一种金属内表面改性的装置和方法转让专利

申请号 : CN201310278344.4

文献号 : CN103320772B

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发明人 : 张贵锋侯晓多邓德伟

申请人 : 大连理工大学

摘要 :

一种金属内表面改性的装置和方法,属于等离子体表面改性技术领域。其特征是利用空心阴极放电的原理在内表面产生等离子体,实现渗氮或沉积类金刚石薄膜,以提高金属内表面硬度,耐磨性和耐蚀性。被处理件为阴极,内设阴极,调整工件与阴极之间的距离和真空度达到放电条件,阳极设置在阴极空腔四周,阴阳极之间加入直流脉冲电源。渗氮时,反应气体为氮气或氨气,载气为氩气;沉积硬碳薄膜时,反应气体为甲烷或乙炔,载气为氩气。本发明的效果和益处是具有工艺简单,成本低,效率高的特点,特别适合处理金属内表面和大长径比的管件。

权利要求 :

1.一种金属内表面改性的装置,是利用空心阴极效应在空腔内产生高密度的等离子体,来实现金属内表面的改性,既能实现化学渗,也能沉积硬碳膜,提高金属内表面的硬度、耐磨性和耐蚀性物理化学性能,其特征在于被处理件为阴极,根据被处理件表面形状,增加与阴极材料相同、轮廓相似的阴极,形成双阴极;反应气体由阴极均匀引入到阴极与阴极之间的空腔内,反应之后的残余气体需由阴极内表面边缘四周由机械泵抽出;阴极与阴极间距d和真空室反应压力P之间满足P·d=0.5-10Torr·cm关系,钼制阳极位于空腔边缘四周,阴极与阳极间距为双阴极间距的2-5倍;通入反应气体,阴阳极之间加入直流脉冲偏压,控制被处理件的温度,进行化学渗或薄膜沉积。

2.一种金属内表面改性的方法,利用权利要求1所述的一种金属内表面改性的装置,其特征在于:-3

a)首先,抽真空使反应室达到本底真空~10 Torr,通入氩气至0.05Torr对被处理件进行表面清洗和活化预处理5-20min,之后按比例通入反应气体;氮气或氨气和氩气混合-2气体中,氮气或氨气比例为20~80%,调节真空度在5×10 ~5Torr之间,阴阳极间加入脉冲电压0~10kV或电流0~5A,在空心阴极等离子体的作用下,被处理件被自然加热到

400~700℃之间,渗氮时间为0.5~4h;

b)沉积硬碳膜时,将反应气体改为乙炔或甲烷和氩气混合气体,乙炔或甲烷比例为-2

5~40%,通水冷却保证工件温度在50~300℃之间;调节真空度在5×10 ~5Torr之间,阴阳极间加入脉冲电压0~10kV或电流0~5A,硬碳膜沉积时间0.5~4h。

说明书 :

一种金属内表面改性的装置和方法

技术领域

[0001] 本发明属于等离子体表面改性技术领域,涉及到表面化学渗和硬碳膜的沉积,特别涉及到对金属内表面实现化学渗或薄膜沉积的方法,以提高金属内表面的硬度、耐磨性和耐蚀性等物理化学性能。

背景技术

[0002] 内表面为工作面的工件门类众多,如发动机的缸筒、运输管道、离子加速管、炮筒、内孔模具和轴套等,这些工件经常因内壁磨损、腐蚀等形式遭到破坏,为了提高工件内壁的硬度、耐磨耐和腐蚀性,进而提高其工作效率和寿命,在其内壁化学渗或沉积薄膜是非常必要的技术手段。但是目前关于内壁表面改性的相关报道不多,与内表面服役部件的大量需求相比技术贮备严重短缺,因此发展内壁表面改性技术具有及其紧迫的现实意义。管内表面可以不仅仅局限在管状工件的内表面,而是可以推广到复杂工件上凹陷面、孔和内腔。所以管内表面处理研究具有极大的应用潜力。
[0003] 目前主要采用的方法有电镀、激光强化处理、物理气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、离子注入等。电镀和化学镀是管筒件内表面处理的优选方法,其特点是改性效果好,可以对内径非常小的管件进行处理,最小可达几个毫米。但是电镀和化学镀对环境造成严重的污染,涂层的耐磨性较低,附着性差。
[0004] 利用光纤传导激光,从而使管内表面激光淬火不受管长的限制,可以实现细长管的内表面激光相变强化,但是激光只能应用于一些特殊的场合;采用等离子体离子注入时,如果被处理的管筒内径太细,由于鞘层交叉,管内等离子体电位与施加电位差值就会减小,结果注入效应可能会大大降低,甚至根本不可能产生注入效应。为此有研究者提出内电极法,即在管筒内放置一个接地电极。但由于多数采用外部离子源,等离子体靠外部产生,随后扩散进入圆筒内部,这样必然造成管体内部等离子体密度不均匀,也就造成了注入剂量的轴向不均匀,并且在处理细长管时,这种现象较为明显。总的来说,内电极法提高了注入能量,未对注入剂量的不均匀性给出解决办法。

