低金属光泽可视性的触控面板的制作方法以及其产品

摘要

一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，包含一道在基板上形成具有预定线路图案的透明导电线路的透明导电线路形成工序、一道用光可透射的绝缘材料在该基板上对应于该透明导电线路形成绝缘层体的绝缘工序，以及一道选择性地用金属和合金作材料形成多层连接该透明导电线路的导电层体而构成桥接线路的桥接线路形成工序，特别的是该桥接线路形成工序在镀膜形成该导电层体的其中至少一层时，是同时通入一种作用气体使得所形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和合金的原始反射率，进而让该桥接线路的金属光泽降低而令使用人无法视觉察知该桥接线路的存在。

权利要求

1.一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，包含：一道透明导电线路形成工序、一道绝缘工序，以及一道桥接线路形成工序；该透明导电线路形成工序是在一片光可透射的基板上用光可透射且阻抗低的导电材料，形成一层具有预定线路图案的透明导电线路；

而该绝缘工序是用光可透射的绝缘材料在该基板上对应于该透明导电线路，形成一层覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路的预定区域的绝缘层体；其特征在于：该桥接线路形成工序是选用金属和/或合金材料，自该绝缘层体依序镀膜形成三层连接该透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体，而使所述的导电层体构成一层与该透明导电线路电连接的桥接线路，且在镀膜形成所述导电层体的其中至少一层导电层体时，同时通入一种含有氧气的作用气体使得所形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和/或合金的原始反射率。

2.如权利要求1所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，其特征在于：该桥接线路形成工序是依序选用钼铌合金、铝、钼铌合金作材料溅射形成三层导电层体而构成该桥接线路，且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入还含有氩气的该作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于钼铌合金的原始反射率。

3.如权利要求1所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，其特征在于：该桥接线路形成工序是依序选用钼、铝、钼作材料溅射形成三层导电层体而构成该桥接线路，且用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入还含有氩气的该作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于钼的原始反射率。

4.如权利要求2或3所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，其特征在于：该桥接线路形成工序在形成该导电层体时，通入氧气和氩气作为该作用气体，氧气和氩气的比例是5％～50％：95％～50％。

5.如权利要求4所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，其特征在于：该桥接线路形成工序中，用铝作材料溅射形成的导电层体的厚度大于用钼、钼铌合金其中任一种作为材料构成的导电层体的厚度。

6.如权利要求5所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，其特征在于：还包含一道保护工序，用光可透射且硬度高的透明材料在该透明导电线路、绝缘层体和桥接线路上形成一层用于隔绝并保护该透明导电线路、绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。

7.一种低金属光泽可视性的触控面板，包含：一片光可透射的基板、一层透明导电线路、一层绝缘层体，以及一层桥接线路；该透明导电线路是用光可透射且阻抗低的导电材料形成在该基板上；而该绝缘层体是用光可透射的绝缘材料对应于该透明导电线路形成在该基板上，并覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路的预定区域；

其特征在于：该桥接线路包括三层分别用金属和合金其中一种作材料、自该绝缘层体依序镀膜形成而连接该透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体，且所述导电层体的其中至少一层导电层体在镀膜形成时，通入一含有氧气的作用气体而使得形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和/或合金的原始反射率。

8.如权利要求7所述的低金属光泽可视性的触控面板，其特征在于：该桥接线路包括三层依序选用钼铌合金、铝、钼铌合金作材料溅射形成的导电层体，且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入还含有氩气的该作用气体，使得形成的导电层体的反射率小于钼铌合金的原始反射率。

9.如权利要求7所述的低金属光泽可视性的触控面板，其特征在于：该桥接线路包括三层依序选用钼、铝、钼作材料溅射形成的导电层体，且用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入还含有氩气的该作用气体，使得形成的导电层体的反射率小于钼的原始反射率。

10.如权利要求8或9所述的低金属光泽可视性的触控面板，其特征在于：通入氧气和氩气作为该作用气体时，氧气和氩气的比例是5％～50％：95％～50％。

11.如权利要求10所述的低金属光泽可视性的触控面板，其特征在于：用铝作材料溅射形成的导电层体的厚度大于用钼、钼铌合金其中任一种作为材料构成的导电层体的厚度。

12.如权利要求11所述的低金属光泽可视性的触控面板，其特征在于：还包含一层用光可透射且硬度高的透明材料形成在该透明导电线路、绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。

