] 如图4中所示，对比例1是这样一个例子，其中利用以预定时间间隔从锁模激光器发出的、均具有约为0.8的强度的12个激光束照射记录介质。对比例2是这样一个例子，其中利用以预定时间间隔从锁模激光器发出的、均具有约为0.45的强度的12个激光束照射记录介质。

[0083] 例如，其强度已被调制的激光束被物镜7聚焦，并且用所述激光束照射记录介质10以形成记录标记(ST304)。

[0084] 图5A的剖面图示出了在该实施例中记录标记的曝光历史，图5B的剖面图示出了对比例1中的记录标记的曝光历史，以及图5C的剖面图示出了对比例2中的记录标记的曝光历史。图6A的剖面图示出了在该实施例中的记录标记，图6B的剖面图示出了对比例1中的记录标记，以及图6C的剖面图示出了对比例2中的记录标记。

[0085] 在该实施例中，如图5A所示，空穴按交叠方式形成，同时在记录介质10的记录表面上沿着共面方向X彼此偏离，以及如图6A所示，形成记录标记G，其具有在记录介质10的记录表面上沿着共面方向X的期望长度L1和沿着其厚度方向Z的期望长度L2。 [0086] 如图5B所示，在对比例1中，空穴按交叠方式形成，同时在记录介质10的记录表面上沿着共面方向X彼此偏离，以及如图6B所示，形成记录标记Gb，其具有在记录介质10的记录表面上沿着共面方向X的长度L1′和沿着其厚度方向Z的长度L2。即，形成记录标记Gb，其具有记录表面上沿着厚度方向Z的期望长度L2和沿着共面方向X比期望长度L1长的长度L1′。

[0087] 在对比例2中，如图5C所示，空穴按交叠方式形成，同时在记录介质10的记录表面上沿着共面方向X彼此偏离，以及如图6C所示，形成记录标记Gc，其具有在记录介质10的记录表面上沿着共面方向X的长度L1和沿着其厚度方向Z的长度L2′。即，形成记录标记Gc，其具有记录表面上沿着共面方向X的期望长度L1和沿着厚度方向Z比期望长度L2短的长度L2′。

[0088] 如上所述，根据该实施例，锁模激光器2以预定时间间隔发射激光(ST302)，以预定时间间隔(每当经过了在记录介质10上形成记录标记的时间段时)由半导体光学放大器3调制所发射的激光的脉冲的幅度(ST303)，以及利用所述激光照射正被旋转的记录介质10(ST304)。因此，利用具有大强度的激光照射记录介质10上期望用具有大强度的激光照射的位置(图4中所示的50到70nm的范围)，以及利用具有小强度的激光照射其上期望用具有小强度的激光照射的位置(图4中所示的40到50nm和70到80nm的范围)，在记录介质10上的适当位置上形成具有适当形状(记录表面上沿着共面方向X的长度：L1，沿着厚度方向Z的长度：L2)的记录标记G。

[0089] 相应地，如图6B所示，在记录表面上沿着共面方向X的记录标记Gb的长度变成对比例1中的L1′，因此缩短了记录表面上沿着共面方向X记录标记Gb之间的间隔，从而不能检测到稳定信号。相反，在该实施例中，如图6A所示，记录表面上沿着共面方向X的记录标记G的长度可被设置成期望的长度L1，因而可以防止记录表面上沿着共面方向X的相邻记录标记G之间的间隔变得比预定距离短。因而，可以从记录标记G中检测到稳定的再现信号。

[0090] 此外，如图6C所示，在对比例2中，沿着厚度方向Z的记录标记Gc的长度变成小于L2的L2′，因此，在再现的时候，变得难以用激光主动照射记录标记Gc以进行再现，从而变得难以检测到稳定信号。相反，在该实施例中，如图6A所示，记录标记G的长度沿着厚度方向Z可被设置成大于L2′的期望长度L2，因此在再现的时候，可以用激光主动照射记录标记G以便再现。因而，可以从记录标记G中检测到稳定的再现信号。

[0091] 接下来，将描述根据第二实施例的光记录方法。应该注意到，在该实施例和后续的实施例中，与第一实施例中相同的部分等等被表示成相同参考符号，并且忽略其描述而将主要描述不同点。

[0092] 图7的图例根据第二实施例和第三实施例示出了照射位置与由半导体光学放大器3放大的激光的强度之间的关系。图8的图例根据第二实施例和第四实施例示出了照射位置与由半导体光学放大器3放大的激光的强度之间的关系。图9A至9C的剖面图根据第二至第四实施例分别示出了记录标记。图9D的剖面图示出了对比例3中的记录标记，以及图9E的剖面图示出了对比例4中的记录标记。

[0093] 如图7所示，第二实施例不同于第一实施例，其中用激光照射的记录介质10的照射位置范围被扩展了(形成了记录表面上沿着共面方向X较长的记录标记)。 [0094] 在该实施例中，控制器4以预定时间间隔向半导体光学放大器3输出用于控制已进入半导体光学放大器3的激光(的脉冲)的幅度的放大系数的控制信号。因而，以预定时间间隔调制从锁模激光器2发出的激光的脉冲的幅度，使其强度变成大约0.8，而照射位置的范围为0到480nm。

