用于制造只读光盘介质的方法和只读光盘介质

摘要

在信息信号记录平面上的信息信号区域对应于调制信息数据被形成为在反射镜上的凹坑，并被金属合金反射膜覆盖。信息信号区域具有不包含对应于信息数据的凹坑的部分。在不包含凹坑的相应部分上的金属合金反射膜部分被形成为对应于信息数据的穿孔标记。在这种情况下，通过调整凹坑的深度和宽度和/或调整穿孔标记的宽度和长度，可以获得与穿孔标记信号的再现信号振幅电平基本相同的预制凹坑信号再现信号振幅电平。这样抑制由于波形等化电路引起的波形变形的产生或者由于限制电平移位引起的二进制信号的不规则性，从而通过同一读取设备稳定地、可靠地检测信号。

权利要求

1.一种只读光盘介质的制造方法，其特征在于包括用于根据第一调制信号在信息记录表面上形成凹凸形状的成形工序、以及用于使用反射膜覆盖该信息记录表面的沉积工序，并且，其特征在于在所述成形工序中形成记录轨道，在该记录轨道中凹凸形状作为由凹坑和平台形成的第一记录数据序列设置，其中，该制造方法在所述沉积工序之后还包括：

用于在记录轨道的一部分中设置附加信息记录区域的工序，在记录轨道中第一记录数据序列在成形工序中由凹坑和平台形成，附加信息记录区域与该平台处于同一平面；以及用于在附加信息记录区域中由穿孔标记形成第二记录数据序列的工序，所述穿孔标记是通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜来形成的，并且其中，第一记录数据序列的形成和第二记录数据序列的形成这样被执行，使得当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，通过在形成第二记录数据序列的工序中调整通过擦除或减少反射膜形成的穿孔标记的宽度和/或长度，或者通过在成形工序中调整凹坑的宽度和/或长度，使第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平相等。

2.根据权利要求1所述的只读光盘介质的制造方法，其特征在于，形成第一记录数据序列的信息数据调制方法与形成第二记录数据序列的信息数据调制方法相同。

3.一种只读光盘介质的制造方法，其特征在于包括用于根据第一调制信号在信息记录表面上形成凹凸形状的成形工序、以及用于使用反射膜覆盖该信息记录表面的沉积工序，并且，其特征在于在所述成形工序中形成记录轨道，在该记录轨道中凹凸形状作为由凹坑和平台形成的第一记录数据序列设置，其中，该制造方法在所述沉积工序之后还包括：

用于在记录轨道的一部分中设置附加信息记录区域的工序，在记录轨道中第一记录数据序列在成形工序中由凹坑和平台形成，附加信息记录区域与该平台处于同一平面；以及用于在附加信息记录区域中由穿孔标记形成第二记录数据序列的工序，所述穿孔标记是通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜来形成的，并且其中，第一记录数据序列的形成和第二记录数据序列的形成这样被执行，使得当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，通过在形成第二记录数据序列的工序中调整通过擦除或减少反射膜形成的穿孔标记的宽度和/或长度，或者通过在成形工序中调整凹坑的宽度和/或长度，使对应于第一记录数据序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平相等。

4.根据权利要求3所述的只读光盘介质的制造方法，其特征在于，形成第一记录数据序列的信息数据调制方法与形成所述第二记录数据序列的信息数据调制方法相同。

5.一种只读光盘介质的制造方法，其特征在于包括用于根据第一调制信号在信息记录表面上形成凹凸形状的成形工序、以及用于使用反射膜覆盖该信息记录表面的沉积工序，并且，其特征在于在所述成形工序中形成记录轨道，在该记录轨道中凹凸形状作为由凹坑和平台形成的第一记录数据序列设置，其中，该制造方法在所述沉积工序之后还包括：

用于在记录轨道的一部分中设置附加信息记录区域的工序，在记录轨道中第一记录数据序列在成形工序中由凹坑和平台形成，附加信息记录区域与该平台处于同一平面；以及用于在附加信息记录区域中由穿孔标记形成第二记录数据序列的工序，所述穿孔标记是通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜来形成的，并且其中，第一记录数据序列的形成和第二记录数据序列的形成这样被执行，使得当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，通过在形成第二记录数据序列的工序中调整通过擦除或减少反射膜形成的穿孔标记的宽度和/或长度，或者通过在成形工序中调整凹坑的宽度和/或长度，使第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平相等，并且，使对应于第一记录数据序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平相等。

6.根据权利要求5所述的只读光盘介质的制造方法，其特征在于，形成第一记录数据序列的信息数据调制方法与形成第二记录数据序列的信息数据调制方法相同。

说明书

用于制造只读光盘介质的方法和只读光盘介质

技术领域

[0001] 本发明涉及一种只读光盘介质及其制造方法。更具体地说，本发明涉及一种允许将唯一的信息等独立地加入到通过凹坑转印(pittransfer)批量生产的只读光盘介质的技术。

背景技术

[0002] 专利文献1：日本未审专利申请公开No.2001-135021

[0003] 专利文献2：国际公开小册子No.01/008145

[0004] 专利文献3：国际公开小册子No.02/101733

[0005] 例如，在诸如CD(致密盘)、DVD(数字通用盘)、BD(蓝光盘(Blu-ray-disc)：商标)以及HD-DVD(高清晰度DVD)的只读，即，ROM(只读存储器)类型光盘介质中，音乐、图片、游戏、应用程序以及其它数据用预定的记录调制方法被记录在称为内容区域的区域中。

[0006] 例如，由于因良好的批量生产性而导致的低生产成本，许多内容持有人使用这些只读光盘介质作为提供内容的部件。

[0007] 用于制造例如DVD的只读光盘介质的工序大致包括：母盘制作工序，用于使用激光束生产光盘母盘(optical disc master)；成形和沉积工序，用于使用从光盘母盘生产的压模生产多个光盘基底，并在光盘基底上形成膜；以及粘结工序，用于使用具有预定厚度的粘合剂将一对具有0.6mm厚度的两个光盘粘结在一起，以便形成具有1.2mm厚度的DVD光盘介质。