说明书

低金属光泽可视性的触控面板的制作方法以及其产品

技术领域

[0001] 本发明涉及一种触控面板的制作方法以及其产品，特别是涉及一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法以及其产品。

背景技术

[0002] 参阅图1，触控面板1连结于用于显示影像的显示面板(图未示出)上，包含一片光可透射的玻璃基板11、一层形成在该玻璃基板11上的透明导电线路12、一层形成在该玻璃基板11上而覆盖该玻璃基板11未形成有该透明导电线路12的区域以及该透明导电线路12预定区域的绝缘层体13、一层用金属及/或合金构成而电连接该透明导电线路12未被该绝缘层体13覆盖的区域的桥接线路14，以及一层形成在该透明导电线路12、绝缘层体13和桥接线路14上用于隔绝并保护所述的结构的透明保护层体15，令使用人可以在看到显示面板所显现的影像的同时，通过例如手指或触控笔等施加压力于该触控面板1而传输电信号，进而完成例如资料传输、程序使用等事项。

[0003] 上述该触控面板1的制作过程，是先在该玻璃基板11上用例如铟锡氧化物(ITO)等光可透射且阻抗低的透明导电材料，形成具有预定线路图案的透明导电线路12后，再用例如光阻等光可透射的绝缘材料在该玻璃基板11上对应于该透明导电线路12，形成覆盖该玻璃基板11未形成有该透明导电线路12的区域以及该透明导电线路12预定区域的绝缘层体13，接着，用例如铝、铜等阻值低而利于电传导的金属及/或合金镀膜，形成与该透明导电线路12电连接的桥接线路14，最后，在形成的该透明导电线路12、绝缘层体13和桥接线路14镀覆上用于隔绝外界且硬度高的透明保护层体15后，即完成该触控面板1的制作。

[0004] 因为该桥接线路14用于电连接该透明导电线路12，不但需要低阻抗且需同时配合该透明导电线路12，如此在操作该触控面板1时才能正确传输预定的电信号，进而完成例如资料传输、程序使用等事项，也因此，需使用例如铝、铜等阻值低而利于电传导的金属及/或合金材料，同时在镀膜形成该桥接线路14时，需要在通入氩气的真空环境中进行溅射，避免混入杂质而导致所形成的桥接线路14阻值增加，影响该触控面板1的电性表现。

[0005] 但是，上述的触控面板1也因为该桥接线路14是需要用例如铝、铜等阻值低而利于电传导的金属及/或合金作为材料，并在通入氩气的真空环境中进行溅射，所以具备构成的金属材料或合金材料的金属光泽，因此，在使用时会出现高金属光泽可视性而影响使用人观看影像的问题。对此，目前的改善方案是重新设计该透明导电线路12和该桥接线路14的线路布局(layout)，借由改变线宽、线路间距、甚或是方式而令使用人在使用时不易察觉该桥接线路14的金属光泽，或是再增设一层遮光层，但这些方案不但会增加工序成本，也具有过多先天物理光学上的限制而不易实现，所以关于该触控面板1桥接线路14的高金属光泽可视性高而影响使用人观看影像的问题，仍需要加以研究改善。

发明内容

[0006] 本发明的目的在于提供一种不影响使用人观看影像的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法。

[0007] 此外，本发明的另一目的在于提供一种不影响使用人观看影像的低金属光泽可视性的触控面板。

[0008] 本发明一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，包含：一道透明导电线路形成工序、一道绝缘工序，以及一道桥接线路形成工序。

[0009] 该透明导电线路形成工序是在一片光可透射的基板上用光可透射且阻抗低的导电材料，形成一层具有预定线路图案的透明导电线路。

[0010] 该绝缘工序是用光可透射的绝缘材料在该基板上对应于该透明导电线路，形成一层覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路预定区域的绝缘层体。

[0011] 该桥接线路形成工序是选择性地用金属和合金材料，自该绝缘层体依序镀膜形成多层连接该透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体，而使所述的导电层体构成一层与该透明导电线路电连接的桥接线路，且所述的导电层体其中至少一层在镀膜时同时通入一种作用气体，使得所形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和合金的原始反射率。

[0012] 本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的目的以及解决其技术问题，还可采用以下技术措施进一步实现。

[0013] 较佳地，该桥接线路形成工序是依序选用钼铌合金、铝、钼铌合金作材料溅射形成三层导电层体而构成该桥接线路，且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入氧气和氩气作为该作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于该钼铌合金的原始反射率。