[0095] 因而，如图9A所示，空穴按交叠方式形成，同时在记录介质20a的记录表面上沿着共面方向X彼此偏离，因此形成记录标记G2，其具有在 记录介质20a的记录表面上沿着共面方向X的期望长度L10和沿着记录介质20a的厚度方向Z的期望长度L2。 [0096] 应该注意到，图9D中所示的对比例3不同于对比例1的地方在于，记录介质20d上形成的记录标记G5在记录表面上沿着共面方向X比记录标记Gb长，并且不同于图9A中所示的第二实施例的地方在于，记录标记G5的长度在记录表面上沿着共面方向X比期望的长度L10长。此外，图9E中所示的对比例4不同于对比例2的地方在于，记录介质20e的记录标记G6的长度在记录表面上沿着共面方向X比记录标记Gc长，并且不同于图9A中所示的第二实施例的地方在于，记录标记G6的长度沿着厚度方向Z比期望的长度L2要小。 [0097] 相反，在该实施例中，如图9A所示，可以形成记录标记G2，其具有在记录介质的记录表面上沿着共面方向X的期望长度L10。

[0098] 第三实施例不同于第二实施例的地方在于，以预定时间间隔从锁模激光器2发出的激光的脉冲的幅度被调制，并且利用具有0.8强度的激光以均是第二实施例中的预定时间间隔的两倍的时间间隔照射记录介质20b。

[0099] 因而，如图9B所示，按交叠方式在记录面上沿着共面方向X在记录介质20b上形成空穴，同时空穴彼此偏离的距离是第二实施例中的距离的两倍，并且形成记录标记G3，其具有在记录介质20b的记录表面上沿着共面方向X的期望长度L10和沿着记录介质20b的厚度方向Z的期望长度L2。

[0100] 因而，每一预定时间周期的脉冲序列中的脉冲数量被减少，使得能够在保证记录标记G3的正确形成的同时，减少电能、发热量和激光的放大所需的功耗。 [0101] 如图8所示，第四实施例不同于第二实施例的地方在于，由半导体光学放大器3调制激光，使得脉冲序列的两端处的脉冲的幅度被设置成大于其它脉冲的幅度，从而将两端处的激光的强度设置得较大。

[0102] 因而，如图9C所示，可以将记录介质20c上的记录标记G4形成为双端钟形。即，可以将记录标记G4的端部沿着记录面上的共面方向X设置成大于其中心部分。因而，当再现记录标记G4时，可以增强对再现信号的边缘的反应。

[0103] 应该注意到，本发明不局限于上述实施例，并且在不偏离本发明的技术思路的情况下，可以进行各种修改。

[0104] 在上述实施例中，半导体光学放大器3被用于调制从锁模激光器2发出的激光的脉冲。然而，可以使用电光调制器、声光调制器等等代替半导体光学放大器3。 [0105] 图10的图例示出了利用电光调制器的光记录装置的光学系统。 [0106] 如图10所示，取代图1中所示的半导体光学放大器3，电光调制器30和偏振器(偏振光束分离器)32被布置于锁模激光器2和聚焦透镜5之间。

[0107] 例如，电光调制器30可基于来自控制器4的控制信号，以预定时间间隔将电压施加到非线性光学晶体(例如，磷酸二氢钾(KDP)晶体)31上。因此，通过以预定时间间隔对非线性光学晶体31施加电压，例如，可以控制激光的偏振态，并且可以调制穿过非线性光学晶体31的光强度。因而，如上述实施例，激光的脉冲被调制，并且用所述激光照射记录介质，从而可以恰当地控制记录标记的形状。偏振器(偏振光束分离器)32仅输出已穿过非线性光学晶体31的特定偏振分量。

[0108] 法布里-珀罗干涉仪可被用于调制从锁模激光器发出的激光。当使用法布里-珀罗干涉仪时，使从锁模激光器发出的激光进入法布里-珀罗干涉仪，基于电信号调制所述激光，用适当的激光照射记录介质的适当位置，从而可以形成具有适当形状的记录标记。 [0109] 图11的图例示出了利用声光调制器的光记录装置的光学系统。 [0110] 如图11所示，取代图1中所示的半导体光学放大器3，声光调制器40和透镜46被布置于锁模激光器2和聚焦透镜5之间。

[0111] 声光调制器40包含诸如磷化镓和石英晶体的声光材料41、振荡器42、混频器43、放大器44和压电元件45。声光材料41被布置于来自锁模激光器2的激光进入的位置。混频器43对来自振荡器42的信号执行AM调制。放大器44放大来自混频器43的信号。基于被如此放大的信号驱动压电元件45。当压电元件45被驱动时，声波可被输入给声光材料41。基于输入到声光材料41的声波的强度，可调制穿过声光材料41的光(衍射光)强度。
因而，激光的脉冲被调制，以及用所述激光照射记录介质，从而可以如上述实施例那样恰当地控制记录标记的形状。透镜46将来自锁模激光器2的激光聚焦到声光材料41上。 [0112] 在上述实施例中，来自锁模激光器2的激光的脉冲的幅度被调制。然而，取代半导体光学放大器3，电光调制器可被用于调制来自锁模激光器 2的激光的脉冲频率。通过对上述非线性光学晶体施加电压，电光调制器可调制穿过非线性光学晶体的激光的频率。因而，例如，在减少电能、发热量和激光发射所需的功耗的同时，可实现上述第三实施例。