[0008] 在压模上设置的凹凸图案在成形和沉积工序中被转印到使用压模批量生产的光盘基底上。换句话说，充当凹凸图案的凹坑和平台(land)的记录数据序列形成在要作为信息记录表面的部分上，并且该记录数据序列形成螺旋的、或同心圆的记录轨道。其上设置有凹坑和平台的信息记录表面的凹凸形状被金属合金反射膜覆盖。

[0009] 在完成光盘后，从再现设备发射的激光被凹坑和平台反射。在凹坑序列中，凹坑之间的平台也称为“间隔”。

发明内容

[0010] 并没有假定在制造后将附加信息记录在只读光盘上。此外，虽然如上所述在信息记录表面上设置反射膜，但是并没有假定该反射膜被用作用于记录的膜。

[0011] 但是，近年来，为了管理记录有预定信息数据的只读光盘，存在对在每一张制造的只读光盘上记录诸如标识码的唯一的附加信息的方法的需求。

[0012] 但是，因为只读光盘是用上述制造工序制造的，所以很难在这样的只读光盘上记录附加信息：该只读光盘已经经过成形和沉积工序，并且，在该只读光盘上，已经将预定信息记录为凹坑，而对凹坑的信息数据没有任何影响。

[0013] 也就是说，很难在信息数据已经作为凹坑存在的信息记录区域(内容区域等)中记录附加信息。

[0014] 由于这个原因，以往提出的大多数的在只读光盘上记录诸如标识码的附加信息的方法，都是基于记录是在内容区域以外的区域进行的前提，或者采用以不同于用于主信号(使用从压模转印的凹坑和平台记录的信号)的记录调制方法的方式记录附加信息的方法。

[0015] 但是，只读光盘是基于下述前提：从内容区域以外的区域执行读取，附加信息数据具有信号输出或者与主信号的调制模式不同的调制模式。因此，只能使用具有专用读取功能的再现设备执行读取。这导致附加信息不能使用现有的再现设备进行读取的情形，并且在这点上兼容性很差。

[0016] 例如，由DVD-ROM标准定义的BCA(烧录区)记录在与信息记录区域不同的区域中，并且以与用于主信号的记录调制方法不同的记录调制方法记录。为了这个目的，具有专用读取功能的再现设备是必需的。

[0017] 此外，上述专利文献1描述了当记录附加信息时选择不同于信息记录区域的区域。

[0018] 此外，上述专利文献2公开了来自现有的信息记录区域的反射率的差被用来读取记录的附加信息的信号。在这种情况下，具有专用读取功能的再现设备是必需的。

[0019] 因此，本发明的目的在于读取只读光盘介质中的这样的信息而不需要特殊的读取设备：在具有相同的记录内容的光盘基底在上述成形和沉积工序中被生产之后，该信息被附加地记录在每个光盘上。本发明的目标还在于更稳定地、可靠地实现读取。

[0020] 根据本发明的只读光盘介质的制造方法包括：成形工序，用于根据第一调制信号在信息记录表面上形成凹凸图案；以及沉积工序，用于使用反射膜覆盖该信息记录表面，并且，该方法形成记录轨道，在该记录轨道中，凹凸形状作为由凹坑和平台(land)形成的第一记录数据序列设置。该制造方法包括用于在记录轨道中形成附加信息记录区域的工序、以及用于在沉积工序后在附加信息记录区域中由标记形成第二记录数据序列的工序，其中，在附加信息记录区域中信息记录表面是平坦的，在记录轨道中第一记录数据序列在成形工序中由凹坑和平台形成，上述标记通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜来形成。第一记录数据序列的形成和第二记录数据序列的形成这样被执行，使得当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平基本上相等。

[0021] 形成第一记录数据序列的信息数据调制方法和形成第二记录数据序列的信息数据调制方法相同。

[0022] 在用于形成第二记录数据序列的工序中，通过调整通过擦除或减少反射膜形成的标记的宽度和/或长度，将第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平调整为基本上相等。

[0023] 在成形工序中，通过调整凹坑的宽度和/或长度，将第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平调整为基本上相等。

[0024] 此外，根据本发明的只读光盘介质的制造方法包括与上述工序相似的成形工序和沉积工序，并且形成记录轨道，在该记录轨道中，凹凸形状作为由凹坑和平台形成的第一记录数据序列设置。该制造方法包括用于在记录轨道中形成附加信息记录区域的工序、以及用于在沉积工序后在附加信息记录区域中由标记形成第二记录数据序列的工序，其中，在附加信息记录区域中信息记录表面是平坦的，在记录轨道中第一记录数据序列在成形工序中由凹坑和平台形成，上述标记通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜来形成。第一记录数据序列的形成和第二记录数据序列的形成这样被执行，使得当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔(space)的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平基本上相等。

[0025] 形成第一记录数据序列的信息数据调制方法和形成第二记录数据序列的信息数据调制方法相同。

[0026] 在形成第二记录数据序列的工序中，通过调整通过擦除或减少反射膜形成的标记的宽度和/或长度，将对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平调整为基本上相等。

[0027] 在成形工序中，通过调整凹坑的宽度和/或长度，将对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平调整为基本上相等。

[0028] 此外，根据本发明的只读光盘介质的制造方法包括与上述工序相似的成形工序和沉积工序，并且形成记录轨道，在该记录轨道中，凹凸形状作为由凹坑和平台形成的第一记录数据序列设置。该制造方法包括用于在记录轨道中形成附加信息记录区域的工序、以及用于在沉积工序后在附加信息记录区域中由标记形成第二记录数据序列的工序，其中，在附加信息记录区域中信息记录表面是平坦的，在记录轨道中第一记录数据序列在成形工序中由凹坑和平台形成，上述标记通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜来形成。第一记录数据序列的形成和第二记录数据序列的形成这样被执行，使得当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平基本上相等，并且对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平基本上相等。

