具有热性能的堆叠层的纹理化基底

摘要

本发明涉及玻璃基底(10)，其包含具有深度为至少1mm的突起状纹理的主面，特征在于所述主面(11)提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层(100)。

权利要求

1.玻璃基底(10)，其包含具有深度为至少1mm的突起状纹理的主面，特征在于所述主面(11)提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层(100)。

2.根据权利要求1的基底(10)，特征在于该突起具有1-15mm，特别地2-12mm的深度。

3.根据权利要求1或2的基底(10)，特征在于该主面的参照表面(12)的至少20％，甚至至少50％位于同一个平面中。

4.根据权利要求1-3任一项的基底(10)，特征在于不是参照表面的主面的突起的底部表面(14)的至少20％，甚至至少50％优选地位于同一个平面中。

5.根据权利要求1-4任一项的基底(10)，特征在于位于该主面的参照表面(12)和该突起的底部表面(14)之间的突起的坡度被定向在90°-120°的角度α。

6.根据权利要求1-5任一项的基底(10)，特征在于薄层堆叠层(100)包括至少一个基于银的或基于含银的金属合金的金属功能层(40)，和两个减反射涂层(20、60)，所述涂层每个包含至少一个电介质层(24、64)，所述功能层(40)任选地被设置在两个减反射涂层(20、60)之间，该功能层(40)任选地被直接地沉积在设置在功能层(40)和下邻减反射涂层(20)之间的下阻隔涂层(30)之上，和功能层(40)被直接地沉积在设置在功能层(40)和上邻减反射涂层(60)之间的上阻隔涂层(50)之下。

7.根据权利要求1-5任一项的基底(10)，特征在于所述薄层堆叠层(100)包含至少一个含氮的功能层，特别地基于四氮化三硅或者一氮化钛。

8.根据权利要求1-7任一项的基底(10)，特征在于基底(1)的面(18)，与主面相对的面，具有深度为至少1毫米的突起状纹理，该相对面(18)任选地提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质和/或具有减反射性质的薄层堆叠层。

9.包括至少一个根据权利要求1-8任一项的基底(10)的窗玻璃，其任选地与至少一个其它基底结合。

10.以单片形式或者为双层窗玻璃或者层压窗玻璃的多层窗玻璃形式进行安装的根据权利要求9的窗玻璃，特征在于至少该带有堆叠层的基底进行弯曲和/或淬火。

11.根据权利要求1-8任一项的玻璃基底(10)的制备方法，该玻璃基底包括具有深度为至少1毫米的突起状纹理的主面，特征在于所述主面提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层(100)。

12.根据权利要求11的方法，特征在于所述薄层堆叠层(100)可以在形成该突起状纹理之后，特别地通过真空沉积技术，特别地通过磁控管溅射进行沉积。

13.根据权利要求11的方法，特征在于在沉积所述薄层堆叠层之后进行该突起状纹理的形成。

14.根据权利要求13的方法，特征在于该突起状纹理的形成在高温下进行并通过基底的弯曲和/或淬火而结束。

15.在玻璃基底(10)的主面上的在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层(100)用于获得根据权利要求1-8任一项的基底(10)或用于获得权利要求9或10的窗玻璃的用途，所述基底的主面具有深度为至少1毫米的突起状纹理。

16.根据前述权利要求的用途，其中薄层堆叠层(100)是建筑的薄层堆叠层(100)，尤其用于″可淬火的″或者″待淬火″的建筑窗玻璃的薄层堆叠层，特别地日光控制的堆叠层，尤其″可淬火的″或者″待淬火的″日光控制的堆叠层。

说明书

具有热性能的堆叠层的纹理化基底

[0001] 本发明涉及用无机刚性材料(如玻璃)制成的透明基底，这种基底具有显示出至少1mm深度的突起状纹理(texture en relief)的主面。

[0002] 这种基底用于内部和/或外部装饰的建筑应用中。

[0003] 本发明更特别地涉及这种基底用于制备热绝缘和/或日光保护窗玻璃的用途。这些窗玻璃可用于装备建筑物，特别是为了降低空调负荷和/或防止过度过热(所谓“日光控制”窗玻璃)和/或减少能量消散到外部(所谓“低发射”窗玻璃)，这些都是因在建筑物中总是大量增加玻璃表面造成的。

