一种电器清洗剂及其制备方法

摘要

本发明公开了一种电器清洗剂及其制备方法，将重量份为24.9～50.7的正溴丙烷、7.3～14.8的异丙醇和34.5～67.9的HCFC-141b装入密闭反应器内，在50～70℃常压下搅拌反应30分钟即制得。本发明低毒，低ODP值，刺激性气味小，具有良好的去污能力和渗透性，可以调节产品的挥发度，不易燃，遇明火不燃烧，而且价格低廉。

权利要求

1.一种电器清洗剂，其特征在于包括以下重量份的组分：正溴丙烷 24.9～50.7；

异丙醇 7.3～14.8；

HCFC-141b 34.5～67.9。

2.根据权利要求1所述的电器清洗剂，其特征在于包括以下重量份的组分：正溴丙烷 37.7；

异丙醇 11；

HCFC-141b 51.3。

3.一种权利要求1所述电器清洗剂的制备方法，其特征在于包括下述步骤：将重量份为24.9～50.7的正溴丙烷、7.3～14.8的异丙醇和34.5～67.9的HCFC-141b装入密闭反应器内，在50～70℃常压下搅拌反应30分钟即制得。

说明书

一种电器清洗剂及其制备方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种清洗剂。

背景技术

[0002] 随着电子、电机、精密仪器、树脂加工及精密光学等产业的迅速发展，具有优良性能的清洗剂也得到了广泛的应用。以前使用的ODS(消耗臭氧层物质)清洗剂，包括CFC-113(三氟三氯乙烷)、TCA(三氯乙烷)和CTC(四氯化碳)三种清洗剂，被证明会造成大气层中的臭氧分解，出于对臭氧层的保护，ODS清洗剂已经在国内全面淘汰，于2003年12月终止CTC作为清洗剂的使用，于2005年12月停止CFC-113清洗剂的生产和使用，于2009年12月终止TCA清洗剂的使用。

[0003] 当前通常采用的方法是选取ODP(消耗臭氧潜能)值较低的溶剂来替代上述这些清洗剂，如氢氟氯烃类、烃类、全氟烃类、氢氟醚类、氯代烃类、氢溴烃类等。

[0004] 中国发明专利ZL 02137518.6说明书公开了一种电子设备清洗剂，由二氯五氟丙烷和烷烃混合物组成，适用于电子设备清洗。中国发明专利ZL200610060854.4说明书也公开了一种高效电器清洗剂，由二氯五氟丙烷、三氯乙烷以及一氟二氯乙烷组成，清洗能力高。虽然二氯五氟丙烷有很低的ODP值(为0.03)，几乎不破坏臭氧层，但是目前市场上二氯五氟丙烷价格较昂贵。

[0005] 中国专利申请200910047372.9公开了一种电器清洗剂，是一种含有二氯甲烷，四氯乙烯，HCFC-141b的组合物清洗剂，在清洗力、化学稳定性方面，该组合物非常好。HCFC-141b具有较低的ODP值(为0.11)，目前还未被禁止使用，价格低廉，而且HCFC-141b具有阻燃性且强挥发性，可以调节产品的挥发度，从而满足于不同的挥发性要求。但该清洗剂中含有的二氯甲烷和四氯乙烯具有毒性，而且刺激性气味强，操作人员很难接受。

发明内容

[0006] 为了克服现有技术价格昂贵或者含有毒性、气味刺激的不足，本发明提供一种电器清洁剂，刺激性气味小，去污能力强，低毒性，不易燃，价格低廉。

[0007] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种电器清洗剂，包括以下重量份的组分：

[0008] 正溴丙烷 24.9～50.7；

[0009] 异丙醇 7.3～14.8；

[0010] HCFC-141b(一氟二氯乙烷) 34.5～67.9。

[0011] 作为本发明的一个优选方案，所述的电器清洗剂包括以下重量份的组分：

[0012] 正溴丙烷 37.7；

[0013] 异丙醇 11；

[0014] HCFC-141b(一氟二氯乙烷) 51.3。

[0015] 本发明还提供了一种上述清洗剂的制备方法：