[0029] 形成第一记录数据序列的信息数据调制方法和形成第二记录数据序列的信息数据调制方法相同。

[0030] 在形成第二记录数据序列的工序中，通过调整通过擦除或减少反射膜形成的标记的宽度和/或长度，将第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平调整为基本上相等，并且将对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平调整为基本上相等。

[0031] 在成形工序中，通过调整凹坑的宽度和/或长度，将第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平调整为基本上相等，并且将对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平调整为基本上相等。

[0032] 根据本发明的只读光盘介质包括具有根据第一调制信号形成的凹凸形状的信息记录表面、以及用于覆盖信息记录表面的反射膜，并且记录轨道这样被形成，使得凹凸形状是由凹坑和平台形成的第一记录数据序列。在其中设置由凹坑和平台形成的第一记录数据序列的记录轨道中，设置附加信息记录区域，在该附加信息记录区域中信息记录表面是平坦的。在该附加信息记录区域中，第二记录数据序列由通过根据第二调制信号擦除或减少反射膜形成的标记形成。在这种情况下，当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平基本相等。

[0033] 或者，当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平基本相等。

[0034] 或者，当激光被施加到第一记录数据序列和第二记录数据序列上时，第一记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平和第二记录数据序列中的再现信号振幅的最小电平基本相等，并且对应于第一记录数据序列中最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平和对应于第二记录数据序列中最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平基本相等。

[0035] 也就是说，在本发明中，在使用压模批量生产光盘基底的阶段中，在记录轨道中将没有形成凹坑和平台的区域事先形成为附加信息记录区域，在该记录轨道中记录数据序列由凹坑和平台形成。金属合金反射膜被设置在包括该附加信息记录区域的信息记录表面上。

[0036] 随后，通过形成通过擦除或减少金属合金反射膜来形成标记(在下文中称为穿孔标记)，在附加信息记录区域中将附加信息记录为第二记录数据序列。

[0037] 也就是说，附加信息被记录在信息记录区域中的记录轨道的区域中(这样的区域，其中，信息被记录为凹坑和平台的第一记录数据序列，并且该区域包含诸如内容区域和导入区域(lead-in)的管理区域)。

[0038] 多种信息项可以被认为是要被记录为具有穿孔标记的第二记录数据序列的附加信息。例如，附加信息可以是每一个只读光盘介质的唯一的标识码，或者要被记录在只读光盘介质上的主数据的一部分。

[0039] 这里，当凹坑和平台的第一记录数据序列(在下文中也称为预制凹坑(prepit)信号序列)和穿孔标记的第二记录数据序列(在下文中也称为穿孔标记信号序列)以这种方式形成时，要求从预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列中都稳定地读出再现信号。

[0040] 在对来自只读光盘介质的再现信号的检测中，当来自光电检测器的信号输入到波形等化电路(waveform equalization circuit)以便处理时，如果从预制凹坑序列读出的预制凹坑信号的输入电平和从穿孔标记信号序列读出的穿孔标记信号的输入电平不同，那么输出信号的波形在信号之间的切换部分发生变形。

[0041] 对输出信号进行二值化的限制电平(slice level)被对应于预制凹坑信号序列中的最短的凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平(Isp)大大地影响。

[0042] 在预制凹坑信号和穿孔标记信号的信号电平中，由于两种信号都对应于透镜部分，所以再现信号振幅的最大电平可以被视为相等。但是，根据形成凹坑和穿孔标记的状态，最小电平可以不同。也就是说，假定作为预制凹坑信号的再现信号振幅的最小电平表示为Ibp并且作为穿孔标记信号的再现信号振幅的最小电平表示为Ibh，那么根据形成预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列的状态，Ibp和Ibh可以不同。

[0043] 因此，根据形成预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列的状态，对应于穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平(Ish)和对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平(Isp)同样地可以不同。

[0044] 简单来说，如果最小电平Ibp和Ibh非常不同，并且中间电平Isp和Ish非常不同，那么在再现中不可能稳定地实现信号处理。

[0045] 因此，在本发明中，当预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列使用相同的读取激光再现时，使得在预制凹坑信号序列中的再现信号振幅的最小电平(Ibp)和在穿孔标记信号序列中的再现信号振幅的最小电平(Ibh)基本相等。

[0046] 或者，当预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列使用相同的读取激光再现时，使得对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平(Isp)和对应于穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平(Ish)基本相等。

[0047] 或者，上述两者都满足。

[0048] 根据本发明，附加信息数据作为穿孔标记的第二记录数据序列记录在信息记录区域中的记录轨道的一部分中。穿孔标记的第二记录数据序列和预制凹坑的第一记录数据序列基于以相同的调制方法调制的调制信号形成。此外，形成预制凹坑信号序列(第一记录数据序列)和穿孔标记信号序列(第二记录数据序列)，使得当再现预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列时，在预制凹坑信号序列中的再现信号振幅的最小电平(Ibp)和在穿孔标记信号序列中的再现信号振幅的最小电平(Ibh)基本相等，或者使得对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平(Isp)和对应于穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平(Ish)基本相等。

[0049] 从以上这些可以得出，本发明有以下优点：附加信息可以独立地记录在只读光盘介质中；即使当将信号从光电检测器输入到波形等化电路时，在预制凹坑信号和穿孔标记信号之间的切换部分处也不会产生波形变形；即使当穿孔标记信号通过由预制凹坑信号确定的限制电平进行二值化时，也可以实现良好的信号检测；以及，从而可以在没有具有特殊读取功能的再现设备的情况下，也可以稳定并可靠地再现包含附加信息的信息。

