一种光刻版结构

摘要

本发明提供了一种光刻版结构，包括：外框区域以及图案区域；其中，所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域；其中，所述图案区域用于布置集成电路图案；并且，所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片，而且，所述拨片能够在其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上滑动；而且，在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上放置了多个对准标记图案。每个拨片的多个对准标记图案中的至少一部分具有不同图案。本发明通过采用光刻版对准标记的新型结构设计，实现在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记图案，从而解决不同厂家光刻机在匹配时共用光刻版的标记冲突问题。

权利要求

1.一种光刻版结构，其特征在于包括：外框区域以及图案区域；

其中，所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域；

其中，所述图案区域用于布置集成电路图案；

并且，所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片，而且，所述拨片能够在其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上滑动；

而且，在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上放置了多个对准标记图案，每个拨片的多个对准标记图案中的至少一部分具有不同图案。

2.根据权利要求1所述的光刻版结构，其特征在于，每个拨片的多个对准标记图案各不相同。

3.根据权利要求1至2之一所述的光刻版结构，其特征在于，所述外框区域中还放置了条形码。

4.根据权利要求1至2之一所述的光刻版结构，其特征在于，所述外框区域的相对边上的拨片对称布置。

说明书

一种光刻版结构

技术领域

[0001] 本发明涉及半导体制造领域；具体地说，本发明涉及半导体光刻工艺；更具体地说，本发明涉及一种光刻版结构。

背景技术

[0002] 半导体光刻工艺是大规模集成电路生产中的重要工艺步骤，目前光学光刻依旧是主流技术，而光刻版像转移技术是半导体光刻工艺的核心技术之一。

[0003] 半导体领域有多家光刻机生产厂商，品牌各异，种类繁多，在光刻版对准标记的设计上，也各不相同，全行业没有统一的标准，这就给晶圆厂在使用、管理光刻版上带来了一定的问题。而晶圆厂针对不同的工艺要求，会使用不同的光刻机种类，光刻机的相互匹配必需要求使用同一块标准版，所以标准版上使用不同的对准标记是一大问题。

[0004] 图1示意性地示出了根据现有技术的光刻版结构。

[0005] 如图1所示，光刻版结构包括外框区域10以及图案区域20。外框区域用于放置条形码11或者对准标记12、13、14、15等一些辅助图形，而图案区域20则为集成电路图案。如上所述，传统的光刻版由于光刻机生产厂家的不同，在外框区域10放置不同的光刻版对准标记，对准标记的图形各异，对准标记的位置冲突，光刻机也就不能使用同一块光刻版。

发明内容

[0006] 本发明所要解决的技术问题是解决现有技术中存在的上述缺陷，通过采用光刻版对准标记的新型结构设计，实现在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记，从而解决不同厂家光刻机在匹配时共用版的标记冲突问题。

[0007] 为了实现上述技术目的，根据本发明，提供了一种光刻版结构，其包括：外框区域以及图案区域；

[0008] 其中，所述外框区域布置在所述图案区域外周从而包围所述图案区域；

[0009] 其中，所述图案区域用于布置集成电路图案；

[0010] 并且，所述外框区域的四个边分别布置了一个或者多个拨片，而且，所述拨片能够在其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上滑动；

[0011] 而且，在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域的边的延伸方向上放置了多个对准标记图案。

[0012] 优选地，每个拨片的多个对准标记图案中的至少一部分具有不同图案。

[0013] 优选地，每个拨片的多个对准标记图案各不相同。

[0014] 优选地，所述外框区域中还放置了条形码。

[0015] 优选地，所述外框区域的相对边上的拨片对称布置。

[0016] 由此，本发明通过采用光刻版对准标记的新型结构设计，实现在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记图案，从而解决不同厂家光刻机在匹配时共用光刻版的标记冲突问题。

附图说明

[0017] 结合附图，并通过参考下面的详细描述，将会更容易地对本发明有更完整的理解并且更容易地理解其伴随的优点和特征，其中：

[0018] 图1示意性地示出了根据现有技术的光刻版结构。

[0019] 图2示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构。

[0020] 图3示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构所采用的滑移拨片的具体结构。

[0021] 需要说明的是，附图用于说明本发明，而非限制本发明。注意，表示结构的附图可能并非按比例绘制。并且，附图中，相同或者类似的元件标有相同或者类似的标号。

具体实施方式

[0022] 为了使本发明的内容更加清楚和易懂，下面结合具体实施例和附图对本发明的内容进行详细描述。

[0023] 图2示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构。

[0024] 具体地说，如图2所示，根据本发明优选实施例的光刻版结构包括：外框区域10以及图案区域20。

[0025] 其中，所述外框区域10布置在所述图案区域20外周从而包围所述图案区域20。

[0026] 其中，所述图案区域20用于布置集成电路图案。

[0027] 所述外框区域10的四个边分别布置了一个或者多个拨片。而且，所述拨片能够在其所布置的所述外框区域10的边的延伸方向上滑动。其中，拨片在各自外框区域边上滑动的具体结构和方式可以采用现有技术中任意适当方式，由此出于简洁和突出重点的目的，在此不再赘述。

[0028] 例如，如图2所示，在所述外框区域10的四个边依次布置了两个第一拨片31、一个第二拨片32、两个第三拨片34和一个第四拨片33。

[0029] 而且，两个第一拨片31以及两个第三拨片34可以在图2所示的水平方向滑动，第二拨片32和第四拨片33可以在图2所示的竖直方向滑动。

[0030] 优选地，所述外框区域10中还放置了条形码11。

[0031] 图3示意性地示出了根据本发明优选实施例的光刻版结构所采用的滑移拨片的具体结构。

[0032] 更具体地说，如图3所示，在每个拨片中在沿其所布置的所述外框区域10的边的延伸方向上放置了多个对准标记图案41。

[0033] 并且，每个拨片的多个对准标记图案41中的至少一部分具有不同图案。优选地，每个拨片的多个对准标记图案41各不相同。

[0034] 优选地，在具体实施例中，所述外框区域10的相对边上的拨片对称布置，即，所述外框区域10的相对边上的拨片的数量相同，结构相同，且在各自边的布置位置相对应。

[0035] 这样，本发明上述实施例对光刻版外框区域进行结构重新设计，在原标记位置处，采用滑移拨片的方式，增加一个拨片结构，在拨片上形成不同种类光刻机所需求的对准标记图案；当这块光刻版需要在不同的光刻机上使用时，将拨片移动，切换到该光刻机所需求的标记，从而解决同一块光刻版可以在不同类型的光刻机上使用，实现光刻机匹配中的光刻版互容。

[0036] 由此，本发明上述优选实施例通过采用光刻版对准标记的新型结构设计，实现在同一块光刻版上同一位置可以切换不同光刻机所需要的对准标记图案，从而解决不同厂家光刻机在匹配时共用光刻版的标记冲突问题。

[0037] 此外，需要说明的是，除非特别说明或者指出，否则说明书中的术语“第一”、“第二”、“第三”等描述仅仅用于区分说明书中的各个组件、元素、步骤等，而不是用于表示各个组件、元素、步骤之间的逻辑关系或者顺序关系等。

[0038] 可以理解的是，虽然本发明已以较佳实施例披露如上，然而上述实施例并非用以限定本发明。对于任何熟悉本领域的技术人员而言，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案作出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。