牙科根管锉表面污染物的去除方法

摘要

本发明公开了一种牙科根管锉表面污染物的去除方法，包括以下步骤：(1)将牙科根管锉放入低温等离子体表面处理装置的上下电极之间的平台上；(2)将体系抽真空至次大气压条件；(3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.2～1.5m3/h，充气时间10～15s；(4)启动辉光放电低温等离子体表面处理装置开关，系统自动放电，对牙科根管锉表面进行处理；(5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束。本发明方法利用非反应性氩等离子体所具有荷电集尘作用，使等离子体中的大量电子与污染物发生非弹性碰撞并粘附其表面从而使其荷电，在电场作用下，颗粒污染物被集尘极收集，从而实现有效去除牙科根管锉表面污染物的目标。

权利要求

1.牙科根管锉表面污染物的去除方法，其特征在于该方法包括以下步骤：(1)将牙科根管锉放入低温等离子体表面处理装置的上下电极之间的平台上；

(2)将体系抽真空至次大气压条件；

3

(3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.2～1.5m/h，充气时间为10～15s；

(4)启动辉光放电低温等离子体表面处理装置开关，系统自动放电，放电功率为180～

200W，放电时间为20～25min，对牙科根管锉表面进行处理；

(5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束；

步骤(1)中，所述的牙科根管锉先经过常规清洗过程，即依次经过流动水手工刷洗、加酶洗液清洗和超声波清洗的步骤；

步骤(2)中，所述的次大气压条件为1500～2500Pa。

2.根据权利要求3所述的牙科根管锉表面污染物的去除方法，其特征在于步骤(2)中，所述的次大气压条件为2000Pa。

3.根据权利要求1所述的牙科根管锉表面污染物的去除方法，其特征在于步骤(3)中，3

调节气体流量为1.2m/h，充气时间为10s 。

4.根据权利要求1所述的牙科根管锉表面污染物的去除方法，其特征在于步骤(4)中，放电功率为200W，放电时间为20min。

说明书

牙科根管锉表面污染物的去除方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种口腔诊疗器械的消毒方法，具体涉及牙科根管锉表面污染物的去除方法。

背景技术

[0002] 卫生部关于印发《医疗机构口腔诊疗器械消毒技术操作规范》的通知(卫医发[2005]73号)要求：1、进入病人口腔内的所有诊疗器械，必须达到“一人一用一消毒或者灭菌”的要求。2、凡接触病人伤口、血液、破损粘膜或者进入人体无菌组织的各类口腔诊疗器械，包括牙科手机、车针、根管治疗器械、拔牙器械、手术治疗器械、牙周治疗器械、敷料等，使用前必须达到灭菌。

[0003] 针对上述要求，目前口腔诊疗器械使用后，先用流动水手工刷洗，然后使用加酶洗液(3M公司产品)清洗，再采用超声波清洗机BRANSON B8510(美国必能信公司产品)清洗，最后将清洗后的器械经压力蒸汽灭菌。但国内外学者发现虽然牙科根管锉经过这一系列清洗流程，表面仍然附有污染物(见图1)。

发明内容

[0004] 本发明所要解决的技术问题是提供牙科根管锉表面污染物的去除方法，该方法可以有效去除污染物。

[0005] 为解决上述技术问题，本发明的思路是：采用非反应性氩气等离子体对牙科根管锉表面处理，因氩气等离子体具有荷电集尘作用，使等离子体中的大量电子与污染物发生非弹性碰撞并粘附其表面从而使其荷电，在电场作用下，颗粒污染物被集尘极收集，从而解决牙科根管锉表面污染物难以去除的难题。

[0006] 具体技术方案如下：

[0007] 牙科根管锉表面污染物的去除方法，该方法包括以下步骤：

[0008] (1)将牙科根管锉放入低温等离子体表面处理装置的上下电极之间的平台上；

[0009] (2)将体系抽真空至次大气压条件；

[0010] (3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.2～1.5m3/h，充气时间为10～15s；