附图说明

[0050] 图1是示出根据本发明实施例的光盘制造工序的说明图。

[0051] 图2是根据该实施例的只读光盘的平面图。

[0052] 图3包括该实施例的只读光盘的局部放大图和示例性横截面图。

[0053] 图4包括该实施例的只读光盘的局部放大图和示例性横截面图。

[0054] 图5包括在记录附加信息之前该实施例的只读光盘的局部放大图和示例性横截面图。

[0055] 图6是在该实施例的只读光盘中使用附加信息记录区域的SEM照片的说明图。

[0056] 图7是再现信号的眼睛模式的说明图。

[0057] 图8是示出在该实施例中的再现信号的波形的说明图。

[0058] 图9是示出凹坑深度和调制度之间关系的说明图。

[0059] 图10是示出与凹坑宽度相应的调制度的变化的说明图。

[0060] 图11是示出在该实施例中穿孔标记长度和记录激光功率之间关系的说明图。

[0061] 图12是示出在该实施例中穿孔标记宽度和记录激光功率之间关系的说明图。

[0062] 图13是示出在根据该实施例的一个实验中记录激光脉冲的说明图。

[0063] 图14是示出在该实施例中的穿孔标记的长度和宽度的说明图。

具体实施方式

[0064] 下面将描述本发明的一个实施例。在本实施例中，将给出一个例子，其中根据本发明的只读光盘介质是DVD型只读光盘。

[0065] 首先，将参考图1描述根据本实施例的用于制造只读光盘90的工序。

[0066] 图1示出根据本实施例的用于制造充当DVD的只读光盘的工序。如图所示，本实施例的光盘制造工序大致包括：母盘制作工序，用于使用激光束生产光盘母盘；成形和沉积工序，用于使用从光盘母盘生产的压模生产多个光盘基底并在光盘基底上形成膜；粘结工序，用于使用具有预定厚度的粘合剂将一对具有0.6mm厚度的两个光盘粘结在一起以便形成具有1.2mm厚度的光盘；以及附加写入工序，用于将诸如标识信息的附加信息记录在每个粘结光盘上。

[0067] 将描述这些工序。

[0068] 母盘制作工序是基于记录在主盘(master disc)91上的信息生产光盘母盘92的工序。在本工序中，使用包含记录调制信号产生单元100和激光束记录器110的母盘装置。

[0069] 记录调制信号产生单元100读取要通过再现主盘91记录的信息数据，对读取的信息数据的信号进行EFM+(八到十四调制脉冲)调制，并将产生的EFM+信号输出到激光束记录器110。

[0070] 光盘母盘92是涂敷有充当光敏材料的光致抗蚀剂的玻璃板。光致抗蚀剂的涂敷厚度对应于凹坑的深度。为了改变凹坑的深度，只需要改变光致抗蚀剂的涂敷厚度即可。激光束记录器110根据提供的EFM+信号在光盘母盘92上施加激光，并且基于EFM+信号使用凹坑图案执行曝光。凹坑的宽度和长度可以通过曝光期间的激光束的强度和曝光时间来调整。其后，当光致抗蚀剂膜显影并且光致抗蚀剂是正抗蚀剂时，曝光部分被熔化并使凹凸图案成形在光致抗蚀剂膜中，并且在光盘母盘92的表面上形成符合预定格式的凹坑图案(具有凹坑和平台的凹凸图案)。

[0071] 当记录调制信号产生单元100基于从主盘91读出的信号产生EFM+信号的时候，如上所述，其根据来自附加写入管理单元160的指令将未调制的信号插入到EFM+信号的特定期间。

[0072] 在未调制信号的定时期间中，在激光束记录器110中激光处于关闭(off)状态。换句话说，未调制的信号被插入到EFM+信号中，由此在光盘母盘92上形成未曝光部分。所有这些部分都充当作为没有凹凸形状的区域的平台，这些区域成为将在下面描述的附加信息记录区域。

[0073] 基于该光盘母盘92生产称为压模93的模子，光盘母盘92的凹坑图案被反转印在压模93上。当然，压模93也设置有附加信息记录区域。

[0074] 接着，在成形和沉积工序中，首先，成形装置120使用压模93生产光盘基底94。在光盘母盘92上形成的凹凸图案被转印到光盘基底94上，以便形成凹坑图案(预制凹坑信号序列)。

[0075] 作为用于生产光盘基底94的方法，已知有压缩模制、注入模制、光固化等方法。

[0076] 随后，诸如反射膜的涂层膜被沉积于沉积装置130中的光盘基底94上，由此生产出具有反射膜的光盘基底95，其中，凹坑图案从压模93转印在光盘基底94上。

[0077] 接着，在粘结工序中，具有反射膜的光盘基底95与粘结基底96被粘结在一起。

[0078] 作为粘结基底96，使用在与上述工序相似的工序中生产的具有反射膜的光盘基底、具有半透射反射膜(transflective film)的光盘基底或者没有涂敷反射膜的伪光盘基底(dummy optical disc substate)。

[0079] 基底粘结装置140将上述任何粘结基底96粘结到具有反射膜的光盘基底95以便生产粘结的光盘97。

[0080] 作为粘结中的附着方法，已知有使用紫外线固化树脂的方法、使用具有粘合剂的薄片的方法等。

[0081] 在常规DVD的情况下，上述粘结的光盘97是作为成品的DVD。但是，在本实施例中，如上所述，在记录轨道的一部分中设置附加信息记录区域，在附加信息记录区域中没有设置凹坑图案，在记录轨道上设置有凹坑图案。

[0082] 因此，附加写入工序是在粘结的光盘97上进行的。在附加写入工序中，附加信息记录装置150将附加信息写入粘结的光盘97上的附加信息记录区域中。例如，在光盘之中不同的标识信息被作为附加信息写入。

