动态反射式微波加温干燥灭菌设备

摘要

一种动态反射式微波加温干燥设备，包括箱体(10)，箱体(10)内设置有干燥腔(9)，干燥腔(9)的两侧制有微波反射口(14)，干燥腔(9)的两侧设置有两组磁控管(1)和两组电磁吸合装置(4)，磁控管(1)的前端装有微波反射器(2)，微波反射器(2)的前端位于微波反射口(14)中，干燥腔(9)内的上方通过悬挂装置(5)悬挂有微波散射板(3)，且电磁吸合装置(4)对应安装在微波散射板(3)的两端，干燥腔(9)的下方设有物料承载盘(6)。本发明改物料运动为微波动态散漫辐射，微波辐射均匀性好，改善了加热均匀度，缩小了设备体积，节约了能源，降低了生产成本。

权利要求

1.一种动态反射式微波加温干燥设备，包括箱体(10)，箱体(10)内设置有干燥腔(9)，其特征是：所述干燥腔(9)的两侧制有微波反射口(14)，干燥腔(9)的两侧设置有两组磁控管(1)和两组电磁吸合装置(4)，磁控管(1)的前端装有微波反射器(2)，微波反射器(2)的前端位于微波反射口(14)中，干燥腔(9)内的上方通过悬挂装置(5)悬挂有微波散射板(3)，且电磁吸合装置(4)对应安装在微波散射板(3)的两端，干燥腔(9)的底部设置有支架(13)，支架(13)上放置有物料承载盘(6)。

2.根据权利要求1所述的动态反射式微波加温干燥设备，其特征是：所述微波反射器(2)呈凹型，安装在磁控管(1)前端的天线周围。

3.根据权利要求1所述的动态反射式微波加温干燥设备，其特征是：所述微波散射板(3)是一块下端面布满了凸起和凹窝的金属板。

4.根据权利要求1所述的动态反射式微波加温干燥设备，其特征是：所述干燥腔(9)的一侧设置有真空设备接口(7)。

5.根据权利要求1所述的动态反射式微波加温干燥设备，其特征是：所述干燥腔(9)的下端装有温控探头(8)，且温控探头(8)位于支架(13)的上端。

6.根据权利要求1所述的动态反射式微波加温干燥设备，其特征是：所述磁控管(1)对称排列，位于干燥腔(9)的下方，略高于物料承载盘(6)。

7.根据权利要求1或2或3或4或5或6所述的动态反射式微波加温干燥设备，其特征是：所述箱体(10)前端装有密封门(11)，干燥腔(9)前端敞开为物料进出口，且密封门(11)关闭后可将干燥腔(9)前端敞开的物料进出口密封。

说明书

动态反射式微波加温干燥灭菌设备

技术领域

[0001] 本发明涉及一种动态反射式微波加温干燥灭菌设备。适用于制作浸膏类、颗粒类物料的加温、干燥、灭菌设备，尤其适用于制造GMP设备。

背景技术

[0002] 目前微波加温干燥灭菌设备大都是以物料运动的方式来改善微波辐射的均匀性。其运动类型主要有：托盘旋转类，吊筐滚动类，链板传动类，管道移动类等。由于是以物料运动方式进行加温干燥灭菌的设备，就不可避免的存在以下几方面的缺点：设备体积偏大，制作消耗材料多，占用空间大；传动机构耗能高；传动机构不易分解移出，打扫清洁困难；不易制作附合GMP标准的设备；微波辐射均匀性不好。

发明内容

[0003] 本发明解决的技术问题：提供一种设计合理，结构简单，加热均匀，清洁卫生，适用范围广的动态反射式微波加温干燥灭菌设备，改物料运动为微波动态散漫辐射，改善了加热均匀度，缩小了设备体积，降低了生产成本。

[0004] 本发明的技术解决方案：一种动态反射式微波加温干燥设备，包括箱体(10)，箱体(10)内设置有干燥腔(9)，干燥腔(9)的两侧制有微波反射口(14)，干燥腔(9)的两侧设置有两组磁控管(1)和两组电磁吸合装置(4)，磁控管(1)的前端装有微波反射器(2)，微波反射器(2)的前端位于微波反射口(14)中，干燥腔(9)内的上方通过悬挂装置(5)悬挂有微波散射板(3)，且电磁吸合装置(4)对应安装在微波散射板(3)的两端，干燥腔(9)的底部设置有支架(13)，支架(13)上放置有物料承载盘(6)。

[0005] 所述微波反射器(2)呈凹型，安装在磁控管(1)前端的天线周围。 [0006] 所述微波散射板(3)是一块下端面布满了凸起和凹窝的金属板。 [0007] 所述干燥腔(9)的一侧设置有真空设备接口(7)。

[0008] 所述干燥腔(9)的下端装有温控装置(8)，且温控探头(8)位于支架(13)的上端。 [0009] 所述磁控管(1)对称排列，位于箱体(10)的下方，略高于物料承载盘(6)。 [0010] 所述箱体(10)前端装有密封门(11)，干燥腔(9)前端敞开为物料进出口，且密封门(11)关闭后可将干燥腔(9)前端敞开的物料进出口密封。