[0004] 这些窗玻璃还可以结合到具有特定功能的窗玻璃中，例如加热窗玻璃或者电致变色窗玻璃中。

[0005] 用于提供给基底这样性质而为人们所知的一类薄层堆叠层是由具有在红外线和/或太阳辐射中的反射性质的金属功能层，特别地基于银或者基于包含银的金属合金的金属功能层组成。

[0006] 在真空沉积流水线上在工业上沉积这些薄层堆叠层，特别地使用溅射工艺，任选地采用磁场增强的溅射，被称为″磁控管″溅射。

[0007] 本领域的技术人员至今一直考虑具有在红外线和/或太阳辐射中反射性质的薄层堆叠层只能沉积在光滑表面上。

[0008] ″光滑表面″，本领域的技术人员理解该表面可以具有粗糙度，特别地具有所述层的物理厚度的数量级的RMS粗糙度。

[0009] 然而，本领域的技术人员一直认为在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层不能沉积在纹理化(texturées)表面上，特别地在显示具有至少1毫米或更高的深度的突起状纹理的主面上。

[0010] 本发明因此涉及，在它的最广义中，根据权利要求1的玻璃基底。这种基底包含具有深度为至少1mm的突起状纹理的主面并且所述主面提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层。

[0011] 通常，在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层具有约50-200nm总物理厚度。在本发明的范围中，突起的深度，即最高点和最低点之间的差距因此是该堆叠层的物理厚度的至少5倍，通常约10-20倍。

[0012] 在沉积该薄层堆叠层之前和/或之后，该基底可以是透明的，在可见光中具有高光透射(大于或等于80％)，或者部分透明的在可见光中具有中等的光透射(20％-80％)，不太透明的在可见光中具有差的光透射(5％-20％)，甚至不透明在可见光中具有低于5％的光透射(在本文献中所考虑的在可见光中的光透射，完全如同在可见光中光反射，为通常在550nm测量的那些)。

[0013] 基底的主面的突起优选地具有1-15mm的深度(包括端值)，特别地2-12mm(包括端值)，甚至3-10mm(包括端值)。

[0014] 优选地，主面的参照表面的至少20％，甚至至少50％位于同一个平面中，该平面优选地为平的，但是其任选地可以在沉积薄层之后进行弯曲。

[0015] 而且，不是参照表面的主面的突起的底部表面(凹进或者隆起的)的至少20％，甚至至少50％优选地位于同一个平面中，该平面优选地是平的，但是其任选地可以在沉积薄层之后进行弯曲。

[0016] 而且，位于该主面的参照表面和该突起的底部表面之间的突起的坡度优选地被定向在90°-120°的角度α。

[0017] 在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层通常具有以下效果：

[0018] -使在其上沉积该堆叠层的基底在可见光中光透射降低至少10％；

[0019] -使在其上沉积该堆叠层的基底在可见光中光反射提高至少10％；

[0020] -使在其上沉积该堆叠层的基底在近红外(日照控制堆叠层)或者远红外(低发射率堆叠层)中的能量反射提高至少10％。

[0021] 根据本发明的基底因此优选地具有：

[0022] -低于80％，甚至低于60％的在可见光中的光透射，由于该纹理还参与降低该光透射；

[0023] -至少20％，至少30％或者50％，甚至至少80％，甚至90％的在可见光中的光反射；

[0024] -至少10％或者至少20％，或者至少30％或者50％，甚至至少80％在红外线中的能量反射。

[0025] 用于建筑物的防晒窗玻璃的实例在专利EP-0511901和EP-0678483中给出：它为在过滤太阳辐射方面的功能层，其用任选地含氮的镍-铬合金制成，由不锈钢或者钽制成，并且其被设置在两个金属氧化物(如SnO2、TiO2或者Ta2O5)制成的电介质层之间。这些窗玻璃是具有令人满意的机械和化学稳定性的优良的防晒窗玻璃，但是不是真正“可弯曲的”或者“可淬火的”，因为围绕该功能层的氧化物层不能防止它在弯曲或者淬火操作期间被氧化，该功能层的氧化伴随有在可见光中光透射的改变和窗玻璃其整体外观的改变。

[0026] 最近已经进行了许多研究以获得在低-发射率窗玻璃领域内可弯曲的/可淬火的层，其目的更确切地是获得高光透射，与被称为″防晒″窗玻璃不同。已经提出在银功能层上面使用基于四氮化三硅的电介质层。这种材料对于高温氧化是相对惰性的并且证明适合于保护下邻的银层，如在专利EP-0718250中描述的那样。