[0011] (4)启动辉光放电低温等离子体表面处理装置开关，系统自动放电，对牙科根管锉表面进行处理；

[0012] (5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束。

[0013] 步骤(1)中，所述的牙科根管锉先经过常规清洗过程，即依次经过流动水手工刷洗、加酶洗液清洗和超声波清洗的步骤，该常规清洗过程为本领域技术人员熟知的过程。

[0014] 步骤(2)中，所述的次大气压条件为1500～2500Pa，优选为2000Pa。

[0015] 步骤(3)中，优选的是，调节气体流量为1.2m3/h，充气时间为10s。

[0016] 步骤(4)中，放电功率为180～200W，放电时间为20～25min；优选的是，放电功率为200W，放电时间为20min。

[0017] 有益效果：本发明方法解决了目前国内外牙科根管锉表面污染物去除的难题。其显著优点是：

[0018] (1)低温等离子体技术安全、环保、节省能源；

[0019] (2)低温等离子体技术可在常温下放电，对被处理材料无损伤，故可对多种畏热器材，包括光纤内窥镜、陶瓷和玻璃制品、乳胶和高分子材料进行处理；

[0020] (3)本发明低温等离子体在次大气压条件辉光放电，具有气氛含量高、功率密度大、处理效率高、处理时间短的优点，其处理效率要高于低气压辉光放电10倍以上。

附图说明

[0021] 图1显示经常规多酶清洗剂浸泡、超声清洗后，根管锉表面仍有污染物附着(扫描电镜×400)。

[0022] 图2显示经常规清洗后、再等离子体处理后，根管锉表面清洁(扫描电镜×400)。

具体实施方式

[0023] 根据下述实施例，可以更好地理解本发明。然而，本领域的技术人员容易理解，实施例所描述的具体的物料配比、工艺条件及其结果仅用于说明本发明，而不应当也不会限制权利要求书中所详细描述的本发明。

[0024] 以下实施例所用的低温等离子体表面处理装置为HPD-2400次大气辉光放电低温等离子体表面处理机，购自于南京苏曼电子有限公司。

[0025] 实施例1：

[0026] (1)将依次经过流动水手工刷洗、加酶洗液清洗和超声波清洗的步骤处理后的牙科根管锉放入低温等离子体表面处理机的上下电极之间的平台，牙科根管锉摆放不宜超过上下电极之间高度，根管锉之间不宜堆叠，摆放面积不可超过上下电极金属部分面积；

[0027] (2)使用真空泵将体系抽空至2000Pa，形成次大气压条件。次大气压辉光放电具有气氛含量高、功率密度大、处理效率高、处理时间短的优点，其处理效率要高于低气压辉光放电10倍以上；

[0028] (3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.2m3/h，充气时间为10s，保证足够气氛支持放电；

[0029] (4)按下启动开关，系统自动放电，放电功率200W，放电时间20min，这样能保证达到表面去除污染物效果；

[0030] (5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束。

[0031] 经过本发明方法处理后的牙科根管锉，其电镜图见图2。由图2可见，本发明方法能有效去除牙科根管锉表面的污染物。

[0032] 实施例2：

[0033] (1)将依次经过流动水手工刷洗、加酶洗液清洗和超声波清洗的步骤处理后的牙科根管锉放入低温等离子体表面处理机的上下电极之间的平台，牙科根管锉摆放不宜超过上下电极之间高度，根管锉之间不宜堆叠，摆放面积不可超过上下电极金属部分面积；

[0034] (2)使用真空泵将体系抽空至1800Pa，形成次大气压条件。次大气压辉光放电具有气氛含量高、功率密度大、处理效率高、处理时间短的优点，其处理效率要高于低气压辉光放电10倍以上；

[0035] (3)以氩气为处理气体，调节气体流量为1.5m3/h，充气时间为15s，保证足够气氛支持放电；

[0036] (4)按下启动开关，系统自动放电，放电功率180W，放电时间25min，这样能保证达到表面去除污染物效果；

[0037] (5)放电结束后，系统自动破真空，处理过程结束。