取向膜摩擦工艺用摩擦布转让专利

申请号 : CN200810103610.9

文献号 : CN101556409B

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基本信息:

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法律信息:

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发明人 : 宋省勳

申请人 : 北京京东方光电科技有限公司

摘要 :

本发明涉及一种取向膜摩擦工艺用摩擦布,包括贴附于配向滚轴外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽,所述摩擦毛羽与取向膜表面接触的端部为倾斜状。本发明通过将摩擦毛羽端部设置成倾斜状,在摩擦中,利用较长的摩擦毛羽实现较大的摩擦强度,利用较短的摩擦毛羽获得较高的取向方向均匀度,实现均匀的取向方向。本发明在具有较大摩擦强度的前提下,可以实现更均匀的取向方向,提高了液晶显示装置的对比度和画面品质。

权利要求 :

1.一种取向膜摩擦工艺用摩擦布,包括贴附于配向滚轴外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽,其特征在于,所述摩擦毛羽与取向膜表面接触的端部为倾斜状平面。

2.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述基膜具有相同的厚度,排列在所述基膜上摩擦毛羽的长度逐渐增加或减少。

3.根据权利要求2所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述摩擦毛羽长度的最大值与最小值之差小于或等于2mm。

4.根据权利要求2所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述摩擦毛羽与取向膜表面接触的端部形成的倾斜角小于10°。

5.根据权利要求1所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述基膜厚度逐渐增加或减少,排列在所述基膜上摩擦毛羽的长度相同。

6.根据权利要求5所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述基膜厚度的最大值与最小值之差小于或等于2mm。

7.根据权利要求5所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述基膜厚度变化形成的倾斜角小于10°。

8.根据权利要求1~7中任一权利要求所述的取向膜摩擦工艺用摩擦布,其特征在于,所述摩擦毛羽为人造纤维或棉绒。

说明书 :

取向膜摩擦工艺用摩擦布

技术领域

[0001] 本发明涉及一种液晶显示装置生产装置,特别是一种取向膜摩擦工艺用摩擦布。 背景技术
[0002] 近年来,液晶显示装置(Liquid Crystal Display,简称LCD)产品已应用到多种领域。液晶显示装置的主体结构包括对盒在一起将液晶物质填充其间的彩膜基板和阵列基板,利用电场进行液晶分子的取向控制,通过液晶折射率各向异性使透射率发生变化并进行显示。为使液晶分子得到一样的排列,彩膜基板和阵列基板的内表面上均涂敷有取向膜。目前的取向技术主要采用摩擦(robbing)法实现,对液晶分子产生均一的锚定作用,从而使液晶分子在彩膜基板和阵列基板之间的某一区域内以一定的沟槽呈现均匀、一致的排列。
[0003] 现有技术取向膜摩擦工艺一般采用摩擦布按一定方向摩擦取向膜。图7为现有摩擦布的结构示意图,摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2,摩擦毛羽2(摩擦布与基板相接触的部分)为沿基膜长度方向等高度设置。摩擦布摩擦取向膜后,在取向膜表面摩擦出按一定方向排列的沟槽,取向膜上的液晶分子依该沟槽排列。摩擦毛羽的材料一般是人造纤维(Rayon)或棉绒(Cotton),人造纤维的特点是摩擦毛羽的长度短,但弹性好,即使与基板接触长度短也能具有较好的摩擦强度;棉绒的特点是可以设置多个摩擦毛羽,多个摩擦毛羽与取向膜同时接触,取向精密度较高。
[0004] 现有技术为了提高液晶的取向力,在摩擦工艺中注重增加摩擦毛羽与取向膜的接触长度,以增大保留液晶的锚定力,防止残像等现象。但是, 摩擦毛羽与取向膜的接触长度增加使摩擦强度增大,导致取向方向均匀度降低。

