一种自挥发盐釉料的施釉方法转让专利

申请号 : CN201010534621.X

文献号 : CN102040397B

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基本信息:

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 刘虎李月明沈宗洋廖润华王竹梅洪燕

申请人 : 景德镇陶瓷学院

摘要 :

本发明公开了一种自挥发盐釉料的施釉方法,将盐釉料放置在容器中,与陶瓷坯体一起进窑炉烧制;在烧制过程中,盐釉料自行挥发形成盐釉蒸汽,并覆盖在陶瓷坯体表面经堆积冷却后形成釉层。本发明通过挥发覆盖施釉,流动性小,可最大程度地保留陶瓷制品表面的细节和装饰的精致度。本发明在制作过程中,可以免去传统工艺首先施釉的步骤,大大较低了生产成本,提高了生产效率。同时也可以与传统施釉工艺相结合,对陶瓷坯体进行局部施盐釉,从而大大提高了适用性。

权利要求 :

1.一种自挥发盐釉料的施釉方法,其特征在于包括以下步骤:a.制作陶瓷坯体(2);

b.将盐釉料(1)装入容器(3),与陶瓷坯体(2)一起摆放进窑炉;装有盐釉料(1)的容器(3)均匀分布在陶瓷坯体(2)之间;所述盐釉料(1)按照重量百分比其组成为:氯化钠

40~60%、氯化钾20~40%、碳酸钠10~30%、碳酸钾10~30%;

c.在1100~1300℃温度下烧成,盐釉料(1)在烧制过程中自行挥发出蒸汽并覆盖在陶瓷坯体(2)表面;

d.覆盖的盐釉经冷却后在陶瓷坯体(2)表面形成透明釉层。

2.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法,其特征在于:所述容器(3)为敞口容器。

3.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法,其特征在于:所述容器(3)上设置有导向孔(4)。

4.根据权利要求3所述的自挥发盐釉料的施釉方法,其特征在于:所述步骤a中制作陶瓷坯体(2)后,先对陶瓷坯体(2)需要的部位施加普通釉料;所述步骤b中容器(3)的导向孔(4)对应陶瓷坯体(2)需要施盐釉蒸汽的部位,盐釉料(1)高温烧制时自行挥发出的蒸汽,通过容器导向孔(4)覆盖在陶瓷坯体(2)所需要的部位。

5.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法,其特征在于:所述步骤c烧成总用时为1h~10h,其中保温时间为10min~5h。

6.根据权利要求1所述的自挥发盐釉料的施釉方法,其特征在于:所述陶瓷坯体(2)通过注浆成型、手工捏制或雕刻工艺制成。

说明书 :

一种自挥发盐釉料的施釉方法

技术领域

[0001] 本发明涉及陶瓷生产技术领域,尤其涉及一种釉料及其施釉方法。

背景技术

[0002] 现有传统的陶瓷制品其制作工艺为,在粘土成型干燥后,在烧制前先施以一层透明釉或浅色釉,然后在1200~1300℃温度下烧成。由于釉在高温下粘度很低,容易流动,从而导致坯体表面的形状或雕刻图案因釉流动而受到破坏,尤其对于颜色丰富多彩的彩色陶瓷工艺品,难以保留陶瓷坯体表面的细节和装饰的精致度,缺乏立体感,视觉平淡呆板,从而在很大程度上影响了陶瓷工艺品的艺术价值。

发明内容

[0003] 本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种自挥发盐釉料的施釉方法,使得烧制过程中盐釉料可自行挥发而覆盖施釉且流动性低,从而获得立体感强、表面晶莹剔透、装饰效果极佳的陶瓷制品。
[0004] 本发明的目的通过以下技术方案予以实现:
[0005] 本发明提供的一种自挥发盐釉料的施釉方法,包括以下步骤:
[0006] a.制作陶瓷坯体;
[0007] b.将盐釉料装入容器,与陶瓷坯体一起摆放进窑炉;装有盐釉料的容器均匀分布在陶瓷坯体之间;
[0008] c.在1100~1300℃温度下烧成,盐釉料在烧制过程中自行挥发出蒸汽并覆盖在陶瓷坯体表面;
[0009] d.覆盖的盐釉经冷却后在陶瓷坯体表面形成透明釉层。
[0010] 本发明将盐釉料放置在容器中,与陶瓷坯体一起进窑炉烧制。在烧制过程中,盐釉料自行挥发形成盐釉蒸汽,并覆盖在陶瓷坯体表面经堆积冷却后形成釉层。本发明通过挥发覆盖施釉,流动性小,可最大程度地保留陶瓷制品表面的细节和装饰的精致度。
[0011] 本发明可采取如下进一步措施:所述盐釉料按照重量百分比其原料组成为:氯化钠20~100%、氯化钾0~80%、碳酸钠0~80%、碳酸钾0~80%。进一步地,为氯化钠20~80%、氯化钾20~80%、碳酸钠0~60%、碳酸钾0~60%。优选地,以氯化钠40~
60%、氯化钾20~40%、碳酸钠10~30%、碳酸钾10~30%为宜。
[0012] 在烧制过程中,所述容器可以为敞口容器,以便大范围释放盐釉蒸汽而覆盖陶瓷坯体。或者,所述容器上设置有导向孔,通过其导向作用向所需要的方位进行施釉。
[0013] 此外,可以根据需要与传统施釉方法相结合,所述步骤a中制作陶瓷坯体后,先对陶瓷坯体需要的部位施加普通釉料;所述步骤b中容器的导向孔对应陶瓷坯体需要施盐釉蒸汽的部位,盐釉料高温烧制时自行挥发出的蒸汽,通过容器导向孔覆盖在陶瓷坯体所需要的部位,从而实现局部施盐釉,以提高对关键部位或细节部位等的施釉效果,满足不同的制作需求。
[0014] 为获得更好的烧制效果,本发明所述步骤c烧成总用时为1h~10h,其中保温时间为10min~5h。
[0015] 本发明所述陶瓷坯体可通过传统陶瓷成型工艺,如注浆成型、手工捏制或雕刻工艺等方法制成。
[0016] 本发明具有以下有益效果:
[0017] (1)本发明通过盐釉料高温自行挥发出蒸汽而覆盖施釉,流动性小,可最大程度地保留陶瓷制品表面的细节和装饰的精致度,尤其对于颜色丰富多彩的彩色陶瓷工艺品,具有极佳的视觉效果且立体感强,大大提高了陶瓷工艺品的艺术价值。
[0018] (2)在制作过程中,可以免去传统工艺首先施釉的步骤,大大较低了生产成本,提高了生产效率。
[0019] (3)操作灵活方便,可以根据需要控制调节施釉的方位。而且,可以与传统施釉工艺相结合,对陶瓷坯体进行局部施盐釉,从而大大提高了适用性。

