设置有交换桥的光刻设备

摘要

本发明提供一种设置有交换桥的光刻设备，包括两个平台，它们中的每一个配置用以保持衬底，其中每个平台设置有用以移动具有衬底的台的短行程模块和用以移动所述平台的短行程模块的长行程模块。光刻设备包括用以耦合平台的交换桥，和其中，在使用时，在第一配置中，所述平台相对于彼此是可移动的，和其中，在使用时，在第二配置中，所述平台通过交换桥被耦合以进行联合移动。

权利要求

1.一种光刻设备，包括：

第一和第二平台，所述第一和第二平台中的每一个配置用以保持衬底，所述第一和第二平台中的每一个设置有短行程模块和配置用以移动所述平台的所述短行程模块的长行程模块；

交换桥，所述交换桥配置用以耦合所述第一和所述第二平台，其中，在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的，和其中，在第二配置中，所述第一和第二平台通过所述交换桥被耦合，用于联合移动；

桥保持件，所述桥保持件配置用以在第一配置中保持所述交换桥，其中所述桥保持件与所述第一和第二平台的所述短行程模块的可移动部分是动态隔离的；以及耦合器，所述耦合器配置用以将所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与所述交换桥耦合，使得在使用时，在第二配置中，所述交换桥仅与所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分耦合。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述桥保持件直接地耦合到所述第一平台或所述第二平台的所述长行程模块的可移动部分。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述桥保持件配置用以将交换桥保持在第一位置，使得所述交换桥被防止与所述光刻设备的另一部分碰撞。

4.根据权利要求3所述的光刻设备，还包括铰链，所述铰链布置在所述第一平台的所述长行程模块的可移动部分和所述桥保持件之间，使得所述交换桥能够通过所述铰链从所述第一位置转动到第二位置。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括桥头，所述桥头配置用以将所述交换桥耦合到所述第一平台或所述第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分，使得所述短行程模块和/或交换桥的变形至少部分地彼此隔离。

6.根据权利要求1所述的光刻设备，包括分离器，所述分离器配置用以通过彼此相向移动所述第一平台和所述第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分而使所述交换桥从所述第一平台和所述第二平台的所述短行程模块的可移动部分分离，所述桥保持件构造成在所述交换桥已经被分离之后获取所述交换桥。

7.一种器件制造方法，包括步骤：

将第一和第二平台与交换桥耦合，所述第一平台和所述第二平台中的每一个配置用以保持衬底，所述第一平台和所述第二平台中的每一个设置有短行程模块和配置用以移动所述平台的所述短行程模块的长行程模块，其中，在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的，和其中，在第二配置中，所述第一和第二平台通过所述交换桥被耦合，用于联合移动；

用桥保持件在第一配置中保持交换桥，其中所述桥保持件与所述第一和第二平台的所述短行程模块的可移动部分是动态隔离的；和将所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与所述交换桥耦合，使得在使用时，在第二配置中，所述交换桥仅与所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分耦合。

说明书

设置有交换桥的光刻设备

技术领域

[0001] 本发明涉及一种包括两个用于保持衬底的平台的光刻设备。

背景技术

[0002] 光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。通常，图案的转移是通过把图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上进行的。通常，单独的衬底将包含被连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。也可能通过将图案压印(imprinting)到衬底的方式从图案形成装置将图案转移到衬底上。

[0003] 由美国专利第7,310,132B1号已知一种光刻设备。在美国专利第7,310,132B1号中，所述的光刻设备包括两个衬底平台。每个衬底平台设置有长行程模块和短行程模块，短行程模块形成用于移动衬底的第二定位装置的一部分。此外，已知的光刻设备设置有可移动部件形式的交换桥。美国专利第7,310,132B1号描述了已知的光刻设备的两个主要实施例。在第一配置中，衬底平台相对于彼此是可移动的，而在第二配置中，衬底平台通过交换桥耦合，通过使用可移动部件将衬底平台的顶部表面结合在一起来实现所述交换桥，用于联合移动。

