一种用于PMOS器件的金属栅功函数的调节方法

摘要

一种用于PMOS器件的金属栅功函数的调节方法，首先利用物理汽相淀积方法，在高K介质上面淀积一层金属氮化物膜或金属膜，作为金属栅电极，然后采用离子注入方法往金属栅电极中注入Al、Pt、Ru、Ga或Ir等元素，通过高温热退火将掺杂金属离子驱进到金属栅电极与高K栅介质的界面上形成堆积或者通过界面反应生成偶极子，达到调节金属栅有效功函数的目的。此方法具有普适性，工艺简单方便，调节金属栅功函数的能力强，与CMOS工艺兼容性很好。