附图说明

[0020] 下面将结合实施例和附图对本发明作进一步的详细描述:
[0021] 图1是本发明实施例之一陶瓷坯体主视图;
[0022] 图2是图1的左视图;
[0023] 图3是本发明实施例之一装有盐釉料的容器的外观视图;
[0024] 图4是图3的剖视图;
[0025] 图5是本发明实施例之一陶瓷坯体与容器摆放位置示意图;
[0026] 图6是本发明实施例之一陶瓷制品的制作工艺原理框图;
[0027] 图7是本发明实施例之二装有盐釉料的容器的结构及工作原理示意图;
[0028] 图8是本发明实施例之二陶瓷坯体与容器摆放位置示意图;
[0029] 图9本发明实施例之二陶瓷制品的制作工艺原理框图。
[0030] 图中:盐釉料1,陶瓷坯体2,容器3,导向孔4

具体实施方式

[0031] 实施例一:
[0032] 图1~图6所示为本发明的实施例之一。本实施例用于制备彩色陶瓷工艺品,采用自挥发盐釉料,其施釉方法步骤如下:
[0033] a.制作陶瓷坯体2(见图1和图2),如采用注浆成型、手工捏制或雕刻工艺等传统方法制作陶瓷坯体;
[0034] b.如图3和图4所示,将盐釉料1装入容器3中,盐釉料1按照重量百分比其原料组成为氯化钠60%、氯化钾20%、碳酸钠10%、碳酸钾10%;容器3为敞口容器;将装有釉料1的容器3与陶瓷坯体2一起摆放进窑炉,并均匀分布在陶瓷坯体2之间(见图5);
[0035] c.在1100~1300℃温度下烧成,烧成总用时为5h,其中保温时间为2h;盐釉料1在烧制过程中自行挥发出蒸汽并覆盖在陶瓷坯体2表面;
[0036] d.覆盖的盐釉经冷却在陶瓷坯体2表面形成透明釉层。
[0037] 如图6所示,完成上述施釉烧制后,对烧成后的彩色陶瓷工艺品进行底部打磨处理,经检验后最终得到成品。成品表面平滑、晶莹剔透,可透过透明釉层看见色彩斑斓的陶瓷坯体,细节不被破坏,可最大程度地保留陶瓷坯体表面装饰的精致度,具有很强的立体感和极佳的视觉效果。
[0038] 实施例二:
[0039] 图7~图9所示为本发明的实施例之二。与实施例一不同之处在于:
[0040] 步骤a中,制作陶瓷坯体2后,先对陶瓷坯体2需要的部位施加普通釉料(见图9)。
[0041] 步骤b中,盐釉料1按照重量百分比其原料组成为氯化钠40%、氯化钾40%、碳酸钠10%、碳酸钾10%;所使用容器3的侧面具有导向孔4,如图7和图8所示,且导向孔4对应陶瓷坯体2需要施盐釉蒸汽的部位;盐釉料1烧制时自行挥发出的蒸汽,通过容器导向孔4覆盖在陶瓷坯体2所需要的部位,从而达到局部施盐釉的目的。
[0042] 步骤c中,烧成总用时为10h,其中保温时间为30min.。
[0043] 本实施例结合了传统的施釉方法,对陶瓷坯体的部分部位采用传统方法施普通釉,然后对关键部位或细节部位等则进行盐釉蒸汽覆盖施釉,从而满足了不同的制作需求,有效提高了陶瓷工艺品的制作效果和艺术价值。
[0044] 本发明一种自挥发盐釉料的施釉方法,盐釉料各组分的用量及工艺参数不局限于上述列举的实施例。