[0004] 在已知的光刻设备的第一实施例中，在第一配置中，其中并行地使用衬底台，或在所述台中的一个上实施预备步骤的同时另一台被用于曝光，短行程模块中的一个的可移动部分承载交换桥。承载交换桥是不希望的，因为其产生动态扰动并因此降低定位精确度，因为交换桥的质量被加到短行程模块的可移动部分而因此恶化其动态特性。

[0005] 在已知的光刻设备的第二实施例中，在第二配置中，其中所述平台被延伸并且执行同时移动，交换桥耦合到短行程模块的可移动部分和所述平台的一个长行程模块的可移动部分。这是不希望的，因为在短行程和长行程模块的可移动部分之间存在动态耦合。结果，来自长行程模块的动态扰动会传递给短行程模块。

发明内容

[0006] 在本发明的一方面中，提供一种光刻设备，包括第一和第二平台，所述第一和第二平台中的每一个配置用以保持衬底，所述第一和第二平台中的每一个设置有短行程模块和长行程模块，所述短行程模块配置用以移动具有所述衬底的台，所述长行程模块配置用以移动所述平台的所述短行程模块；交换桥，所述交换桥配置用以耦合所述第一和所述第二平台，其中，在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的，和其中，在第二配置中，所述第一和第二平台通过所述交换桥被耦合以形成联合移动；桥保持件，所述桥保持件配置用以在第一配置中保持所述交换桥，其中所述桥保持件与所述第一和第二平台的所述短行程模块的可移动部分是动态隔离的；和耦合器，所述耦合器配置用以将所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与所述交换桥耦合，使得在使用时，在第二配置中，所述交换桥仅与所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分耦合。

[0007] 这样，在第一和第二配置中动态扰动都被有效地减小了。在第一配置中，获得这种减小是因为：与所述短行程模块的可移动部分动态隔离的桥保持件保持与短行程模块的可移动部分动态隔离的交换桥，使得交换桥的质量没有加到短行程模块的可移动部分并且不会恶化它们的动态特性。在第二配置中，获得这种减小是因为：交换桥与长行程模块动态隔离，使得可以有效地实现无扰动从长行程模块传递至短行程模块。

[0008] 在本发明的实施例中，桥保持件连接到光刻设备的静止部分，例如投影系统或静止框架。有益之处在于，在第一配置中，两个平台可以在不耦合至任何桥保持件和交换桥的情况下移动。这得到更佳的动态行为。

[0009] 在本发明的实施例中，桥保持件直接地或间接地耦合到长行程模块中的一个长行程模块的可移动部分。该实施例的优点在于，在第一配置中，交换桥被与短行程模块的可移动部分动态隔离地保持并且靠近短行程模块存放。当改变到第二配置时，交换桥可以快速地展开在短行程模块的可移动部分之间，这提高了光刻设备的产量。

[0010] 在本发明的实施例中，桥保持件配置用以在第一配置中保持交换桥，使得防止交换桥与光刻设备的另一部分碰撞。有益之处在于，在第一配置中，交换桥不会由于与光刻设备的另一部分碰撞而被损坏。

[0011] 在本发明的实施例中，光刻设备在长行程模块的可移动部分和桥保持件之间设置有铰链，使得交换桥可以通过铰链从第一位置转动到第二位置。

[0012] 在本发明的实施例中，光刻设备设置有桥头，所述桥头配置用以将交换桥耦合到短行程模块中的一个短行程模块的所述可移动部分，使得所述短行程模块和/或交换桥的变形至少部分地彼此隔离。有益之处在于，交换桥的变形引起短行程模块的最小变形，反之亦然。

[0013] 在本发明的实施例中，光刻设备设置有分离器，所述分离器配置用以通过彼此相向移动短行程模块的所述可移动部分而使所述交换桥与所述短行程模块的可移动部分分离，所述桥保持件构造成在所述交换桥已经被分离之后获取所述交换桥。在正常情况下，为了分离交换桥，短行程模块的可移动部分首先被降低以将交换桥放置到桥保持件上，随后彼此移开以分离交换桥。本实施例的有益之处在于，在短行程模块的可移动部分移动到太靠近彼此的异常情形中，可以通过分离交换桥来防止损坏。

