以0.84nm水合高岭石经两步液相置换法制备的丝氨酸/高岭石插层物及制备方法转让专利
申请号 : CN201310200685.X
文献号 : CN103274424B
文献日 : 2014-12-17
发明人 : 杜丕一 , 郑婉 , 周璟 , 马宁 , 韩高荣 , 翁文剑 , 赵高凌 , 沈鸽 , 宋晨路 , 程逵 , 徐刚 , 张溪文
摘要 :
本发明公开了一种以0.84nm水合高岭石经两步液相置换法制备的丝氨酸/高岭石插层物及制备方法,该方法为:水合高岭石与乙二醇混合并搅拌反应得到乙二醇/高岭石插层复合物,再取乙二醇/高岭石插层复合物与丝氨酸溶液混合反应得到丝氨酸/高岭石插层复合物。高岭石层间距扩大至d001=1.13nm,插层率可达到35%~75%,丝氨酸在高岭石层间以平行于高岭石片层方式呈单层排列,其羧基与高岭石的内表面羟基形成氢键,氨基与高岭石硅氧层的氧原子形成氢键。本发明制备工艺简单,可批量生产,得到的丝氨酸/高岭石插层复合物可稳定长时间存在。