[0014] 较佳地，该桥接线路形成工序是依序选用钼、铝、钼作为材料，溅射形成三层导电层体而构成该桥接线路，且用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入氧气和氩气作为该作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于该钼的原始反射率。

[0015] 较佳地，该桥接线路形成工序通入氧气和氩气作为该作用气体形成该导电层体时，氧气和氩气的比例是5％～50％：95％～50％。

[0016] 较佳地，该桥接线路形成工序中，用铝作材料溅射形成的该导电层体的厚度大于用钼、钼铌合金其中任一种材料构成的该导电层体的厚度。

[0017] 较佳地，所述的低金属光泽可视性的触控面板的制作方法还包含一道保护工序，用光可透射且硬度高的透明材料在该透明导电线路、绝缘层体和桥接线路上形成一层用于隔绝并保护该透明导电线路、绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。

[0018] 此外，本发明一种低金属光泽可视性的触控面板，包含一片光可透射的基板、一层透明导电线路、一层绝缘层体，以及一层桥接线路。

[0019] 该透明导电线路形成在该基板上并选自光可透射且阻抗低的导电材料。

[0020] 该绝缘层体选自光可透射的绝缘材料且对应于该透明导电线路形成在该基板上，并覆盖该基板未形成有该透明导电线路的区域以及该透明导电线路预定区域。

[0021] 该桥接线路包括多层分别用金属和合金其中一种作为材料、自该绝缘层体依序镀膜形成并连接该透明导电线路未被该绝缘层体覆盖的区域的导电层体，且所述的导电层体其中至少一层在镀膜形成时通入一作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于采用的金属和合金的原始反射率。

[0022] 本发明低金属光泽可视性的触控面板的目的以及解决其技术问题，还可采用以下技术措施进一步实现。

[0023] 较佳地，该桥接线路包括三层依序选用钼铌合金、铝、钼铌合金作材料溅射形成的导电层体，且用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入氧气和氩气作为该作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于钼铌合金的原始反射率。

[0024] 较佳地，该桥接线路包括三层依序选用钼、铝、钼作材料溅射形成的导电层体，且用钼作材料溅射形成其中一层导电层体时，是同时通入氧气和氩气作为该作用气体，而使得形成的该导电层体的反射率小于钼的原始反射率。

[0025] 较佳地，通入氧气和氩气作为该作用气体时，氧气和氩气的比例是5％～50％：95％～50％。

[0026] 较佳地，用铝作材料溅射形成的该导电层体的厚度，大于用钼铌合金、钼其中任一种作材料构成的该导电层体的厚度。

[0027] 较佳地，所述的低金属光泽可视性的触控面板还包含一层用光可透射且硬度高的透明材料，形成在该透明导电线路、绝缘层体和桥接线路的透明保护层体。

[0028] 本发明的有益效果在于：在镀膜形成该桥接线路时，同时通入该作用气体使得形成的该导电层体的反射率小于原镀膜形成材料，进而使该桥接线路的金属光泽可视性降低，而令使用人在观看影像时不因该桥接线路的存在而受到影响。

附图说明

[0029] 图1是说明现有的触控面板的示意图；

[0030] 图2是说明本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的一较佳实施例的流程图；

[0031] 图3是说明一由图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳实施例所制作的低金属光泽可视性的触控面板的示意图；

[0032] 图4是说明实施图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳实施例的一透明导电线路形成工序所制得的工序产品的示意图；

[0033] 图5是说明实施图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳实施例的一绝缘工序所制得的工序产品的示意图；

[0034] 图6是说明实施图2所示本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的较佳实施例的一桥接线路形成工序所制得的工序产品的示意图；

[0035] 图7是说明GOG结构的现有触控面板的桥接线路，和本发明制作的低金属光泽可视性的触控面板的桥接线路的反射率测量结果；

[0036] 图8是说明GOG结构的现有触控面板的桥接线路的可视性的显微镜光学照片；

[0037] 图9是说明本发明制作的低金属光泽可视性的触控面板的桥接线路的可视性的显微镜光学照片；

[0038] 图10是说明OGS结构的现有触控面板的桥接线路，和本发明制作的低金属光泽可视性的触控面板的桥接线路的反射率测量结果；

[0039] 图11是说明OGS结构的现有触控面板的桥接线路的可视性的显微镜光学照片；

[0040] 图12是说明本发明制作的低金属光泽可视性的触控面板的桥接线路的可视性的显微镜光学照片。

具体实施方式

[0041] 下面结合附图及实施例对本发明进行详细说明：

[0042] 参阅图2、3，本发明低金属光泽可视性的触控面板的制作方法的一个较佳实施例，包含一道透明导电线路形成工序21、一道绝缘工序22、一道桥接线路形成工序23，以及一道保护工序24，而制作出如图3所示并可与显示面板(图未示出)连结设置的触控面板3，而配合由显示面板提供影像并经由压触该触控面板3传输电信号，完成例如资料传输、指令下达、程序应用等事项。