[0014] 在本发明的实施例中，提供一种器件制造方法，包括步骤：将第一和第二平台与交换桥耦合，所述第一和第二平台中的每一个配置用以保持衬底，所述第一和第二平台中的每一个设置有短行程模块和配置用以移动所述平台的所述短行程模块的长行程模块，其中，在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的，和其中，在第二配置中，所述第一和第二平台通过所述交换桥被耦合、用于联合移动；用桥保持件在第一配置中保持交换桥，其中所述桥保持件与所述第一和第二平台的所述短行程模块的可移动部分是动态隔离的；和将所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与所述交换桥耦合，使得在使用时，在第二配置中，所述交换桥仅与所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分耦合。

附图说明

[0015] 下面参考附图对本发明的实施例进行描述，在附图中：

[0016] 图1示意地示出根据本发明的实施例的光刻设备；

[0017] 图2示意地示出了图1中的光刻设备的平台的侧视图；

[0018] 图3示出了沿指向由线LL’表示的平面的箭头MM’观察的在第一配置中的图1所示光刻设备的一部分的俯视图；

[0019] 图4示出在第二配置中的图1的光刻设备的一部分；

[0020] 图5示出依照图3中的箭头OO’相对于线NN’的侧视图，在第一配置中的所述光刻设备中所述平台可以相对于彼此移动；

[0021] 图6示出处于可以与平台耦合的位置的交换桥；

[0022] 图7示出依照图4中的箭头QQ’相对于线PP’的侧视图，在第二配置中的光刻设备中所述平台通过交换桥彼此耦合；

[0023] 图8示出在衬底交换过程中提供有浸没液体的光刻设备的实施例的一部分；

[0024] 图9示出交换桥处于第一位置的实施例，其中交换桥由缓冲器保护以便防止交换桥与光刻设备的另一部分碰撞；

[0025] 图10示出图9中的实施例，其中交换桥位于第二位置，其中交换桥可以从桥保持件上移开并可以耦合到短行程模块的可移动部分；

[0026] 图11示出沿箭头SS’的方向依照图7中线RR’观察的光刻设备，其设置有两个配置用以耦合交换桥的桥头；

[0027] 图12示出图4中示出的沿箭头QQ’方向、在依照线PP’的视图中观察的光刻设备，其中所述光刻设备设置有配置用以分离交换桥并移动桥保持件的系统；和[0028] 图13示出图12的实施例，其中短行程模块的可移动部分彼此位置太靠近以致于交换器6不能保持耦合。

具体实施方式

[0029] 图1示意地示出了根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述光刻设备包括：照射系统(照射器)IL，其配置用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或深紫外(DUV)辐射)；图案形成装置支撑件或支撑结构(例如掩模台)MT，其构造用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA，并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置MA的第一定位装置PM相连；衬底台(例如晶片台)WT，其构造用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底W的第二定位装置PW相连；和投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，其配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或多根管芯)上。

[0030] 照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。

[0031] 所述图案形成装置支撑结构MT以依赖于图案形成装置MA的方向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置MA是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置MA。所述图案形成装置支撑结构MT可以采用机械的、真空的、静电的或其它夹持技术来保持图案形成装置MA。所述图案形成装置支撑结构MT可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述图案形成装置支撑结构MT可以确保图案形成装置MA位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。

[0032] 这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上的所需图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓的辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。

[0033] 图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻术中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，每一个小反射镜可以独立地倾斜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。

[0034] 这里使用的术语“投影系统”应该广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里任意使用的术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。

[0035] 如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射式掩模)。

[0036] 所述光刻设备可以是具有两个(双平台)或更多衬底台(和/或两个或更多的掩模台)的类型。在这种“多平台”机器中，可以并行地使用附加的台，或可以在一个或更多个台上执行预备步骤的同时，将一个或更多个其它台用于曝光。

[0037] 光刻设备还可以是这种类型，其中衬底的至少一部分可以被具有相对高折射率的液体(例如水)覆盖，以便充满投影系统和衬底之间的空间。浸没液体还可以应用于光刻设备中的其他空间，例如图案形成装置(例如掩模)MA和投影系统PS之间。浸没技术用来提高投影系统的数值孔径在本领域是熟知的。这里所用的术语“浸没”不是指诸如衬底等结构必须浸入到液体中，而是仅意味着在曝光过程中液体位于投影系统和衬底之间。

