气体环境缓冲装置

摘要

本发明公开了一种气体环境缓冲装置，设于两个不同气体环境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备，包括控制装置、传感器、真空室、连接所述真空室与第一气体环境设备的第一闸阀、连接真空室与第二气体环境设备的第二闸阀、设于真空室内的传输机构及与真空室连通的抽气充气机构，该控制装置分别与第一闸阀、第二闸阀、传感器及抽气充气机构电连接，该控制装置控制第一闸阀打开并控制传输机构将基片送入真空室，传感器检测基片完全进入真空室内并通过控制装置控制第一闸阀关闭及传输机构停止传输所述基片，同时控制装置控制抽气充气机构对真空室依次进行抽气和充气，直到真空室的气压与第二气体环境设备内的压力相同后，控制装置控制第二闸阀打开并控制传输机构将所述基片送出真空室。

权利要求

1.一种气体环境缓冲装置，设于两个不同气体环境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备，其特征在于：包括控制装置、传感器、真空室、连接所述真空室与第一气体环境设备的第一闸阀、连接所述真空室与第二气体环境设备的第二闸阀、设于所述真空室内的传输机构及与所述真空室连通的抽气充气机构，所述控制装置分别与所述第一闸阀、第二闸阀、传感器及抽气充气机构电连接，所述控制装置控制所述第一闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送入所述真空室，所述传感器检测所述基片完全进入所述真空室内并通过所述控制装置控制所述第一闸阀关闭及所述传输机构停止传输所述基片，同时所述控制装置控制所述抽气充气机构对所述真空室依次进行抽气和充气，直到所述真空室的气压与所述第二气体环境设备内的压力相同后，所述控制装置控制所述第二闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送出所述真空室。

2.如权利要求1所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述传感器包括第一传感器和第二传感器，所述第一传感器用于检测出所述基片完全进入所述真空室，所述第二传感器用于检测出所述基片完全送出所述真空室。

3.如权利要求2所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述传输机构主要由排列在所述真空室内的若干滚轮组成，所述第一传感器固定于所述真空室内并靠近所述第一闸阀，所述第二传感器固定于所述真空室内并靠近所述第二闸阀。

4.如权利要求1所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述抽气充气机构包括抽气装置、充气装置、连接所述抽气装置与所述真空室的第一阀门、连接所述充气装置与所述真空室的第二阀门及真空规，所述控制装置控制所述第一阀门打开以使所述抽气装置对所述真空室进行抽气；当所述真空规检测到所述真空室为本底真空时，所述控制装置控制所述第一阀门关闭及同时控制所述第二阀门打开以使所述充气装置对所述真空室进行充气；当所述真空规检测到所述真空室的气压与所述第二气体环境设备没的压力相同后，所述控制装置控制所述第二阀门关闭。

5.如权利要求1所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述真空室设有顶盖，所述顶盖上设有第一观察窗；所述真空室的侧部设有第二观察窗。

6.如权利要求5所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述第一观察窗包括观察窗玻璃、承载所述观察窗玻璃的观察窗固定座、设于所述观察窗玻璃与所述观察窗固定座之间的观察窗垫片、设于所述观察窗玻璃与所述顶盖之间的密封O圈及支撑所述密封O圈的支撑座。

7.如权利要求1所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述第一闸阀与第二闸阀均包括插板槽和设于所述插板槽内的插板，且所述插板槽和插板之间设有密封圈。

8.如权利要求4所述的气体环境缓冲装置，其特征在于：所述第一阀门与所述第二阀门均为气动阀门，且所述抽气装置为干泵，所述充气装置向所述真空室充入的气体与所述第二气体环境设备的气体相同。

说明书

气体环境缓冲装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种气体环境缓冲装置，更具体地涉及一种设于两个不同气体环境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备的气体环境缓冲装置。

背景技术

[0002] OLED的基本结构是由一薄而透明具半导体特性之铟锡氧化物(ITO)，与正极相连，再加上另一个金属阴极，如三明治的结构。其中还包括有机薄膜。与LCD相比，有机材料及金属对氧气及水气比较敏感，如何最大程度避免有机薄膜和金属被空气氧化是OLED制造过程中的技术难点之一。

[0003] 在OLED制造的过程中，基板在不同的工序过程中需要在不同的气体环境下进行，若基板从一种气体环境直接进入另一种气体环境中，会导致下一气体环境洁净度降低，从而影响基板的制造环境。例如，在OLED制造过程中，有的工序需要在惰性气体(如氮气)的环境下进行的，如基板从大气环境进入氮气环境，很容易把氧气和水一同带到氮气环境中，造成在制造或者使用的过程中有机材料和金属电极容易被氧化，从而降低OLED的使用寿命和影响质量。