发明内容

[0005] 本发明的目的是提供一种取向膜摩擦工艺用摩擦布,有效解决现有技术摩擦毛羽与取向膜接触长度增加导致取向方向均匀度降低等技术缺陷。
[0006] 为了实现上述目的,本发明提供了一种取向膜摩擦工艺用摩擦布,包括贴附于配向滚轴外表面上的基膜和固定在所述基膜上的摩擦毛羽,所述摩擦毛羽与取向膜表面接触的端部为倾斜状平面。
[0007] 所述基膜具有相同的厚度,排列在所述基膜上摩擦毛羽的长度逐渐增加或减少。进一步地,所述摩擦毛羽长度的最大值与最小值之差小于或等于2mm。所述摩擦毛羽与取向膜表面接触的端部形成的倾斜角小于10°。
[0008] 所述基膜厚度逐渐增加或减少,排列在所述基膜上摩擦毛羽的长度相同。进一步地,所述基膜厚度的最大值与最小值之差小于或等于2mm。所述基膜厚度变化形成的倾斜角小于10°。
[0009] 在上述技术方案基础上,所述摩擦毛羽为人造纤维或棉绒。
[0010] 本发明提出了一种取向膜摩擦工艺用摩擦布,通过将摩擦毛羽的端部设置成倾斜状,在摩擦中利用较长的摩擦毛羽实现较大的摩擦强度,利用较短的摩擦毛羽获得较高的取向方向均匀度,实现均匀的取向方向。因此,本发明在具有较大摩擦强度的前提下,可以实现更均匀的取向方向,提高了液晶显示装置的对比度和画面品质。
[0011] 下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。 [0012] 附图说明
[0013] 图1为本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布第一实施例的结构示意图; [0014] 图2a为接触长度与摩擦强度的关系曲线;
[0015] 图2b为摩擦强度与液晶取向力的关系曲线;
[0016] 图2c为接触长度与方向均匀度的关系曲线;
[0017] 图3为本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布工作示意图;
[0018] 图4为本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布第二实施例的结构示意图; [0019] 图5为本发明取向工艺后的效果图;
[0020] 图6为现有技术取向工艺后的效果图;
[0021] 图7为现有摩擦布的结构示意图。
[0022] 附图标记说明:
[0023] 1-基膜; 2-摩擦毛羽; 10-配向滚轴。