[0038] 参照图1，所述照射器IL接收从辐射源SO发出的辐射束。该源SO和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源SO考虑成形成光刻设备的一部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射束从所述源SO传到所述照射器IL。在其它情况下，所述源SO可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述源是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时设置的所述束传递系统BD一起称作辐射系统。

[0039] 所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AD。通常，可以对所述照射器IL的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其它部件，例如积分器IN和聚光器CO。可以将所述照射器IL用于调节所述辐射束B，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。

[0040] 所述辐射束B入射到保持在图案形成装置支撑结构(例如，掩模台)MT上的所述图案形成装置(例如，掩模)MA上，并且通过所述图案形成装置MA来形成图案。已经穿过图案形成装置(例如掩模)MA之后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述投影系统PS将辐射束B聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，例如在从掩模库的机械获取之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(图1中未明确示出)用于相对于所述辐射束B的路径精确地定位图案形成装置(例如掩模)MA。通常，可以通过形成所述第一定位装置PM的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT的移动。类似地，可以采用形成所述第二定位装置PW的一部分的长行程模块和短行程模块来实现所述衬底台WT的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT可以仅与短行程致动器相连，或者可以是固定的。可以使用图案形成装置对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准图案形成装置(例如掩模)MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记占据了专用目标部分，但是它们可以位于目标部分之间的空间(这些公知为划线对齐标记)中。类似地，在将多于一个的管芯设置在图案形成装置(例如掩模)MA上的情况下，所述图案形成装置对准标记可以位于所述管芯之间。

[0041] 所示的设备可以用于以下模式中的至少一种中：

[0042] 1.在步进模式中，在将图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT和衬底台WT保持为基本静止的同时，将赋予所述辐射束B的整个图案一次投影到目标部分C上(即，单一的静态曝光)。然后，将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。

[0043] 2.在扫描模式中，在对图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT和衬底台WT同步地进行扫描的同时，将赋予所述辐射束B的图案投影到目标部分C上(即，单一的动态曝光)。衬底台WT相对于图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了单一动态曝光中所述目标部分C的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描运动的长度确定了所述目标部分C的高度(沿所述扫描方向)。

[0044] 3.在另一个模式中，将保持可编程图案形成装置的图案形成装置支撑结构(例如掩模台)MT保持为基本静止，并且在对所述衬底台WT进行移动或扫描的同时，将赋予所述辐射束B的图案投影到目标部分C上。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻术中。

[0045] 光刻设备还可以是这种类型，其中衬底被具有相对高折射率的液体(例如水)浸没，以便充满投影系统的最终元件和衬底之间的空间。浸没液体还可以应用于光刻设备的其他空间，例如图案形成装置(例如掩模)MA和投影系统PS的第一元件之间。浸没技术用来提高投影系统的数值孔径在本领域是熟知的。

[0046] 也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。

[0047] 图2示意地示出了图1中的光刻设备的平台。长行程模块18和短行程模块20每一个可以被分成静止部分和可移动部分。每个模块包括用以相对于静止部分移动所述模块的可移动部分的电机。在图2中，示出了平台支撑结构30，其可以是石制台，用于支撑所述平台。连接到所述平台支撑结构30的是长行程模块18的静止部分8。长行程模块18的可移动部分10相对于静止部分8是可移动的。连接到长行程模块18的可移动部分10的是短行程模块20的静止部分12。短行程模块20的可移动部分14相对于所述静止部分12是可移动的。衬底台WT连接到短行程模块20的可移动部分14。衬底台WT配置用于支撑衬底W，衬底W并非所述平台的一部分。