[0043] 先参阅图3，该触控面板3包含一片光可透射的玻璃基板31、一层透明导电线路32、一层绝缘体层33、一层桥接线路34，以及一层透明保护层体35。

[0044] 该透明导电线路32选自光可透射且阻抗低的导电材料，例如铟锡氧化物(ITO)，形成在该玻璃基板31上并具有预定的线路图案。

[0045] 该绝缘层体33选自光可透射的绝缘材料，例如光阻，对应于该透明导电线路32形成在该基板31上，并覆盖该基板31未形成有该透明导电线路32的区域以及该透明导电线路32预定区域。

[0046] 该桥接线路34包括三层分别用钼铌合金、铝、钼铌合金作材料、自该绝缘层体33依序镀膜形成的导电层体341，而所述的导电层体341分别连接该透明导电线路32未被该绝缘层体33覆盖的区域，且所述的导电层体341中，用铝作材料溅射形成的该导电层体341的厚度大于用钼铌合金作材料构成的导电层体341的厚度；用钼铌合金作材料溅射形成其中一层导电层体341时，同时通入一作用气体，使得形成的该导电层体341的反射率小于采用的钼铌合金的原始反射率，关于这部分的技术细节请容后于说明本发明较佳实施例时再详述。

[0047] 该透明保护层体35选自光可透射且硬度高的透明材料，例如光阻、氧化硅(SiO2)等，形成在该透明导电线路32、绝缘层体33和桥接线路34上用于隔绝并保护所述的结构。

[0048] 该触控面板3与显示面板连结设置时，可配合由该显示面板提供影像并经由手指等触摸该触控面板3使电容产生变化，进而传输电信号，完成例如资料传输、指令下达、程序应用等事项。特别的是，由于会直接影响使用人观看影像的该桥接线路34的其中一层导电层体341，是用钼铌合金作材料并在溅射形成时通入该作用气体，而使得反射率小于钼铌合金的原始反射率，所以其金属光泽可视性极低，而令使用人在观看影像时确实不会受到该桥接线路34存在的影响，而彻底解决目前触控面板1因为该桥接线路14的高金属光泽可视性，而影响使用人观看影像的问题。

[0049] 参阅图2、4，在实施制作上述低金属光泽可视性的该触控面板3时，是先实施该透明导电线路形成工序21，在光可透射的该玻璃基板31上形成具有预定线路图案的该透明导电线路32，该透明导电线路32选用光可透射且阻抗低的导电材料(例如铟锡氧化物)。

[0050] 参阅图2、5，接着进行该绝缘工序22，选用光可透射的绝缘材料，例如光阻在该玻璃基板31上对应于该透明导电线路32，形成覆盖该玻璃基板31未形成有该透明导电线路32的区域以及该透明导电线路32预定区域的该绝缘层体33。

[0051] 参阅图2、6，再来进行该桥接线路形成工序23，选择性地用金属和合金作材料，自该绝缘层体33依序镀膜，形成多层连接该透明导电线路32未被该绝缘层体33覆盖的区域的导电层体341，而所述的导电层体341构成与该透明导电线路32电连接的该桥接线路34，且在镀膜形成所述的导电层体341其中至少一层时，是同时通入该作用气体，而使得形成的该导电层体341的反射率小于采用的金属和合金的原始反射率。

[0052] 详细地说，该桥接线路形成工序23是先采用钼铌合金作材料溅射厚度极薄的第一层导电层体341，并在溅射的同时通入氧气和氩气作为该作用气体，其中氧气和氩气的比例是5％～50％：95％～50％，而使得形成的该第一层导电层体341的组成是钼铌合金氧化物(MoNbOX)，进而降低该第一层导电层体341的反射率；再用铝作材料并在通入氩气的高真空环境下，溅射形成厚度较厚而作为主要电导通结构的第二层导电层体341；最后，同样采用钼铌合金作材料并在通入氩气的高真空环境下，溅射形成厚度极薄的第三层导电层体341，而构成该桥接线路34；借由三层厚度、组成、反射率均不同的导电层体341，特别是直接被使用人观看到的该第一层导电层体341是由反射率低而金属光泽可视性差的钼铌合金氧化物构成，会造成薄膜干涉现象，进而在使用人观看影像时不被视觉察知而影响使用人。