[0083] 附加信息记录装置150由附加写入管理单元160指示关于附加信息记录区域的位置信息(地址)，也被提供有要写入的附加信息，并且写入该附加信息。

[0084] 在这种情况下，附加信息记录装置150通过对附加信息进行EFM+调制、根据EFM+信号施加用于记录的高功率激光脉冲、并擦除或减少在附加信息记录区域中的反射膜以形成穿孔标记，来执行写入。

[0085] 穿孔标记的宽度和长度可以通过改变记录激光的输出和发光时间来调整。例如，在记录前，事先测量预制凹坑信号序列的再现信号振幅的最小电平Ibp和对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平Isp。然后，可以调整记录激光的输出和发光时间，从而使得穿孔标记信号序列的再现信号振幅的最小电平Ibh与上述最小电平Ibp基本相等，或者可以调整记录激光的输出或发光时间，从而使得对应于穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平Ish与上述中间电平Isp基本相等。

[0086] 当这一附加写入工序完成时，只读光盘90的制造完成。在上述工序中批量生产的只读光盘90可以是其上记录有相同内容(音乐、图片、游戏、应用程序等)的光盘，并且每一张光盘都具有对其唯一的附加信息。

[0087] 下面将描述以上述方式制造的本实施例的只读光盘90(DVD)。

[0088] 图2是只读光盘90的平面图。只读光盘90是直径为12cm的光盘，并且其在箭头示出的半径范围内的区域充当信息记录区域1。这一信息记录区域1是其中设置有作为例如螺旋记录轨道的基于EFM+信号由凹坑/平台形成的记录数据序列的区域，并且该区域包括记录管理信息的导入区域、记录内容数据的内容区域、导出区域等。

[0089] 图3和图4是图2中示出的信息记录区域1的区域AR1和区域AR2的局部放大图和示例性横截面图。

[0090] 在区域AR1中，产生充当凹坑和平台的记录数据序列的通常记录轨道。区域AR2包括其中设置有穿孔凹坑的附加信息记录区域。

[0091] 图3(a)是区域AR1的放大图，图3(b)是图3(a)中由虚线示出的部分的示例性横截面图。

[0092] 图3(a)示出其中设置有充当凹坑2和平台3的记录数据序列的图案的状态。

[0093] 如图3(b)所示，通过使用粘合剂5(例如，紫外线固化树脂或粘合剂片)将具有反射膜的光盘基底95与粘结基底(伪光盘基底)96粘结，只读光盘90被赋予1.2mm的厚度，例如，光盘基底95和粘结基底96中的每一个都由聚碳酸酯形成并具有0.6mm的厚度。

[0094] 在这种情况下，具有反射膜的光盘基底95的一个主平面充当信息记录表面L0。记录数据序列(预制凹坑信号序列)在信息记录表面L0上被设置为具有凹坑2和平台(间隔)3的凹凸图案。此外，在凹坑2和平台3的表面上设置反射膜4。

[0095] 可以反转凹坑2和平台3的凹凸关系。

[0096] 在图3(b)中，要与具有反射膜的光盘基底95粘结的粘结基底96是伪光盘基底(没有涂敷反射膜的盘基底)。但是，如上所述，具有反射膜的光盘基底或者具有半透射反射膜的光盘基底可以用作粘结基底96。

[0097] 虽然粘合剂5通常透射光，但是根据结构其不必一定透射光。当粘结到具有反射膜的光盘基底95的粘结基底96具有反射膜或半透射反射膜时，其上设置有反射膜或半透射反射膜的表面充当粘结表面。

[0098] 接下来，图4(a)是图2中的区域AR2的放大图，并且图4(b)是图4(a)中由虚线示出的部分的示例性横截面图。

[0099] 如图4(a)所示，某个轨道的一部分充当附加信息记录区域10。在附加信息记录区域10中，设置由在上述附加写入工序中形成的穿孔标记6形成的记录数据序列(穿孔标记信号序列)。换句话说，附加信息作为由穿孔标记6形成的记录数据序列被记录。由凹坑2和平台3形成的记录数据序列沿着轨道线方向设置在附加信息记录区域10的前后。此外，在与附加信息记录区域10相邻的轨道中，也设置凹坑2和平台3的记录数据序列。

[0100] 如图4(b)所示，虽然区域AR2的基本层结构与图3(b)所示相似，但是穿孔标记6设置在信息记录表面L0的部分上。换句话说，穿孔标记6以这样的方式形成，使得金属合金反射膜4被擦除或减少并且几乎不存在。

[0101] 图5(a)和图5(b)示出对应于图4(a)和图4(b)的在上述附加写入工序中附加信息被记录前的状态。

[0102] 如图5(a)所示，附加信息记录区域10是充当其中没有形成具有凹坑2和平台3的凹凸图案的未调制部分的区域。由图5(b)显然可知，附加信息记录区域10与平台3处于同一平面，并且被反射膜4覆盖从而形成所谓的透镜部分。

[0103] 在附加写入工序中，附加信息记录在附加信息记录区域10中。

[0104] 也就是说，上述附加信息记录装置150被准备作为使用例如高功率红色半导体激光的专用记录装置，该附加信息记录装置150具有例如通过DVD(微分相位检测)跟踪信息记录区域1中的凹坑序列的功能以及发射用于在所需部分中记录的高功率激光脉冲的功能，并且，如图4所示，该附加信息记录装置150在图5(a)所示的状态中在附加信息记录区域10中执行记录从而形成穿孔标记6。在这种情况下，发光模式使用EFM+信号以与对应于信息记录区域中的凹坑序列的调制方法相同的调制方法进行调制。

[0105] 图6示出这样的样品：在该样品中，通过入射高功率激光来形成穿孔标记6，以便在只读光盘90上的附加信息记录区域10中记录附加信息。这是其中形成穿孔标记6的附加信息记录区域10的SEM(扫描电子显微镜)观测照片。