具体实施方式

[0024] 图1为本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布第一实施例的结构示意图。如图1所示,本实施例取向膜摩擦工艺用摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2,基膜1用于将摩擦布贴附于配向滚轴的外表面,摩擦毛羽2固定在基膜1上,使用时与基板(阵列基板或彩膜基板)上的取向膜表面接触,在配向滚轴转动时摩擦取向膜表面,通过对取向膜表面施以摩擦处理,在取向膜经摩擦毛羽擦过的方向上形成具有一定取向方向的沟槽。具体地,本实施例的基膜1具有相同的厚度,沿基膜1的长度方向上,摩擦毛羽2的长度逐渐增加或减小,形成具有倾斜状摩擦毛羽端部的结构。例如在如图1所示的本实施例中,从左向右方向,摩擦毛羽2的长度逐渐增加,左端部位置摩擦毛羽1的长度为a,右端部位置摩擦毛羽1的长度为b,使摩擦毛羽形成具有倾斜角α的端部,且0°<α≤10°,其中α=arctg((b-a)/L),L为基膜1的长度。或者,左端部位置摩擦毛羽的长度a和右端部位置摩擦毛羽的长度b满足关系:(b-a)≤2mm。
[0025] 经发明人深入研究表明,采用摩擦布对取向膜表面进行摩擦处理时,摩擦布的摩擦毛羽与取向膜接触长度增加,摩擦强度会增大(如图2a所示)。 随着摩擦强度越大,LC取向力增加,增大了保留液晶的锚定力(如图2b所示)。但摩擦布的摩擦毛羽与取向膜接触长度增加会导致摩擦中的阻抗力增大,使摩擦时有可能会使摩擦毛羽脱离摩擦方向,导致取向方向均匀度降低(如图2c所示),最终导致漏光现象,并降低对比度。本发明通过将摩擦毛羽端部设置成倾斜状,可以有效解决摩擦毛羽与取向膜接触长度增加导致取向方向均匀度降低的缺陷。具体地,当摩擦毛羽与取向膜接触时,由于摩擦毛羽端部为倾斜状,摩擦毛羽与取向膜接触长度会发生变化,通过接触长度的改变提高取向方向的均匀性。 [0026] 图3为本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布工作示意图。如图3所示,基膜1贴附于配向滚轴10的外表面上,摩擦毛羽2固定在基膜1上,由于本发明将摩擦毛羽端部设置成倾斜状,因此在配向滚轴10转动时,摩擦毛羽2端部的轨迹为螺旋形,而不是现有技术通常的圆形轨迹。在配向滚轴转动中,当较长的摩擦毛羽与取向膜接触时,与取向膜的接触长度大,可以实现较大的摩擦强度;当较短的摩擦毛羽与取向膜接触时,与取向膜的接触长度短,可以实现均匀的取向方向。因此,本实施例取向膜摩擦工艺用摩擦布结构一方面可以提供较大的摩擦强度,同时可以实现均匀的取向方向。
[0027] 现有摩擦工艺条件进行摩擦时,在一个像素区域中约有1次左右的摩擦回转,即配向滚轴转动360°左右。本实施例通过调整配向滚轴的转动速度(如1000rpm)及移动速度,使各像素区域中至少进行2次摩擦回转,避免在一个像素区域开始部分与结束部分具有不同的接触长度。对于较大尺寸的像素区域,需要摩擦回转的次数增加,因此本发明上述技术方案更适用于较大液晶显示装置的生产。
[0028] 图4为本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布第二实施例的结构示意图。如图4所示,本实施例取向膜摩擦工艺用摩擦布包括基膜1和摩擦毛羽2。本实施例是在前述本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布第一实施例的基础上,基膜1的厚度逐渐增加或减少(如一边为倾斜边的梯形),沿基膜1的长度方向上, 摩擦毛羽2的长度相等,形成具有倾斜状摩擦毛羽端部的结构。例如在如图4所示的本实施例中,基膜厚度的变化形成倾斜角α,且0°<α≤10°,基膜1上摩擦毛羽2的长度相等,使左端部位置摩擦毛羽1的端部高度为a,右端部位置摩擦毛羽1的端部高度为b,a和b满足关系:(b-a)≤2mm。本实施例是前述第一实施例结构的一种变形,同样一方面可以提供较大的摩擦强度,同时可以实现均匀的取向方向。
[0029] 本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布适用于LCD的生产。LCD由阵列基板、彩膜基板、液晶和液晶驱动构成,阵列基板上形成有栅线、数据线和多个像素,每个像素由一个或两个TFT驱动,在栅线上施加较高的电压,TFT的沟道导通,随数据线施加的电压使像素充电,所充的电荷在阵列基板和彩膜基板上产生压差,使液晶随电场方向旋转。在阵列基板和彩膜基板制备完成后,首先在阵列基板和彩膜基板的表面涂布取向膜,之后采用本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布进行摩擦处理,经过两个基板的取向工艺后,进行两个基板相贴合的密封涂布工艺和液晶滴注工艺,最终完成面板制造。
[0030] 图5为本发明取向工艺后的效果图,为便于比较,图6为现有技术取向工艺后的效果图。如图5、图6所示,通过比较可以看出,采用本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布进行摩擦处理后,相对于目标摩擦方向A,本发明摩擦方向B具有角度较小的偏差,而现有技术摩擦方向C的角度偏差较大。因此,与现有技术相比,采用本发明取向膜摩擦工艺用摩擦布在具有较大摩擦强度的前提下,可以实现更均匀的取向方向,提高了液晶显示装置的对比度和画面品质。
[0031] 最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神和范围。