发明内容

[0005] 本发明提供一种金属内表面改性的装置和方法,是利用空心阴极效应,即内孔阴极辉光区重叠,在重叠区内辉光电流急剧增大,在金属内表面产生高密度的等离子体,实现化学渗或沉积硬质薄膜,解决金属内表面改性,提高内表面硬度、耐磨性和耐蚀性的目的。
[0006] 本发明的技术方案是:金属内表面改性的装置是利用空心阴极效应在空腔内产生等离子体,来实现等离子渗或等离子体化学气相沉积。被处理件为阴极,根据被处理件表面形状,增加与阴极材料相同、轮廓相似的阴极,形成双阴极。反应气体由阴极均匀引入到阴极与阴极之间的空腔内,反应之后的残余气体需由阴极内表面边缘四周由机械泵抽出。阴极与阴极间距d和真空室反应压力P之间满足P·d=0.5~10Torr·cm关系,钼制阳极位于空腔边缘四周,阴极与阳极间距为双阴极间距的2~5倍。
[0007] 金属内表面改性的方法是通入反应气体,阴阳极之间加入直流脉冲偏压,控制被处理件的温度,进行化学渗或薄膜沉积。在空心阴极等离子体的作用下,被处理件被加热到400~700°C之间,通入氮气或氨气与氩气的混合气体,对管件内表面渗氮;沉积硬碳薄膜时,被处理工件与水冷铜电极接触,使被处理工件的温度控制在50~300°C之间,通入乙炔或甲烷与氩气的混合气体,加脉冲电压在管件内表面沉积硬碳薄膜。
[0008] 本发明的效果和益处是:可以处理大长径比的管件和各种复杂形状的内表面;既能实现化学渗,包括单元素渗和多元共渗,也能进行薄膜沉积,如沉积硬碳膜等;表面改性效率高。

附图说明

[0009] 附图1是管件内表面改性装置示意图。
[0010] 附图2是内表面沉积硬碳膜的装置示意图。
[0011] 图中:1电源;2被处理管件;3阴极送气口;4阴极;5阳极;6绝缘陶瓷管;7抽气口;8真空测量;9密封垫圈;10石英管;11密封法兰。

具体实施方式

[0012] 以下结合技术方案和附图详细叙述本发明的具体实施方式。
[0013] 本发明具体实施方式是,首先,抽真空使反应室达到本底真空~10-3Torr,通入氩气至0.05Torr对被处理件进行表面清洗和活化预处理5-20min,之后按比例通入反应气-2体。氮气或氨气和氩气混合气体中,氮气或氨气比例为20~80%,调节真空度在5×10 ~
5Torr之间,阴阳极间加入脉冲电压0~10kV或电流0~5A,在空心阴极等离子体的作用下,被处理件被自然加热到400~700°C之间,渗氮时间为0.5~4h。
[0014] 沉积硬碳膜时,将反应气体改为乙炔或甲烷和氩气混合气体,乙炔或甲烷比例为-25~40%,通水冷却保证工件温度在50~300°C之间。调节真空度在5×10 ~5Torr之间,阴阳极间加入脉冲电压0~10kV或电流0~5A,硬碳膜沉积时间0.5~4h。
[0015] 实施例1:
[0016] 如图1所示,调整阴极间距为5mm,阴阳极间距20mm,抽真空至10-3Torr,通入氩气至0.05Torr,加入直流脉冲电压2kV,等离子体清洗样品10min。通入40%氮气,调整真空室的压力为3Torr,加入直流脉冲电源,放电电流维持在0.3A,衬底温度约500°C,反应时间为2h。
[0017] 实施例2:
[0018] 如图2所示,调整阴极间距为10mm,阴阳极间距40mm,抽真空至10-3Torr,通入氩气至0.05Torr,对衬底架通水冷却,衬底温度不超过300°C。加入直流脉冲电压2kV,等离子体清洗样品10min。通入20%乙炔气体,调整真空室的压力为0.5Torr,加入直流脉冲电源,放电电流维持在0.2A,反应时间为2h。