[0027] 已经描述了其它作用于太阳辐射的推定为可弯曲的/可淬火的多层堆叠层使用不同于银功能层：专利EP-0536607使用由TiN或者CrN类型的金属氮化物制成的功能层，具有由金属或者硅衍生物制成的保护层。专利EP-0747329描述了与四氮化三硅层相结合的由NiCr类型镍合金制成的功能层。

[0028] 然而，这些具有防晒功能的堆叠层的性能仍然能够改进，特别地在当经受高温热处理时的耐用性和抗降解性方面。

[0029] 术语″功能″层理解为在本申请中表示在该堆叠层中的一个或多个层，其提供给该堆叠层它的热性质的主要部分，与其它通常由电介质材料制成的层相反，该其它层具有该功能层的化学或者机械保护层的功能，光学功能，粘附功能等等。

[0030] 在一个特别的变型中，所述薄层堆叠层包含至少一个基于不锈钢的金属功能层。

[0031] 在一个特别的变型中，所述薄层堆叠层包含至少一个含氮的功能层，特别地基于四氮化三硅或者一氮化钛，如从国际性专利申请号WO01/21540已知。

[0032] 在另一个特别的变型中，所述薄层堆叠层包含至少一个基于银或者基于包含银的金属合金的金属功能层，和两个减反射涂层，所述涂层每个包含至少一个电介质层，所述功能层被设置在该两个减反射涂层之间，该功能层任选地被直接沉积在设置在功能层和下邻的减反射涂层之间的下阻隔涂层上，和该功能层任选地被直接沉积在设置在功能层和上邻减反射涂层之间的上阻隔涂层之下。

[0033] 本发明涉及的这种已知类型的堆叠层被称为″具有下阻隔和上阻隔堆叠层″，因为它特别地以如下顺序具有以下结构：

[0034] 基底/下邻的减反射涂层/下阻隔涂层(revêtement sous-bloqueur)/金属的功能层/上阻隔涂层(revêtement sur-bloqueur)/上邻减反射涂层+任选地保护层。

[0035] 该功能层因此位于在两个减反射涂层之间，该减反射涂层每个通常包含用四氮化三硅类型的电介质材料制成的单一层。这些围绕金属功能层的涂层的目的为使这种金属功能层“减反射”。

[0036] 然而，将阻隔涂层插入在每个减反射涂层和金属功能层之间。

[0037] 设置于在基底方向的功能层之下的阻隔涂层有利于该层的晶体生长并且在可能的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间保护它。

[0038] 设置在与基底相对的功能层上的阻隔涂层保护该层在沉积上减反射涂层期间和在可能的弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间不受可能的降解。

[0039] 而且可能的是，与主面相对的该基底的面还具有深度为至少1毫米的突起状纹理，该相对面任选地提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质和/或具有减反射性质的薄层堆叠层。

[0040] 本发明的目的更确切地说为上面介绍的那些类型的堆叠层，其很好地抗施用于玻璃基底以使得它们被弯曲和/或淬火的弯曲和/或淬火热处理。

[0041] 本领域的技术人员区别两类耐弯曲和/或淬火热处理(或者经受热处理)的堆叠层：

[0042] 1-被称为“待淬火”的堆叠层，其在热处理之前不具有希望和期望的特征，特别地光透射、颜色、电阻率等等，并且其在该热处理期间获得这些特征；用这类堆叠层涂覆的基底因此不能被最终用户原样使用(例如，当包装该基底以形成窗玻璃时)，而只有在经受了热处理以后才能使用；和

[0043] 2-称为“可弯曲的″和/或″可淬火″的堆叠层，其在热处理之前具有可接受的特征并且在热处理之后具有类似的或者几乎相同的特征，即其具有由于热处理引起的在特征方面的可接受的改变并使得它对于观察者通过目视观察难于区别用已经受热处理的堆叠层涂覆的基底与用相同的没有经受热处理的堆叠层涂覆的基底。

[0044] 对于本领域的技术人员不可能更精确地定义这两类，因为，例如″待淬火″的堆叠层可以具有的由于热处理带来的在可见光中的光透射改变与″可淬火″堆叠层的光透射改变同样低，但是例如在可见光中的光反射具有更大的改变或者在颜色方面更大的改变。