[0106] 在SEM观测中，具有反射膜的光盘基底95在粘结表面处从粘结基底96(伪光盘基底)被剥离，并且当电子束入射在反射膜被暴露的部分上时进行观测。作为反射膜4，使用采用Al作为基础合金的包含大约1原子％的Fe和大约5原子％的Ti的Al合金。

[0107] 如图6所示，在附加信息记录区域10中设置的金属合金反射膜根据附加信息的调制信号被擦除或减少，由此形成椭圆形孔，并且很好地形成对应于凹坑的穿孔标记6。

[0108] 当然，为了将本实施例的该只读光盘90作为DVD使用，只读光盘90必须是符合DVD标准的盘。也就是说，由穿孔标记6形成记录数据序列的部分也必须符合DVD标准。

[0109] 为了这个目的，具有穿孔标记6的记录数据序列必须至少满足下列条件：

[0110] 由穿孔标记6形成的记录数据序列满足游程长度(run-length)限制。

[0111] 穿孔标记6的记录数据序列的反射率符合DVD标准。

[0112] 穿孔标记6的记录数据序列的再现信号调制度符合DVD标准。

[0113] 穿孔标记6的记录数据序列的再现信号不对称性符合DVD标准。

[0114] 穿孔标记6的记录数据序列的抖动值(jitter value)符合DVD标准。

[0115] 首先，由穿孔标记6形成的记录数据序列满足DVD游程长度限制的事实必须提供有3T到14T(T表示通道时钟周期)的穿孔标记和平台的图案。为了这个目的，以与在凹坑和平台的记录数据序列的通常形成中采用的方式相同的方式将附加信息调制成EFM+信号中，基于EFM+信号形成穿孔标记6，并且在与附加信息记录区域前后的凹坑序列的关系满足游程长度限制。

[0116] 这里，穿孔标记6是通过擦除或减少反射膜来形成的部分，并且穿孔标记6之间的间隔(平台)是正常地留有反射膜的部分。基本上，穿孔标记6之间的间隔具有与凹坑2和平台3的记录数据序列中平台3的膜厚度相似的膜厚度。因此，可以在预制凹坑部分和穿孔标记处获得再现信号振幅的几乎同一最大电平，即，I14H。

[0117] 在DVD标准中，调制度规定为如下：

[0118] I14/I14H≥0.60

[0119] I3/I14≥0.15(在单层光盘的情况下)

[0120] I3/I14≥0.20(在双层光盘的情况下)

[0121] 此外，在DVD标准中，不对称性规定如下：

[0122] -0.05≤{(I14H+I14L)/2-(I3H+I3L)/2}/I14≤0.15

[0123] 图7是再现信号的眼睛模式的示意图。I14是14T模式的最高到最低的振幅电平，I14H是14T模式的峰值电平，I14L是14T模式的最低电平，I3是3T模式的最高到最低的振幅电平，I3H是3T模式的峰值电平，I3L是3T模式的最低电平。

[0124] 因此，预制凹坑信号序列的再现信号振幅的最小电平Ibp和穿孔标记信号序列的再现信号振幅的最小电平Ibh分别对应于预制凹坑信号的I14L和穿孔标记信号的I14L。

[0125] 此外，对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平Isp和对应于穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平Ish分别对应于预制凹坑信号的(I3H+I3L)/2和穿孔标记信号的(I3H+I3L)/2。

[0126] 图8示例性地示出对应于来自光电检测器的信号的在凹坑2和平台3的记录数据序列中的再现信号振幅和在穿孔标记6的记录数据序列中的再现信号振幅。根据本实施例的只读光盘介质制造方法，如图10所示，可以从凹坑2和平台3的记录数据序列和穿孔标记6的记录数据序列获得基本相等的电平I14H、I14L、I3H和I3L，并且可以满足上述调制度和不对称性的标准。在再现设备中，即使当来自光电检测器的信号被输入到波形等化电路中，在预制凹坑信号和穿孔标记信号之间的切换部分中也不会导致波形变形。此外，即使当穿孔标记信号通过由预制凹坑信号确定的限制电平进行二值化，也可以很好地实现信号检测。

[0127] 作为再现信号振幅的I14H、I14L、I3H和I3L获得基本相等的电平的事实意味着，在预制凹坑信号序列中的再现信号振幅的最小电平(Ibp)和在穿孔标记信号序列中的再现信号振幅的最小电平(Ibh)基本相等，并且，对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平(Isp)和对应于穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平(Ish)基本相等。对基本相等的电平的测量如下：

[0128] 对于基本相等的电平，穿孔标记信号序列的指数值(用于调制度的最小电平Ibh和用于不对称性的中间电平Ish)只需要在预制凹坑信号序列的指数值(用于调制度的最小电平Ibp、和用于不对称性的中间电平Isp)的±15％内。

[0129] 也就是说，众所周知，在下列情况中，作为适当的信号再现可以获得期望的效果：

[0130] |(Ibp-Ibh)/Ibp|＜0.15

[0131] |(Isp-Ish)/Isp|＜0.15

[0132] 对于抖动值(对于通道位时钟时间)，记录数据序列只需要由穿孔标记6来形成，从而使抖动值小于或等于8.0％。

[0133] 这里，将给出对在制造的过程中实现的调整方法的描述，该调整方法使得预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列的调制度和不对称性基本相等。

[0134] 首先，如上所述，为了稳定地读出预制凹坑信号序列和穿孔标记信号序列，这些信号序列的再现信号调制度需要基本相等。

[0135] 对于穿孔标记信号序列的再现信号强度，根据再现原理(反射率差再现)和记录标记产生原理(通过加热融化膜)调制度很难大于或等于85％。因此，在预制凹坑信号序列中不能设置大大不同于85％的再现信号调制度。为了这个目的，优选的是，预制凹坑信号序列的再现信号调制度小于或等于90％。

