提高7350光刻胶热稳定性的方法

摘要

本发明涉及一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，其包括如下步骤：a、第一次UV坚膜：将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜；坚膜起始温度为100℃~110℃；起始温度保持时间为80~90秒，然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃；b、第二次UV坚膜：将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜，坚膜起始温度为114℃~126℃，其实温度保持时间为44~50秒；然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至190℃~210℃。本发明第一次UV坚膜工艺，使7350光刻胶内大部分溶剂挥发，并通过第二次UV坚膜工艺，使7350光刻胶变硬，以满足7350光刻胶作为掩膜的要求，能够完成0.6μm金属条刻蚀的要求；与常规的坚膜设备兼容，不增加其它设备；工艺简单，实用性强；扩大了AMATP5000MXP的使用范围。

权利要求

1.一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，其特征是，所述方法包括如下步骤：（a）、第一次UV坚膜：将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜，所述7350光刻胶上刻蚀出相应的图案；坚膜起始温度为100℃~110℃；起始温度保持时间为80~90秒，然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃；

其中，在47~53秒时间内升温过程中，UV坚膜设备上UV灯开关次序是：全开5秒、关20秒、半开20秒、全开20秒、关20秒、半开20秒，全开30秒；上述时间和温度值均可以在5%范围内波动；

（b）、取片：将圆片移出坚膜设备，并使圆片的温度降至常温状态；

（c）、第二次UV坚膜：将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜，坚膜起始温度为

114℃~126℃，起始温度保持时间为44~50秒；然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及

7350光刻胶的温度升至190℃~210℃；

其中，在95~105秒时间内升温过程中，UV坚膜设备上UV灯开关次序是：全开7秒、关

20秒、半开20秒、全开20秒、关20秒、半开20秒，全开40秒；上述时间和温度值均可以在

5%范围内波动；

（d）、取片：将上述圆片移出坚膜设备。

2.根据权利要求1所述提高7350光刻胶热稳定性的方法，其特征是：将上述得到的圆片及位于圆片上的7350光刻胶放置于ECR金属腐蚀设备上，通过7350光刻胶的掩膜作用，刻蚀出圆片上的金属层。

说明书

提高7350光刻胶热稳定性的方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种提高热稳定性的方法，尤其是一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，具体地说利用7350光刻胶刻蚀0.5μm金属条的方法。

背景技术

[0002] 7350 光刻胶是正性光刻胶，主要由树脂、感光剂、及溶剂等不同的材料混合而成的。所述7350光刻胶的特点是分辨率高，但热稳定性差。在130℃以上温度烘烤时，7350光刻胶将软化并产生形变，所以无法作为金属腐蚀的掩膜在RIE（反应离子刻蚀）金属等离子设备刻蚀出0.5um的金属条；但是在RIE设备刻蚀0.5μm金属条必须采用7350光刻胶。为了增加7350光刻胶的热稳定性，通常需要对光刻胶坚膜，7350光刻胶使用UV坚膜，使光刻胶树脂发生交联形成一层薄的表面硬壳，增加光刻胶的热稳定性，耐温可提高到130℃，但仍不能作为掩膜在RIE设备腐蚀金属。

发明内容

[0003] 本发明的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，其能使7350光刻胶在RIE设备中作为掩膜刻蚀金属条，工艺步骤简单，实用性强。

[0004] 按照本发明提供的技术方案，一种提高7350光刻胶热稳定性的方法，所述方法包括如下步骤：

[0005] a、第一次UV坚膜：将带有7350光刻胶的圆片放置于坚膜设备内坚膜，所述7350光刻胶上刻蚀出相应的图案；坚膜起始温度为100℃~110℃；起始温度保持时间为80~90秒，然后在47~53秒时间内使坚膜设备内圆片及7350光刻胶的温度升至123℃~137℃；

[0006] 其中，在50秒时间内升温过程中，UV坚膜设备上UV灯开关次序是：全开5秒、关20秒、半开20秒、全开20秒、关20秒、半开20秒，全开30秒；上述时间和温度值均可以在
5%范围内波动；

[0007] b、取片：将圆片移出坚膜设备，并使圆片的温度降至常温状态；

[0008] c、第二次UV坚膜：将上述圆片再次放置于坚膜设备内坚膜，坚膜起始温度为114℃~126℃，其实温度保持时间为44~50秒；然后在95~105秒内使坚膜设备内圆片及
7350光刻胶的温度升至190℃~210℃；

[0009] 其中，在100秒时间内升温过程中，UV坚膜设备上UV灯开关次序是：全开7秒、关20秒、半开20秒、全开20秒、关20秒、半开20秒，全开40秒；上述时间和温度值均可以在
5%范围内波动；

[0010] d、取片：将上述圆片移出坚膜设备。

[0011] 将上述得到的圆片及位于圆片上的7350光刻胶放置于RIE金属腐蚀设备上，通过7350光刻胶的掩膜作用，刻蚀出圆片上的金属条。

[0012] 本发明的优点：通过第一次UV坚膜工艺，使7350光刻胶内大部分溶剂挥发，并通