[0045] 然而，现有技术的文献和玻璃制造商的技术资料清楚地进行这种区别。

[0046] 其中在建筑物同一个幕墙上，例如彼此接近地存在一方面结合根据本发明的具有薄层堆叠层的并且在沉积该层之后已经进行淬火的基底的窗玻璃，和另一方面根据本发明的具有相同的薄层堆叠层的没有进行淬火的基底，通过简单全面目视观察所述窗玻璃难以区别的情况下(特别地结合在可见光中的光透射、在可见光中该窗玻璃的反射颜色和反射光)，本发明因此适用于被称为″可淬火″的基底，。

[0047] 对于本领域的技术人员，存在不经受任何热处理的堆叠层。

[0048] 因此，从欧洲专利申请EP567735还已知上述类型的具有基于银的不能经受热处理的功能层的堆叠层。

[0049] 在该文献EP567735中，解释了对于每个基于镍的阻隔涂层具有低于0.7纳米的厚度是重要的。

[0050] 从欧洲专利申请EP646551还已知，相同类型的堆叠层(相同的层顺序，对于每个层相同的材料)，其本身可以经受热处理；这是″待淬火″的堆叠层因为它在弯曲或者淬火热处理期间具有显著的变化，特别地光学改变。

[0051] 文献EP646551解释了前面的文献(EP567735)的技术方案不能经受热处理，可能因为每个阻隔涂层的厚度不足以恰当地保护基于银的金属功能层。

[0052] 文献EP646551因此间接地推荐，为了生产相同类型的但其经受热处理的堆叠层，下阻隔涂层实际是更厚的(优选地是上阻隔涂层的厚度的2-4倍)并且特别地它显示出对于该下阻隔涂层具有大于2纳米的厚度是优选的并且建议厚度为约4.5nm。

[0053] 在这里使用的术语″玻璃基底″表示通常用于玻璃工业以生产窗玻璃的任何类型基底，并因此覆盖任何玻璃基底，无论它们的厚度怎么样，和任何聚合物基底(特别地普通塑料；聚碳酸酯PC，聚乙烯醇缩丁醛PVB，聚对苯二甲酸乙二醇酯PET等等)，无论什么它们的厚度怎样。

[0054] 根据本发明的窗玻璃至少包括带有根据本发明的堆叠层的基底，任选地其与至少一个其它基底组合。每个基底可以是明亮的或者着色的。基底中至少一个特别地可以用主体着色或者表面着色的玻璃制成。根据对于窗玻璃(一旦完成它的制备)所希望的光透射水平和/或比色外观选择着色类型。

[0055] 在该窗玻璃中，以单片窗玻璃或者为双层窗玻璃或者层压窗玻璃的多层窗玻璃形式进行安装，至少该带有堆叠层的基底可以被弯曲和/或淬火，该热处理可在沉积该薄层堆叠层之前或之后进行。

[0056] 根据本发明的窗玻璃因此可以具有层压结构，特别地其通过至少一个热塑性聚合物片结合至少两个刚性玻璃类型基底，以便具有以下类型的结构：玻璃/薄层堆叠层/一个或多个薄片/玻璃。该聚合物特别地可以基于聚乙烯醇缩丁醛PVB、乙烯/醋酸乙烯酯EVA、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET或者聚氯乙烯PVC。

[0057] 该窗玻璃还可以具有所谓的不对称的层压窗玻璃结构，其将玻璃类型的刚性基底与至少一个具有能量吸收性质的聚氨酯类型的聚合物片结合，任选地与另一个具有″自修复″性质的聚合物层结合。为了了解关于这类窗玻璃更多详情，可以特别地参考专利EP-0132198、EP-0131523和EP-0389354。

[0058] 该窗玻璃这时可以具有以下类型的结构：玻璃/薄层堆叠层/一个或多个聚合物薄片。

[0059] 当该堆叠层的覆盖的主表面因此用聚合物薄片覆盖时，该薄层堆叠层，虽然用它被沉积在其上的表面的纹理结构分割，这时其被这种聚合物薄片保护不受任何降解。而且，该薄片可以补偿在在窗玻璃的周边的表面差以容易结合到具有光滑的基底的接收表面的框架中。

[0060] 根据本发明的窗玻璃能够经受热处理而不损坏薄层堆叠层。其因此可能被弯曲和/或淬火。

[0061] 该窗玻璃可以被弯曲和/或淬火，同时由单一的提供有堆叠层的基底组成。这种窗玻璃这时被称为″单片″窗玻璃。当它被弯曲时，薄层堆叠层优选地位于至少部分非平面的面上。