[0004] 因此，有必要提供一种两个不同气体环境的工序之间添加了一个气体环境缓冲装置来克服上述缺陷。

发明内容

[0005] 本发明的目的是提供一种气体环境缓冲装置，能够有效保证工序在所需的气体环境下进行，避免受到其他气体干扰，从而提高产品质量。

[0006] 为实现上述目的，本发明提供一种气体环境缓冲装置，设于两个不同气体环境设备之间以将基片从第一气体环境设备过渡到第二气体环境设备，包括控制装置、传感器、真空室、连接所述真空室与第一气体环境设备的第一闸阀、连接所述真空室与第二气体环境设备的第二闸阀、设于所述真空室内的传输机构及与所述真空室连通的抽气充气机构，所述控制装置分别与所述第一闸阀、第二闸阀、传感器及抽气充气机构电连接，所述控制装置控制所述第一闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送入所述真空室，所述传感器检测所述基片完全进入所述真空室内并通过所述控制装置控制所述第一闸阀关闭及所述传输机构停止传输所述基片，同时所述控制装置控制所述抽气充气机构对所述真空室依次进行抽气和充气，直到所述真空室的气压与所述第二气体环境设备内的压力相同后，所述控制装置控制所述第二闸阀打开并控制所述传输机构将所述基片送出所述真空室。

[0007] 较佳地，所述传感器包括第一传感器和第二传感器，所述第一传感器用于检测出所述基片完全进入所述真空室，所述第二传感器用于检测出所述基片完全送出所述真空室。

[0008] 较佳地，所述传输机构主要由排列在所述真空室内的若干滚轮组成，所述第一传感器固定于所述真空室内并靠近所述第一闸阀，所述第二传感器固定于所述真空室内并靠近所述第二闸阀。

[0009] 较佳地，所述抽气充气机构包括抽气装置、充气装置、连接所述抽气装置与所述真空室的第一阀门、连接所述充气装置与所述真空室的第二阀门及真空规，所述控制装置控制所述第一阀门打开以使所述抽气装置对所述真空室进行抽气；当所述真空规检测到所述真空室为本底真空时，所述控制装置控制所述第一阀门关闭及同时控制所述第二阀门打开以使所述充气装置对所述真空室进行充气；当所述真空规检测到所述真空室的气压与所述第二气体环境设备没的压力相同后，所述控制装置控制所述第二阀门关闭。

[0010] 较佳地，所述真空室设有顶盖，所述顶盖上设有第一观察窗；所述真空室的侧部设有第二观察窗。

[0011] 较佳地，所述第一观察窗包括观察窗玻璃、承载所述观察窗玻璃的观察窗固定座、设于所述观察窗玻璃与所述观察窗固定座之间的观察窗垫片、设于所述观察窗玻璃与所述顶盖之间的密封O圈及支撑所述密封O圈的支撑座。

[0012] 较佳地，所述第一闸阀与第二闸阀均包括插板槽和设于所述插板槽内的插板，且所述插板槽和插板之间设有密封圈。

[0013] 较佳地，所述第一阀门与所述第二阀门均为气动阀门，且所述抽气装置为干泵，所述充气装置向所述真空室充入的气体与所述第二气体环境设备的气体相同。

[0014] 与现有技术相比，本发明的气体环境缓冲装置采用真空室与抽气充气机构的配合，使离开第一气体环境设备的基片完全进入该气体环境缓冲装置得真空室后，启动所述抽气充气机构先对所述真空室进行抽气以抽走在基片运输过程中一起带过来的气体，再向该真空室充入第二气体环境设备所需的气体，从而有效保证基片进入第二气体环境设备时该第二气体环境设备的纯净度，能够有效保证工序在所需的气体环境下进行，避免受到其他气体干扰，从而提高产品质量。而且，整个气体环境缓冲装置都按照预设的程序控制进行，自动化程度高，保证整条生产线的连贯性，提高生产效率。

[0015] 通过以下的描述并结合附图，本发明将变得更加清晰，这些附图用于解释本发明的实施例。

附图说明

[0016] 图1为本发明气体环境缓冲装置的结构示意图。

[0017] 图2为基片准备输入本发明气体环境缓冲装置的状态示意图。

[0018] 图3为基片部分输入本发明气体环境缓冲装置的状态示意图。

[0019] 图4为基片全部输入本发明气体环境缓冲装置的状态示意图。

[0020] 图5为基片输出本发明气体环境缓冲装置的状态示意图。

具体实施方式

[0021] 现在参考附图描述本发明的实施例，附图中类似的元件标号代表类似的元件。如上所述，本发明提供了一种气体环境缓冲装置，该气体环境缓冲装置能够有效保证工序在所需的气体环境下进行，避免受到其他气体干扰，从而提高产品质量。

[0022] 请参考图1，为本发明气体环境缓冲装置的结构示意图。所述气体环境缓冲装置设于两个不同气体环境设备之间以将基片90从第一气体环境设备100过渡到第二气体环境设备200，包括真空室10、第一闸阀20、第二闸阀30、传输机构40、抽气充气机构50、控制装置(图未示)、第一传感器60及第二传感器70，所述第一闸阀20连接所述真空室10与第一气体环境设备100，所述第二闸阀30连接所述真空室10与第二气体环境设备200，所述传输机构40容设于所述真空室10内以将基片90从第一气体环境设备经过真空室10传送到第二气体环境设备，所述抽气充气机构50与所述真空室10连通并对所述真空室10抽气和充气，所述控制装置分别与所述第一闸阀20、第二闸阀30、第一传感器60、第二传感器70及抽气充气机构50电连接。