[0053] 另外，虽然钼铌合金氧化物的阻抗较钼铌合金高，但因为该层钼铌合金氧化物导电层体341，主要是利用其接触阻抗(contact resistance)，且该桥接线路34主要是用厚度较厚且阻抗低的铝导电层体341作为电导通的结构，所以并不影响整体电路的动作。

[0054] 参阅图2、3，最后进行该保护工序24，选用光可透射且硬度高的透明材料，在该透明导电线路32、绝缘层体33和桥接线路34上形成用于隔绝并保护该透明导电线路32、绝缘层体33和桥接线路34的透明保护层体35，即完成本发明低金属光泽可视性的该触控面板3。

[0055] 另外要补充说明的是，该桥接线路形成工序23中，还可以用钼作材料并配合通入该作用气体，溅射形成该导电层体341，通入的该作用气体是比例为5％～50％：95％～50％的氧气和氩气，所形成的该导电层体341的组成是钼的氧化物(MoOX)，且反射率小于钼的原始反射率，进而使该桥接线路34借由三层厚度、组成、反射率均不同的导电层体341，而呈现低金属光泽可视性，进而在使用人观看影像时不被视觉察知而影响使用人。

[0056] 参阅图7，目前GOG结构(Glass to Glass，即业界通称touch sensor glass及cover glass 2片玻璃对贴工序所制成的触控面板结构)的触控面板的桥接线路(由钼铌合金、铝、钼铌合金为导电层体所构成)由Cary-300(美商VARIAN Cary-300 UV/VIS，紫外光可见光光谱仪)测量得到的反射率约为54.77％；而由上述本发明制作方法的较佳实施例所制作的低金属光泽可视性的该触控面板的桥接线路(由钼铌合金、铝、钼铌合金氧化物为导电层体所构成)，由相同Cary-300机台测量得到的反射率最低可达31.46％，降幅达到42.6％左右；再参阅图8、9，实际对二种触控面板进行光学拍照，可以看出目前GOG结构触控面板的桥接线路会反光而发亮，而本发明制作的低金属光泽可视性的该触控面板的桥接线路，在相同的灯源强度下不反光而仅呈现不明显轮廓，因此虽然目前GOG结构触控面板的桥接线路的CD（特征尺寸）值约6.3μm，较本发明制作的该桥接线路的CD值约11μm来得细，但却明显影响观看，因此验证本发明确实具有低金属光泽可视性而不被使用人观看查知。

[0057] 参阅图10，目前OGS结构(One Glass Solution，即单片touch sensor glass结构)的触控面板的桥接线路(由钼铌合金、铝、钼铌合金为导电层体所构成)由Cary-300测量得到的反射率约为43.16％；而用上述本发明制作方法的较佳实施例所制作的该触控面板(桥接线路由钼铌合金氧化物、铝、钼铌合金为导电层体所构成)，由相同Cary-300机台测量得到的反射率最低可达9.63％，降幅达到80％左右；再参阅图11、12，实际对二种触控面板进行光学拍照比较，可以看出本发明制作的该触控面板，在相同的灯源强度下该桥接线路不但不明显且亮度也较暗，验证本发明确实具有低金属光泽可视性而不被使用人观看察知。

[0058] 综上所述，本发明提出一种低金属光泽可视性的触控面板的制作方法，主要是在用金属或合金作材料镀膜制作多层导电层体构成该桥接线路时，同时通入该作用气体而使得形成的导电层体的组成材料的反射率降低而小于采用的金属或合金的原始反射率，借此让多层导电层体构成的桥接线路，借由不同厚度、组成、反射率的导电层体而造成薄膜干涉现象，而直接被使用人观看到的导电层体具有低金属光泽可视性，进而不影响使用人观看到的影像；相较于目前的改善方法，本发明无需增加新工序而使生产成本增加，也无需设计透明导电线路和桥接线路的线路图案布局，即可降低该桥接线路的可视性，确实达成本发明的目的。

[0059] 惟以上所述的内容，仅为本发明的较佳实施例而已，应当不能以此限定本发明实施的范围，即凡依本发明申请专利范围及发明说明内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍属本发明专利涵盖的范围内。