[0062] 该窗玻璃还可以是多层窗玻璃，特别地双层窗玻璃，至少带有堆叠层的基底可能被弯曲和/或淬火。在多层窗玻璃构造中优选地放置堆叠层以便面对(être tournédude)中间气体薄片。在层压结构中，带有堆叠层的基底可以与该聚合物片接触。

[0063] 当窗玻璃是单片的时或者呈双层窗玻璃或者层压窗玻璃类型的多层窗玻璃形式时，至少该带有堆叠层的基底可以由弯曲或者淬火的玻璃制成，在堆叠层沉积之前或之后，对于该基底可以被弯曲或者淬火。

[0064] 本发明还涉及用于制备根据本发明的基底的方法，其在于在它的基底上通过任选地磁场辅助的阴极溅射类型的真空技术沉积薄层堆叠层。

[0065] 然而，不排除该堆叠层的一个或多个第一层可以通过另一技术进行沉积，例如通过热解类型的热分解技术。

[0066] 本发明还涉及用于制备根据本发明的玻璃基底的方法，该玻璃基底包括具有深度为至少1毫米的突起状纹理的主面。

[0067] 这种方法值得注意的是，所述主面提供有在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层。

[0068] 所述薄层堆叠层可以在形成该突起状纹理之后，特别地通过真空沉积技术，特别地通过磁控管溅射进行沉积。

[0069] 然而，该突起状纹理的形成还可以在沉积所述薄层堆叠层之后进行，特别地当形成该突起状纹理在高温下进行并且由该基底的弯曲和/或淬火结束时。

[0070] 本发明还涉及在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层在玻璃基底的主面上的用途，以生产本发明的基底，该基底的主面具有深度为至少1毫米的突起状纹理，或者为了生产根据本发明的窗玻璃。

[0071] 在这种用途的范围中，薄层堆叠层优选地是建筑用的薄层堆叠层，特别地用于为″可淬火的″或者″待淬火″的建筑窗玻璃的薄层堆叠层，特别地日光控制的堆叠层，尤其为″可淬火的″或者″待淬火的″日光控制的堆叠层。

[0072] 有利地，令人惊讶地它显示出在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层可以提高该纹理的深度的感觉。

[0073] 在用堆叠层覆盖的表面不同块之间可能产生光学相互作用，其，由于该堆叠层的光反射性质，产生该纹理是更明显的感觉，即比实际上更凹进或更突起的。

[0074] 因此，对于相同的整体纹理，当两个纹理化基底(一个没有薄层堆叠层和另一个根据本发明的在纹理化面上具有薄层堆叠层)比较时，该图案的深度显示出增加20-50％。

[0075] 本发明的细节和有利的特征将从以下非限制实施例显露出来，所述实施例借助于附图进行说明。

[0076] -图1示意说明在本发明意义上的轧制过程，其中使用还用作纹理化装置的轧辊；

[0077] -图2说明在沉积薄层堆叠层之前的根据本发明的纹理化基底；

[0078] -图3说明用基于不锈钢的单功能层堆叠层覆盖的根据本发明的基底；和[0079] -图4说明根据用基于银的单功能层堆叠层覆盖的本发明的基底，该功能层提供有下阻隔涂层和上阻隔涂层，该堆叠层另外提供有任选的保护涂层。

[0080] 在上述图中，各种材料或元件的厚度不是按比例的以便使得它们容易看清楚。

[0081] 该方法通常用于制备纹理化、大尺寸化玻璃基底，包括轧制过程，其原理在图1中举例说明，其中在耐火材料2上沿双线箭头方向驱动熔融态玻璃1通过金属辊3和4进行成型。该玻璃在成型之前具有约1200℃的温度和在轧制机出口约850℃的温度。当希望将图案或者纹理化压制进入玻璃中时，一种常规方法在于使用辊，如，例如辊3，其在它的表面上不是光滑的，而是在它的表面上具有在基底上希望获得的图案或者纹理的底版。这些纹理化技术特别地在装饰玻璃领域中或在光电装置领域中是已知的，例如在欧洲专利申请No.EP 1774372中。同样地，辊可以在上和/或下面具有刻纹。按已知方式，然后该玻璃被取出送往玻璃韧化炉。

[0082] 在辊的一种传统模型中，在两个纹理图案之间存在不变间距。这些纹理图案例如由一组在该辊的表面存在并且彼此平行的突起或凸起物(例如棱柱形状)组成。该突起典型地在该基底的主面上可以获得具有正的该辊图案的重复的纹理。

