一种高抗氧化性的高透节能门窗基材

摘要

一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，包括基板，其特征在于：所述基板的上表面由下而上依次设有一Bi2O3折射层、一CrNx阻挡层、一ZrO抗氧化层、一降辐射镀Ag层、一(CrNi)NxOy膜层、以及一SnO2保护层。本发明具有较高的透光率和较强的抗氧化性。

权利要求

1.一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，包括基板，其特征在于：所述基板的上表面由下而上依次设有一Bi2O3折射层、一CrNx阻挡层、一ZrO抗氧化层、一降辐射镀Ag层、一(CrNi)NxOy膜层、以及一SnO2保护层，所述Bi2O3折射层的厚度为15～25nm。

2.根据权利要求1所述的一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其特征在于：所述CrNx阻挡层的厚度为0.5～3nm。

3.根据权利要求2所述的一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其特征在于：所述ZrO抗氧化层的厚度为5～10nm。

4.根据权利要求3所述的一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其特征在于：所述降辐射镀Ag层的厚度为7～10nm。

5.根据权利要求4所述的一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其特征在于：所述(CrNi)NxOy膜层的厚度为0.5～5nm。

6.根据权利要求5所述的一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其特征在于：所述SnO2保护层的厚度为30～40nm。

说明书

一种高抗氧化性的高透节能门窗基材

技术领域：

[0001] 本发明涉及一种高抗氧化性的高透节能门窗基材。背景技术：

[0002] 现有的门窗基材，尤其是镀有功能膜层的透明门窗基材，其透光率较低，同时，其抗氧化性较差，造成基材无法长时间存放。故有必要对现有产品作出改进，以提高其透光率和抗氧化性。发明内容：

[0003] 本发明的目的在于提供一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，其具有较高的透光率和较强的抗氧化性。

[0004] 一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，包括基板，其特征在于：所述基板的上表面由下而上依次设有一Bi2O3折射层、一CrNx阻挡层、一ZrO抗氧化层、一降辐射镀Ag层、一(CrNi)NxOy膜层、以及一SnO2保护层。

[0005] 本发明可通过如下方案进行改进：

[0006] 上述所述Bi2O3折射层的厚度为15~25nm，具有高的折射率，其折射率可达2.3以上。

[0007] 上述所述CrNx阻挡层的厚度为0.5~3nm，防止降辐射镀Ag层被氧化。

[0008] 上述所述ZrO抗氧化层的厚度为5~10nm，具有强的耐腐蚀性能，抗氧化性强。

[0009] 上述所述降辐射镀Ag层的厚度为7~10nm，可大大降低红外辐射。

[0010] 上述所述(CrNi)NxOy膜层的厚度为0.5~5nm，可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

[0011] 上述所述SnO2保护层的厚度为30~40nm，耐腐蚀性好。

[0012] 本发明具有如下优点：采用高折射率的Bi2O3折射层，可大大提高透光率，其透光率可达86%，而CrNx阻挡层、ZrO抗氧化层及(CrNi)NxOy膜层的配合将降辐射镀Ag层夹在中间，阻挡外界对降辐射镀Ag层的腐蚀，提高其抗氧化性，与传统产品相比，可增加1年左右的存放时间。附图说明：

[0013] 图1为本发明结构剖视图。具体实施方式：

[0014] 如图1所示，一种高抗氧化性的高透节能门窗基材，包括基板1、由下而上依次设于基板1的上表面的一Bi2O3折射层2、一CrNx阻挡层3、一ZrO抗氧化层4、一降辐射镀Ag层5、一(CrNi)NxOy膜层6、以及一SnO2保护层7。

[0015] 所述基板1为玻璃或其他透明的高强度材料。

[0016] 所述Bi2O3折射层2的厚度为15~25nm，具有高的折射率，其折射率可达2.3以上。其采用磁控溅射镀膜工艺，用交流中频电源溅射Bi靶，用氩气及少量氧气作反应气体（氧气的量与功率成正比例关系），最终在基板表面形成Bi2O3折射层2。

[0017] 所述CrNx阻挡层3的厚度为0.5~3nm，防止降辐射镀Ag层被氧化。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射铬靶，用氮气作反应气体，最终在Bi2O3折射层表面形成CrNx阻挡层。

[0018] 所述ZrO抗氧化层4的厚度为5~10nm，具有强的耐腐蚀性能，抗氧化性强。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射Zr靶，采用氩气、氧气做反应气体，氩氧比为1：2，最终在CrNx阻挡层表面形成ZrO抗氧化层。

[0019] 所述降辐射镀Ag层5的厚度为7~10nm，可大大降低红外辐射。其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射银靶，最终在ZrO抗氧化层表面形成降辐射镀Ag层。

[0020] 所述(CrNi)NxOy膜层6的厚度为0.5~5nm，其采用磁控溅射镀膜工艺，用直流电源溅射镍铬靶，用氮气做反应气体，渗少量氧气，最终在降辐射镀Ag层表面形成(CrNi)NxOy膜层，可提高膜层耐磨性、提高透光率、提高钢化时抗高温氧化性。

[0021] 所述SnO2保护层7的厚度为30~40nm，用交流中频电源溅射锡靶，用氧气作反应气体，最终在(CrNi)NxOy膜层表面形成SnO2保护层，耐腐蚀性好。

[0022] 以上所述仅为本发明的较佳实施例，并非用来限定本发明实施的范围，凡依本发明专利范围所做的同等变化与修饰，皆落入本发明专利涵盖的范围。