[0136] 此外，为了稳定地读出在SNR(信噪比)良好的状态中的预制凹坑信号序列，优选的是，预制凹坑信号序列的再现信号调制度大于或等于80％。

[0137] 因此，优选的是，预制凹坑信号序列的再现信号调制度大于或等于80％并且小于或等于90％。因此，在需要基本相等的信号的穿孔标记信号序列中，再现信号调制度大于或等于80％并且小于或等于90％也是优选的。

[0138] 在母盘制作工序中调整预制凹坑信号序列中的再现信号振幅的调制度和不对称性。作为用于调整预制凹坑信号序列中的调制度的方法，可以想到使用光致抗蚀剂的涂层厚度的上述方法、在曝光母盘期间的激光束强度、和激光束发射时间(曝光时间)。

[0139] 图9示出施加到光盘母盘92上的抗蚀剂的厚度(即，只读光盘90中的凹坑深度)与调制度之间的关系。对于基底的折射率n和再现激光的波长λ，在λ/4n和3λ/4n时，再现信号调制度最大(Mmax)。

[0140] 这里，为了使该调制度基本上等于穿孔标记信号序列的调制度，如上所述，适当地设置预制凹坑信号序列的调制度以便轻易地与穿孔标记信号序列的调制度匹配。

[0141] 假定图9中的调制度M1是大于或等于80％并且小于或等于90％的期望的调制度，一种调整方法是在该图中的d1处设置在母盘制作工序中施加在光盘母盘上的抗蚀剂的厚度。

[0142] 根据在母盘曝光期间的激光束强度，凹坑宽度是可调的。这里，将考虑只读光盘90的再现。图10(a)示出用于再现的激光光点SP和凹坑3。

[0143] 众所周知，在预制凹坑信号序列中，当激光光点SP这样施加到凹坑3时，反射光的强度根据来自区域A(凹坑部分)的反射光(图10(b)中的LA)与来自区域B(凹坑外)的反射光(图10(b)中的LB)之间的相差而不同。

[0144] 当凹坑宽度Wp改变时，区域A和区域B之间的面积比也改变。在这种情况下，互相干涉的反射光LA和反射光LB之间的光量比改变。结果，再现信号调制度改变。

[0145] 换句话说，在母盘制作工序中用于母盘曝光的激光束强度的调整和设置以及凹坑宽度的适当设置也是用于调整预制凹坑信号序列的调制度的方法。

[0146] 此外，可以通过根据在母盘曝光期间的激光束发射时间(曝光时间)来微调凹坑长度，从而进行调整。

[0147] 例如，凹坑长度本身定义为3T到14T，并且激光发射时间根据T的每个凹坑长度来设置。通过微调对T的每个凹坑长度的激光发射时间，T的凹坑长度可以轻微地增加或减少。

[0148] 也就是说，在只读光盘90的阶段，凹坑2的边缘位置被微调。

[0149] 当凹坑2具有短T(例如，大约3T到6T)时，凹坑2的边缘位置的调整对应于再现信号的DC电平的调整。具有短T的凹坑是指振幅没有达到最大振幅的凹坑(例如图7中的I14)。

[0150] 因此，适当地设置激光束发射时间(曝光时间)也是用于调整预制凹坑信号序列的调制度的方法。

[0151] 虽然上文描述了预制凹坑信号序列的调制度的调整，但是从调整最大振幅和最小振幅之间的电平的不对称性的观点来看，也可以使用相似的方法。

[0152] 只需执行上述预制凹坑信号序列的调整，以便使穿孔标记信号序列的调制度和不对称性可以轻易地匹配预制凹坑信号序列的调制度和不对称性。

[0153] 接下来，将描述用于穿孔标记信号序列的调整方法。

[0154] 虽然穿孔标记信号序列在附加写入工序中被记录，但是穿孔标记6的宽度和长度可以通过改变从附加信息记录装置150输出的记录激光和发光时间来调整。

[0155] 图11和图12示出用于形成穿孔标记6的记录激光功率与穿孔标记6的宽度和长度之间的检查得到的关系。

[0156] 穿孔标记6的宽度Wh和长度Lh对应于在图14中示出的部分的尺寸。宽度Wh(n)和长度Lh(n)表示nT标记的宽度和长度。

[0157] 图11(a)示出记录激光功率和3T标记的长度Lh(3)之间的关系，图11(b)示出记录激光功率和11T标记的长度Lh(11)之间的关系。

[0158] 图12(a)示出记录激光功率和3T标记的宽度Wh(3)之间的关系，图12(b)示出记录激光功率和11T标记的宽度Wh(11)之间的关系。

[0159] 在这一测量中，如图13所示，记录激光使用[n-2]型记录补偿模式发射。在这种模式中，具有3T的长度的穿孔标记6由一个脉冲记录，具有11T的长度的穿孔标记6由九个脉冲记录。较好的是，脉冲之间的距离比T短。

[0160] 如图11和图12所示，在3T标记和11T标记中，穿孔标记6的宽度和长度可以通过记录激光功率控制。

[0161] 虽然在本实验中通过如图13所示固定脉冲发射时间并改变记录激光功率来获得在图11和图12中示出的穿孔标记的宽度和长度的关系，但是光能量量改变，并且通过改变脉冲发射时间可以控制穿孔标记的宽度和长度。在这种情况下，关系曲线图与图11和图12中示出的关系曲线图不同，但是通过记录激光功率和脉冲发射时间可以控制穿孔标记6的宽度和长度。

[0162] 由于穿孔标记6的宽度和长度可以以这种方式控制，因此可以调整穿孔标记信号序列的调制度和不对称性。

[0163] 首先考虑穿孔标记6的宽度Wh。来自穿孔标记信号序列的信号再现是基于反射光量之差。也就是说，再现信号振幅是通过基于标记部分和间隔部分之间的反射率的差的反射光量之差来获得的。随着穿孔标记6的宽度Wh增加，调制度也增加。