[0083] 仅仅通过在纹理化形状上的重力可以获得热成型。

[0084] 根据本发明的基底的纹理化因此可以通过压延(英语为“cast”)、热成型、蚀刻，特别地用于聚合物材料的激光蚀刻进行生产。

[0085] 因此对于在图2中举例说明的包含具有深度p为至少1毫米的的突起状纹理的主面的玻璃基底10，根据本发明的制造过程在于向所述主面提供在红外线和/或太阳辐射中具有反射性质的薄层堆叠层100以获得在图3或者4中举例说明的基底。

[0086] 或者该薄层堆叠层100在形成突起状纹理之后进行沉积，特别地通过真空沉积技术，特别地通过磁控管溅射进行，或者该突起状纹理的形成在沉积所述薄层堆叠层100之后在高温下进行并且任选地通过该基底的弯曲和/或淬火结束。

[0087] 该在图2中举例说明的基底10具有深度p为1-15毫米，特别地2-12毫米的纹理。这种深度对应于主面的参照表面12和该主面的突起的底部表面14(其最远离主表面)之间测量的距离。

[0088] 基底10具有另一面(相对面18)，参照表面12在这里为最远离该相对面的表面，而底部表面14是最靠近相对面18的表面，这是由于该突起被认为是凹进的。

[0089] 位于主面的参照表面12和该突起的底部表面14之间的突起的坡度被定向在90°-120°的角度α。

[0090] 向由在基底的一侧(主面)上的图案提供的纹理，还可以，向另一侧(相对面，18)，加入由该相对面的粗糙度或者由粗糙层提供的纹理。该粗糙层可以例如是基于一种或多种金属氧化物的透明导电层，所述表面或者所述层具有至少3纳米，特别地至少5纳米的R.M.S粗糙度和/或至少50纳米的粗糙度的图案的平均尺寸。

[0091] R.M.S粗糙度代表“均方根”粗糙度。它涉及在于测量该粗糙度的均方根的值的测量。该R.M.S粗糙度因此具体地定量相对于平均高度的粗糙度峰的平均高度。

[0092] 两个实施例已经通过使用由SAINT-GOBAIN以名称CREA-LITE 销售的基底作为基础基底，所述基底具有20毫米的厚度和具有约8毫米的深度的不平坦差异(在8毫米的最大距离上)。

[0093] 进行实施例1，其中薄层堆叠层100包括用由一氮化钛制成的保护层90覆盖的由不锈钢制成的金属功能层80。

[0094] 在可见光中光透射是约1％，在主面侧的光反射是约40％和在相对面侧18上的光反射是约50％。

[0095] 对于该实施例1的在可见光中的光透射是非常低的，但是它然而是对于目标应用，特别地对于装饰应用是足够的。

[0096] 进行实施例2，其中薄层堆叠层100包括基于银的金属功能层40，和两个减反射涂层20、60，所述涂层每个包含至少一个电介质层24、64，所述功能层40被设置在两个减反射涂层20、60之间，该功能层40被直接地沉积在设置在功能层40和下邻减反射涂层20之间的下阻隔涂层30之上，和功能层40被直接地沉积在设置在功能层40和上邻减反射涂层60之间的上阻隔涂层50之下。

[0097] 在下面的表格1举例说明实施例2的每一层以纳米表示的物理厚度(非光学厚度)：

[0098] 表1

[0099]层 材料 Ex.2
70 TiOx 2
64 Si3N4 45
50 NiCr 0.8
40 Ag 5.5
30 NiCr 0.8
24 Si3N4 45

[0100] 该实施例的光学和表面电阻特征为：

[0101] -TLvis，在可见光中以％表示的光透射TL，在光源D65:64％下进行测量；

[0102] -RLvisc，以％表示的在可见光中光反射RL，在多层侧在光源D65:12％下进行测量；

[0103] -方电阻(résistance par carré)约16Ω/。

[0104] 在本发明的意义内，实施例2的堆叠层为可淬火的堆叠层，因为该覆盖的基底的在可见光中的光透射的变化ATLvis低于5。

[0105] 因此难以区别根据实施例2的一种的已经受热处理的基底与分别地该相同实施例的没有经受热处理的基底，当它们并排放置时。

[0106] 本发明在上文中通过举例进行描述。理解的是，本领域的技术人员可以制备本发明的各种变型而不超出如权利要求所定义的本专利的范围。