[0011] 本发明与现有技术相比具有的优点和效果：

[0012] 1、本发明改物料运动为微波动态散漫辐射，微波辐射均匀性好，改善了加热均匀度，缩小了设备体积，节约了能源，降低了生产成本。

[0013] 2、本发明由于物料静置不动，就为直接接触物料随机监测提供了方便的条件，对提高测控精度降低设备成本提供了有利的条件，是物料运动微波设备所不能比拟的。 [0014] 3、本发明为箱式结构，干燥腔内的部件支架、物料承载盘、散射板及悬挂装置可轻易拆除，当需要清洁时都可拆下移出箱外清冼，因此它具备生产GMP设备的基础条件。 [0015] 4、本发明采取静态与动态两种调试手段，来达到微波辐射最佳均匀度。静态调试时通过调整微波反射器的位置与角度来测试调整静态的微波辐射均匀度。动态调试时通过调整微波散射板的行程与频率精密调整加温均匀度，使之满足物料加工需要。 附图说明

[0016] 图1为本发明的内部结构示意图，

[0017] 图2为本发明的外形结构示意图。

具体实施方式

[0018] 下面结合附图1、2描述本发明的一种实施例。

[0019] 一种动态反射式微波加温干燥设备，包括箱体10，箱体10内设置有干燥腔9，箱体10前端装有密封门11，干燥腔9前端敞开为物料进出口，且密封门11关闭后可将干燥腔9前端敞开的物料进出口密封。干燥腔9的两侧对称制有微波反射口14，凹型微波反射器2的前端固定在微波反射口14上，后端固定在磁控管1上，且位于磁控管1前端的天线周围。
干燥腔9的两侧装有两组电磁吸合装置4，干燥腔9内的上方通过悬挂装置5悬挂有微波散射板3，且电磁吸合装置4对应安装在微波散射板3的两端，干燥腔9的底部设置有支架
13，支架13上放置有物料承载盘6。

[0020] 所述磁控管1对称排列，位于干燥腔9的下方，略高于物料承载盘6。所述微波散射板3是一块下端面布满了凸起和凹窝的金属板。所述干燥腔9的一侧设置有真空设备接口7。所述干燥腔9的下端装有温控探头8，且温控探头8位于支架13的上端。 [0021] 所述密封门11上装有保护开关，箱体10上装有控制装置，保证门开启时切断微波工作电源，使微波发生器磁控管1中止工作。

[0022] 微波由磁控管产生，磁控管的数量根据设计功率，加温面积，微波分布等因素确定。磁控管单只功率500W---1000W。

[0023] 微波反射器是一个凹型的金属罩，在底部中央有一个略大于微波天线直径的孔，可直接固定在磁控管上，开口端安装在微波反射口处。改变微波反射器的形状、长度、角度就可改变微波在微波散射板的位置、面积和强度。

[0024] 微波散射板上的每一个凸起和凹窝就相当一面散光镜，当微波反射器反射上来的微波辐射到散射板上时，微波就如同通过数百个散光镜被均匀反射到物料上。 [0025] 电磁吸合装置由电磁铁构成，微波散射板的两端安装有衔铁15，在衔铁15对应的干燥腔两侧安装吸合电磁铁，当电磁铁通电时，便吸引悬挂的散射板靠近电磁铁，产生势能。断电失磁后，散射板由势能转为动能，再由动能转为势能，形成摆动，促成微波动态反射。通过改变电磁铁吸合行程和吸合间隔时间，可以满足不同物料的干燥加工及灭菌要求。也可采用凸轮传动装置代替电磁吸合装置。

[0026] 物料承载盘，是加工物料的矩形容器，由于本发明与以往的微波干燥设备结构不同，因此可以使用金属材料制作容器。

[0027] 工作原理：微波由磁控管1产生，微波通过磁控管前端的天线进行辐射，通过天线周围的凹型微波反射器2反射后，经微波反射口14辐射到位于干燥腔9内上方悬挂的微波散射板3上，再径微波散射板3动态辐射到位于正下方的物料承载盘6中的物料上。本发明被加工的物料静置不动，微波经微波反射器反射到微波散射板上，微波散射板在电磁吸合装置的驱动下往复运动，动态的将散射微波均匀的辐射到物料上。物料吸收微波发生摩擦，产生热量完成加温干燥或灭菌工作。本发明可常压工作，也可以通过连接真空设备进行减压工作。本发明亦可改电磁驱动为机械驱动，推动微波散射板往复运动。 [0028] 本发明采取静态与动态两种调试手段，来达到最佳均匀度。静态调试时首先关闭电磁驱动(或机械驱动)，通过调整微波反射器的位置与角度来测试调整静态的微波辐射均匀度。然后打开驱动进行动态调试，调整微波散射板的行程与频率精密调整加温均匀度，使之满足物料加工需要。

[0029] 本发明由于物料静置不动，就为直接接触物料随机监测提供了方便的条件，对提高测控精度降低设备成本提供了有利的条件，是物料运动微波设备所不能比拟的。 [0030] 本发明为箱式结构，干燥腔内的部件支架、物料承载盘、散射板及悬挂装置可轻易拆除，当需要清洁时都可拆下移出箱外清冼，因此它具备生产GMP设备的基础条件。