[0164] 此外，例如，在3T到6T标记的情况下，再现信号的DC电平可以通过微调穿孔标记6的长度Lh来调整，与上述预制凹坑信号序列相似。

[0165] 因此，通过设置用于在附加写入工序中记录穿孔标记信号序列的记录激光功率，可以使在穿孔标记信号序列中的再现信号的调制度和不对称性与预制凹坑信号序列的再现信号的调制度和不对称性基本上一致。

[0166] 也就是说，在本实施例中，例如，首先，在母盘制作工序中，要形成的预制凹坑信号序列的再现信号振幅的最小电平Ibp和对应于预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平Isp在穿孔标记信号序列中被设置为可调的。具体地说，施加在光盘母盘92上的抗蚀剂的厚度、以及激光束记录器110的记录激光功率和发光时间被适当地设置。

[0167] 在成形和沉积工序中，基于使用这种设置形成的光盘母盘92生产具有反射膜的光盘基底95。此外，在粘结工序中，生产粘结的光盘97。

[0168] 在附加写入工序中，穿孔标记信号序列被记录在粘结的光盘97上。在这种情况下，附加信息记录装置150的记录激光功率和发光时间被调整。

[0169] 结果，可以制作这样的只读光盘90，在该只读光盘90中，在预制凹坑信号序列中的再现信号振幅的最小电平Ibp和在穿孔标记信号序列中的再现信号振幅的最小电平Ibh基本上一致，并且，在该只读光盘90中，对应于在预制凹坑信号序列中的最短凹坑或间隔的再现信号振幅的中间电平Isp和对应于在穿孔标记信号序列中的最短标记或间隔的再现信号振幅的中间电平Ish基本上一致。

[0170] 下面将给出实验结果的描述，该实验结果证明，在附加信息作为穿孔标记6的记录数据序列被记录在充当由本实施例的只读光盘介质制造方法制造的只读光盘90的DVD上以后，在不需要具有特殊读取功能的再现设备的情况下，可以从DVD中检测信号。

[0171] 在这些实验中，准备在内容区域中具有多个附加信息记录区域10的光盘基底，在该光盘基底上形成具有与图6中使用的Al合金膜的组成不同的组成的大约35nm的Al合金膜，并且该光盘基底粘结到伪光盘基底上，从而制造只读DVD。

[0172] 在轨道线方向上的附加信息记录区域10的长度X(参见图4)设置为大约40μm。

[0173] 接着，在考虑到在每个附加信息记录区域10前后的凹坑序列的信息数据的情况下，在所有的多个附加信息记录区域10中附加信息由穿孔标记6形成，从而在检测再现信号后正确地解码EFM+信号。作为用于形成穿孔标记6的附加信息记录装置150，使用设置有650nm波长并且包含具有0.60的NA的物镜的光学系统的高输出激光写入器。

[0174] 如果将附加信息记录到附加信息记录区域10中没有成功，则例如，当在预制凹坑信号和穿孔标记信号之间I14L(信号振幅的最小电平)基本上不相等，并且/或者在预制凹坑信号和穿孔标记信号之间(I3H/+I3L)/2(即，对应于最短凹坑(标记)/间隔的再现信号的中间电平)基本上不相等时，由于波形等化导致的穿孔标记的变形和由于限制电平的移位导致的检测到的二进制信号的变化，导致解码错误增加。

[0175] <实验例1>

[0176] 准备一种只读光盘90(DVD)，在该只读光盘90中，在盘表面上，使用从64mW的附加信息记录装置150输出的激光在附加信息记录区域10中执行记录。

[0177] 在这种情况下，准备分别由七家制造商生产的市售的DVD播放器，并且进行再现测试。结果，在所有七个模型中都发生解码错误，并且不可能再现。在这种情况下，穿孔标记信号的I14L大于预制凹坑信号的I14L，穿孔标记信号的(I3H/+I3L)/2也大于预制凹坑信号的(I3H/+I3L)/2，并且这些值不同。

[0178] <实验例2>

[0179] 首先，准备一种只读光盘90(DVD)，在该只读光盘90中，在盘表面上，使用从66mW的附加信息记录装置150输出的激光在附加信息记录区域10中执行记录。

[0180] 接着，准备分别由七家制造商生产的市售的DVD播放器，并且进行再现测试。结果，五个模型可以读出附加信息，但是在两个模型中发生读取错误并且不能进行再现。在这种情况下，穿孔标记信号的I14L稍大于预制凹坑信号的I14L，并且穿孔标记信号(I3H/+I3L)/2也大于预制凹坑信号的(I3H/+I3L)/2，但是这些差小于实验例1中的差。

[0181] <实验例3>

[0182] 准备一种只读光盘90(DVD)，在该只读光盘90中，在盘表面上，使用从68mW的附加信息记录装置150输出的激光在附加信息记录区域10中执行记录。

[0183] 准备分别由七家制造商生产的市售的DVD播放器，并且进行再现测试。结果，在所有七个模型中都可以读出附加信息，而没有导致任何的解码错误。

[0184] <实验例4>

[0185] 准备一种只读光盘90(DVD)，在该只读光盘90中，在盘表面上，使用从73mW的附加信息记录装置150输出的激光在附加信息记录区域10中执行记录。

[0186] 然后，准备分别由七家制造商生产的市售的DVD播放器，并且进行再现测试。结果，在所有七个模型中都可以读出附加信息，而没有导致任何的解码错误。

[0187] 从上述结果证明了，当通过使用在实验例3和实验例4中输出的适当的激光记录穿孔标记6来记录附加信息时，本实施例的只读光盘90可以使用普通的市售的DVD播放器来再现，而不需要特殊的读取设备。

[0188] 如上所述，虽然本文描述了调整用于产生穿孔标记6的记录条件的情况，但是调整预制凹坑信号序列中的凹坑2的深度和宽度也是有效的。