[0048] 长行程模块18的可移动部分10和短行程模块20的静止部分12在下文中被称为中间部分22。

[0049] 图3示出了沿指向由线LL’表示的平面的箭头MM’观察的图1所示光刻设备的一部分的俯视图，包括配置用以保持衬底W1和W2的两个平台2、4。图5示出在依照图3中相对于线NN’的箭头OO’的侧视图中，每个平台设置有短行程模块20.1和20.2，其配置用以移动保持衬底W1和W2的台WT1和WT2。图5还示出用以移动短行程模块20.1和20.2的长行程模块18.1和18.2。光刻设备设置有用以耦合平台2和4的交换桥6，其中在图3中示出的第一情形或配置中，平台2和4相对于彼此是可移动的。在图4示出的第二情形或配置中，平台2和4通过交换桥6耦合以进行联合移动，例如沿箭头JM的方向移动。在图5中，光刻设备的示出的部分示出了桥保持件16，所述桥保持件16配置用以在第一种情形中保持交换桥6，其中桥保持件16与短行程模块20.1和20.1的可移动部分14是动态隔离的。光刻设备还设置有一系统，所述系统配置用以从桥保持件16获取交换桥6并且用交换桥6在短行程模块20.1和20.2的可移动部分14之间形成耦合，使得在使用时，在第二情形中，交换桥6仅与短行程模块20.1和20.2的可移动部分14耦合。在下文中所述系统可以用术语“耦合器”表示。

[0050] 在本领域中已知的是，短行程模块20的静止部分12可以与可移动部分14动态隔离。这可以通过例如使用洛伦兹电机来实现。通过这种类型的电机，在电机的静止部分和可移动部分之间是电磁接触而没有机械接触。因此，在很大程度上，来自静止部分的动态振动不会传播到可移动部分，反之亦然。

[0051] 根据图5，桥保持件16直接地或间接地耦合到长行程模块18.1的可移动部分10。桥保持件16可以间接地通过短行程模块20的静止部分12和/或通过一个或更多个连接到可移动部分10或静止部分12的附加部件耦合到可移动部分10。然而，也可以将桥保持件16连接到光刻设备的静止部分，例如投影透镜PS或支撑长行程模块18.1和18.2的支撑框架30。

[0052] 光刻设备可以设置有浸没系统。在一个实施例中，如图8示意地示出的，浸没系统23在衬底W2和投影透镜PS之间通过入口23.1施加液体24到衬底W2上的局部区域。从所述局部区域流出的液体通过出口23.2去除。图8示出了第二种情形，其中平台2和4通过交换桥6耦合。平台2和4可以以联合移动的形式沿箭头JM的方向一起移动。当沿方向JM移动时，衬底W2从投影系统PS下面移走而衬底W1被移动到投影系统PS下面。在投影系统PS下面将一个衬底换成另一个被称为交换。在衬底的交换过程中，优选使液体24的流动继续。这可以帮助避免投影系统PS上的干的液渍。期望防止泄露到光刻设备中，这可能会导致损坏和污染。交换桥6通过为液体24提供边界可以帮助防止在交换过程中平台2和4之间的液体24的泄露。

[0053] 图9示出了一个实施例，其中桥保持件16配置用以将交换桥6保持在第一位置，使得防止交换桥6与光刻设备的另一部分碰撞。在第一位置中，交换桥6由缓冲器26保护，以防止交换桥与光刻设备的另一部分碰撞。所述实施例设置有系统或耦合器，其配置用以从桥保持件16获取交换器6并且用交换桥6在短行程模块20.1和20.2的可移动部分14之间形成耦合。在该实施例中，所述系统或耦合器包括控制器、电机和铰链28。所述控制器配置用以控制电机，所述电机可以通过使用在中间部分22和桥保持件16之间的铰链28而转动交换桥6。交换桥6通过桥保持件16保持，因而通过转动桥保持件16，交换桥6可以在第二位置被转动，如图10所示。在第二位置处，短行程模块20.1和20.2可以耦合到交换桥6并且从桥保持件16释放。在另一实施例中，耦合器包括一个铰链。

[0054] 在另一实施例中，配置用以耦合短行程模块20.1和20.2的可移动部分14的耦合器包括机器人臂，所述机器人臂配置用以从桥保持件16获取交换桥6并且随后将交换桥6移动到交换桥6可以耦合到平台2和4的短行程模块20.1和20.2的可移动部分14的位置。