[0023] 在本实施例中，所述第一气体环境设备100为大气环境设备，所述第二气体环境设备200为纯氮气环境设备。可以理解地，所述第一气体环境设备100与第二气体环境设备200并不局限于本实施例的大气环境设备和纯氮气环境设备。

[0024] 请继续参考图1，所述传输机构40主要由排列在所述真空室10内的若干滚轮组成，所述若干滚轮用于将所述基片90送入或送出所述真空室10。所述第一传感器60固定于所述真空室10内并靠近所述第一闸阀20，所述第二传感器70固定于所述真空室10内并靠近所述第二闸阀30，所述第一传感器60用于检测出所述基片90完全进入所述真空室10，所述第二传感器70用于检测出所述基片90完全送出所述真空室10。

[0025] 所述抽气充气机构50包括抽气装置51、充气装置52、连接所述抽气装置51与所述真空室10的第一阀门53、连接所述充气装置52与所述真空室10的第二阀门54及真空规55，所述第一阀门53与所述第二阀门54均为气动阀门，且所述抽气装置51为干泵，所述充气装置52向所述真空室10充入的气体为纯氮气。所述控制装置通过控制所述第一阀门53的打开或关闭而控制所述抽气装置51对真空室10进行抽气或停止，及通过控制所述第二阀门54的打开或关闭而控制所述充气装置52对真空室10进行充气或停止；所述真空规55用于检测所述真空室10的气压状态，当所述真空规55检测到所述真空室10为本底真空时，所述控制装置控制所述第一阀门53关闭以停止抽气装置51对真空室10抽气并同时控制所述第二阀门54打开以使所述充气装置52对所述真空室10进行充气；当所述真空规55检测到所述真空室10的气压与所述第二气体环境设备200内的压力相同时，控制所述第二阀门54关闭以停止充气装置52对所述真空室10充气。

[0026] 所述第一闸阀20为气动插板阀，包括插板槽21和设于所述插板槽21内的插板22，且在所述第一闸阀20与所述大气环境设备的连接处设有第一密封圈23a，所述所述第一闸阀20与所述真空室10的连接处设有第二密封圈23b，安装于所述插板槽21内的插板
22闭合处设有第三密封圈23c，所述第一密封圈23a、第二密封圈23b和第三密封圈23c用于保证所述真空室10的气密性。所述第二闸阀30的结构与所述第一闸阀20相对应，在此不再详述。

[0027] 较佳地，为了方便维修，所述真空室10设有顶盖21，所述顶盖21可以打开，若关闭时则用螺钉等固定机构固定。为了随时监测设备的运转情况，所述顶盖21设有第一观察窗22，所述第一观察窗22包括观察窗玻璃221、承载所述观察窗玻璃221的观察窗固定座222、设于所述观察窗玻璃221与所述观察窗固定座222之间的观察窗垫片223、设于所述观察窗玻璃与所述顶盖之间的密封O圈224及支撑所述密封O圈224的支撑座225。所述真空室10的侧部还设有第二观察窗28。

[0028] 下面具体描述本发明气体环境缓冲装置的具体工作过程。首先，请参考图2，此时基片90准备从所述第一气体环境设备100进入本发明的气体环境缓冲装置；接着，请参考图3，当所述控制装置控制所述第一闸阀20打开并控制所述传输机构40启动，所述基片90在所述传输机构40的作用下送入所述真空室10(所述传输机构40的滚轮沿图中箭头a方向转动，所述传输机构40带动所述基片90的前进方向如图中箭头b所示)；然后，请参考图4，当所述第一传感器60检测到所述基片90完全进入所述真空室20内，通过所述控制装置控制所述第一闸阀20关闭及所述传输机构40停止传输所述基片90，同时所述控制装置控制所述抽气充气机构50第一阀门53打开以使所述抽气装置51对真空室10进行抽气，直到所述真空规55检测到真空室10内的真空度为本底真空(如：1E-1Pa)时，所述真空规55通过传递信号使所述控制装置控制第一阀门53关闭以控制所述抽气装置51停止抽气，并同时控制所述第二阀门54打开以使所述充气装置52对所述真空室10开始充入纯氮气(纯氮气充入方向如图中箭头c所示)；当所述真空规55检测到所述真空室10的气压与所述第二气体环境设备200内的压力相同时，通过控制装置控制所述第二阀门54关闭以停止充气装置52对所述真空室10充气，并同时控制所述第二闸阀30打开及控制所述传输机构
40带动所述基片90继续前进(前进方向如图箭头b所示)；最后，请参考图5，当所述第二传感器70检测到所述基片90完全离开真空室10并而进入到所述第二气体环境设备200内，通过所述控制装置控制所述第二闸阀30关闭，并同时控制所述第一闸阀20打开，以传输下一基片。

[0029] 以上结合最佳实施例对本发明进行了描述，但本发明并不局限于以上揭示的实施例，而应当涵盖各种根据本发明的本质进行的修改、等效组合。