[0055] 依照图7中的线RR’、沿箭头SS’的方向看，图11示出光刻设备，其设置有配置用以将交换桥6耦合到短行程模块20.1和20.2的可移动部分14的两个桥头32，使得短行程模块20.1和20.2和/或交换桥6的变形至少部分地彼此隔离。这意味着，例如，短行程模块20.1和20.2和/或桥头32的热膨胀效应通过桥头32的动态特性和(如果可以)桥头32的柔性特性(例如桥头32耦合到短行程模块20.1和20.2的方式)而被最小化。

[0056] 在图11的实施例中，每个桥头32通过在y方向上表现柔性的板簧36和通过在y方向上限制桥头32的中心支撑装置34连接到短行程模块20.1和20.2的可移动部分14。因为每个桥头32在y方向上仅在一个位置处被限制，桥头32和短行程模块20.1和20.2的可移动部分14可以相对于彼此在y方向上自由地膨胀和收缩。这意味着，在短行程模块
20.1和20.2的可移动部分14沿y方向变形的情形中，耦合到桥头32的交换桥6不会变形，反之亦然。结果，短行程模块20.1和20.2和/或交换桥6的变形被至少部分地彼此隔离。这些变形可以由热膨胀、加速度力或由液体24引起的压力引起。可以具有用以将桥头
32连接到短行程模块20.1和20.2的可移动部分14的其他配置。例如，桥头32可以仅通过两个片簧36进行限制，其中一个片簧沿y方向被加强以沿y方向限制桥头32。也可以将桥头32安装到交换桥6。此外，光刻设备可以仅设置有一个桥头32。

[0057] 本领域技术人员熟知，为了最小化由热膨胀引起的变形，对于彼此连接的部件使用具有相同热膨胀系数的材料。然而，如图11中的实施例所示，因为短行程模块20.1和20.2的可移动部分14和桥头32可以沿y方向相对彼此自由地膨胀和收缩，可以使用具有不同热膨胀系数的材料而不会加剧由热膨胀引起的变形。对于桥头32来说，可以采用具有高耐磨损性能的第一材料(例如硬质金属)，因而交换桥6可以反复地耦合和分离而不会磨损桥头32。短行程模块20.1和20.2的可移动部分14可以包括第二材料，例如微晶玻璃，所述第二材料的热膨胀系数低于第一材料的热膨胀系数，以获得热稳定形状。

[0058] 图12和13示出沿图4中示出的箭头QQ’的方向、依照线PP’的视图中的光刻设备。短行程模块20.1的可移动部分14.1设置有桥头32，该桥头32具有用以与连接到交换桥6的耦合件48耦合的V形槽。短行程模块20.2的可移动部分14.2设置有桥头44，该桥头44包括倾斜表面38和V形槽，用以与在x方向上是柔性的且连接到交换桥6的柔性耦合件46耦合。桥保持件16设置有V形槽42，用以保持交换桥6，并且通过可以相对于中间部分22.1沿y轴线转动桥保持件16的铰链28连接到中间部分22.1。交换桥6被可移动部分14.1和14.2沿x方向加压，使得耦合件48紧固于桥头32的V形槽并且使得柔性耦合件46紧固于桥头44的V形槽。这样，交换桥6耦合到可移动部分14.1和14.2。柔性耦合件46帮助最小化由可移动部分14.1和14.2之间的距离的变化引起的压力的变化。距离上的这些变化可以由可移动部分14.1和14.2的位置误差引起。这样，交换桥6可以使用基本上恒定的预定压力进行耦合。

[0059] 为了分离交换桥6，短行程模块20.1和20.2的可移动部分14首先被降低，以将交换桥6放置到桥保持件16上，然后彼此移开以减小作用在交换桥6上的压力，以最终分离交换桥6。

[0060] 根据图12和13的实施例的优点在于，其设置有安全措施，该安全措施通过朝向彼此移动短行程模块22.1和22.2的可移动部分，从短行程模块22.1和22.2的可移动部分14分离交换桥6，桥保持件16被构造成在交换桥已经分离之后获取交换桥6。图13示出异常的情形，其中交换桥6耦合到短行程模块20.1和20.2的可移动部分14.1和14.2，但是可移动部分14.1和14.2位置彼此太靠近，以致于交换桥6不能保持耦合。为了分离交换桥6，光刻设备设置有系统或分离器(uncoupler)，其配置用以通过朝向彼此移动短行程模块20.1和20.2的可移动部分14.1和14.2而分离交换桥6。在该实施例中，系统或分离器包括倾斜表面38和柔性耦合件46。为了分离交换桥6，桥头44的倾斜表面38向下压交换桥6。当交换桥6被向下压时，柔性耦合件46被压缩并且能够从桥头44中的V形槽中分离。结果，交换桥6由于重力而落下，并且在交换桥已经通过使用V形槽42分离之后被桥保持件16获取。在可移动部分14.1和14.2之间的距离变得甚至更小的情况下，通过桥保持件16上的交换桥6进行按压，倾斜表面38使桥保持件16围绕铰链28转动。在图13中示出的异常情形中，通过分离和按压离开连接有桥保持件16或未连接有桥保持件16的交换桥6，可以防止对光刻设备的损坏。可移动部分14.1和14.2彼此太靠近的原因可能是可移动部分14.1和14.2中的一个的位置控制器的故障或输入到平台2和4中的一个的电力损失。作为图13中示出的实施例的可选的替换，倾斜表面38是短行程模块20.1和20.2中的一个的可移动部分14的组成部分或是衬底台WT1和WT2中的一个的组成部分。桥头
32和44可以设置有系统，以至少部分地彼此隔离短行程模块20.1和20.2和/或交换桥6的变形，如图11中示出的实施例所述的那样。可以设置具有倾斜表面的交换桥6。在另一实施例中，倾斜表面38沿除向下方向之外的另一方向(例如侧向)按压交换桥6。桥保持件16可以是可平移的。柔性耦合件46可以在除了x方向之外的其他方向上是刚性的(例如在z方向上)，因而其可以用于抵抗由液体24施加到交换桥6上的压力。这可以减小当液体24通过交换桥6时交换桥6的变形。代替倾斜表面38和柔性耦合件46，光刻设备也可以设置其他装置用于通过朝向彼此移动短行程模块20.1和20.2的可移动部分14而分离交换桥和移动桥保持件，例如位于交换桥6和桥头32和44之间的能够断开以分离交换桥6的弱耦合件。在另一实施例中，耦合件48连接到桥头32和/或柔性耦合件46连接到桥头44，并且交换桥6设置有V形槽。也可以是，交换桥6设置有V形槽，用于被桥保持件
16保持。本领域技术人员应该认识到，可以使用其他类型的槽。

[0061] 在一个实施例中，桥保持件16设置有用以保持交换桥6的磁体。通过将超过由磁体提供的磁性保持力的力施加到交换桥6，可以将交换桥6从桥保持件16释放。在另一实施例中，交换桥6设置有磁体。

[0062] 在一个实施例中，光刻设备设置有用以抽取液体24的一部分的抽取孔。所述抽取孔可以设置到交换桥6和/或设置到桥头32和44中的一个和/或设置到短行程模块20.1和20.2中的一个的可移动部分14。

[0063] 在本发明的一个实施例中，平台2和4每一个设置有用于保持交换桥6的桥保持件16，一个交换桥6对应于一个桥保持件。

[0064] 在本发明的一个实施例中，短行程模块20.1和20.2中的一个设置有传感器台，以代替衬底台WT1或WT2。传感器台可以设置有传感器并且可以不支撑衬底。传感器可以用于例如相对于投影系统PS对准传感器台，或用以测量穿过投影系统PS的辐射束的性质，例如放大率或强度。在图8中示出的配置中，传感器台可以通过用作液体24的边界(例如类似图8中的衬底W2)而用于帮助防止液体24的不希望的泄漏。

[0065] 虽然在本文中详述了光刻设备用在制造ICs(集成电路)，但是应该理解到这里所述的光刻设备可以有制造具有微米尺度、甚至纳米尺度的特征的部件的其他应用，例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCDs)、薄膜磁头，等等。本领域技术人员应该认识到，在这种替代应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、量测工具和/或检验工具中。在可应用的情况下，可以将所述公开内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。

[0066] 虽然以上已经做出了具体的参考，在光学光刻术的情况中使用本发明的实施例，但应该理解的是，本发明的实施例可以有其它的应用，例如压印光刻术，并且只要情况允许，不局限于光学光刻术。在压印光刻术中，图案形成装置中的拓扑限定了在衬底上产生的图案。可以将所述图案形成装置的拓扑印刷到提供给所述衬底的抗蚀剂层中，在其上通过施加电磁辐射、热、压力或其组合来使所述抗蚀剂固化。在所述抗蚀剂固化之后，所述图案形成装置从所述抗蚀剂上移走，并在抗蚀剂中留下图案。

[0067] 这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(UV)辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm范围的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。

[0068] 这里使用的术语“透镜”可以认为是一个或多种类型的光学元件的组合，包括折射型、反射型、磁学型、电磁型和静电型光学部件。

[0069] 在一个实施例中，提供一种光刻设备，包括第一和第二平台，所述第一和第二平台中的每一个配置用以保持衬底。第一和第二平台中的每一个设置有短行程模块和配置用以移动所述平台的所述短行程模块的长行程模块。光刻设备还设置有交换桥，该交换桥配置用以耦合第一和第二平台，其中，在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的。在第二配置中，第一和第二平台通过交换桥被耦合，用于联合移动。光刻设备还设置有桥保持件，该桥保持件配置用以在第一配置中保持交换桥，其中所述桥保持件与第一和第二平台的短行程模块的可移动部分是动态隔离的。光刻设备还设置有耦合器，该耦合器配置用以将所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与交换桥耦合，使得在使用时在第二配置中，所述交换桥仅与所述第一和第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分耦合。

[0070] 桥保持件可以直接地耦合到第一或第二平台的长行程模块的可移动部分。桥保持件可以配置用以将交换桥保持在第一位置，使得交换桥被防止与光刻设备的其他部分碰撞。

[0071] 光刻设备还包括铰链，该铰链布置在第一平台的长行程模块的可移动部分和桥保持件之间，使得交换桥可以通过所述铰链从第一位置转动到第二位置。

[0072] 光刻设备还可以包括桥头，所述桥头配置用以将交换桥耦合到第一或第二平台的短行程模块的可移动部分，使得短行程模块和/或交换桥的变形至少部分地彼此隔离。

[0073] 光刻设备还可以包括分离器，所述分离器配置用以通过朝向彼此相向移动所述第一平台和所述第二平台的短行程模块的可移动部分而使所述交换桥与所述第一平台和第二平台的短行程模块的可移动部分分离。桥保持件可以构造成在所述交换桥已经被分离之后获取所述交换桥。

[0074] 在一个实施例中，提供一种器件制造方法，包括步骤：将第一和第二平台与交换桥耦合。所述第一和第二平台中的每一个配置用以保持衬底。第一和第二平台中的每一个设置有短行程模块和配置用以移动所述平台的所述短行程模块的长行程模块。在使用时，在第一配置中，所述第一和第二平台相对于彼此是可移动的。在第二配置中，第一和第二平台通过交换桥被耦合，用于联合移动。所述方法还包括用桥保持件将交换桥保持在第一配置中，其中所述桥保持件与第一和第二平台的短行程模块的可移动部分是动态隔离的。所述方法还包括步骤：将所述第一和所述第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分与所述交换桥耦合，使得在使用时，在第二配置中，所述交换桥仅与所述第一平台和所述第二平台的所述短行程模块的所述可移动部分耦合。

[0075] 尽管以上已经描述了本发明的具体实施例，但应该认识到，本发明可以以与上述不同的方式来实现。例如，本发明可以采用包含用于描述一种如上面公开的方法的至少一个机器可读指令序列的计算机程序的形式，或具有存储其中的所述的计算机程序的数据存储介质(例如半导体存储器、磁盘或光盘)的形式。

[0076] 上面描述的内容是例证性的，而不是限定的。因而，应该认识到，本领域的技术人员在不脱离所附权利要求的范围的情况下，可以对上述本发明进行修改。