两维位移调节机构

摘要

一种两维位移调节机构，由磁铁提供回复力，提供两维平移调节，单层实现两维平移调节，稳定性好，结构紧凑。

权利要求

1.两维位移调节机构，特征在于其构成包括底座、平台、丝杆、导向柱、磁铁和导轨；所述的底座和平台为非导磁材料制成；

所述的底座的两邻边设有较高的边框条和一个比该边框条较低的开放式的方形区域，在该方形区域的中心偏左下方设有第一内孔，该第一内孔嵌有第一磁铁，所述的两边框条上均设有自外向内的通向所述的方形区域的同轴的螺孔和通孔，该通孔的孔径小于所述螺孔的口径，该螺孔供所述的丝杆啮合，所述的导向柱和所述的导轨通过螺钉呈“T”形连接在一起，所述的导向柱置于所述的通孔中；

所述的平台为四方形，该平台的下方的中心偏右上方区域具有供第二磁铁嵌设的第二内孔,所述的平台中的第二磁铁与所述的底座的第一磁铁异极性相对并且位置相错，所述的平台的两相邻侧面均设有内凹的“┑”形导向面，所述的平台置于所述的底座的方形区域，该平台的下表面与所述的底座方形区域的上表面形成滑移面，所述的平台的“┑”形导向面与所述的导轨的导轨面相向相靠，所述的丝杆位于所述的螺孔中，借助所述的丝杆在所述的螺孔中旋动推动所述的导向柱在通孔中运动和所述的第一磁铁、第二磁铁中心之间偏差的恢复力，驱动所述的平台在所述的底座上滑动形成所述的平台的一维位置移动。

说明书

两维位移调节机构

技术领域

[0001] 本发明涉及两维位移调节机构，特别涉及一种由磁力提供回复力，在单层实现两维平移调节的机构，其稳定性好，结构紧凑。

背景技术

[0002] 在各种运动机构中，两维位移调节机构通常分为两层分别实现其中一维调节，各有导轨提供导向，由弹簧提供回复力；这种结构导轨复杂，而弹簧刚度小，导致机构的稳定性差。

发明内容

[0003] 本发明提供一种两维位移调节机构，目的在于简化导轨，避免弹簧刚度小的缺点，该装置具有结构简单，稳定好的特点。

[0004] 本发明的技术解决方案如下：

[0005] 一种两维位移调节机构，特点在于其构成包括底座、平台、丝杆、导向柱、磁铁和导轨；所述的底座和平台为非导磁材料制成；

[0006] 所述的底座的两邻边设有较高的边框条和一个较低的开放式的方形区域，在该方形区域的中心偏左下方设有第一内孔，该第一内孔嵌有第一磁铁，所述的两边框条上均设有自外向内的通向所述的方形区域的同轴的螺孔和通孔，该通孔的孔径小于所述螺孔的小径，该螺孔供所述的丝杆啮合，所述的导向柱和所述的导轨通过螺钉呈“T”形连接在一起，所述的导向柱置于所述的通孔中；

[0007] 所述的平台为四方形，该平台的下方的中心偏右上方区域具有供第二磁铁嵌设的第二内孔，所述的平台中的第二磁铁与所述的底座的第一磁铁异极性相对并且位置相错，所述的平台的两相邻侧面均设有内凹的“┑”形导向面，所述的平台置于所述的底座的方形区域，该平台的下表面与所述的底座方形区域的上表面形成滑移面，所述的平台的“┑”形导向面与所述的导轨的导轨面相向相靠，所述的丝杆位于所述的螺孔中，借助所述的丝杆在所述的螺孔中旋动推动所述的导向柱在通孔中运动和所述的第一磁铁、第二磁铁中心之间偏差的恢复力，驱动所述的平台在所述的底座上滑动形成所述的平台的一维位置移动。

[0008] 本发明的两维位移调节机构由磁铁提供回复力，磁铁吸力使平台与底座接触刚性好，稳定性高，在一个平面内实现两维平移调节，并且驱动与导轨形式简单。

附图说明

[0009] 图1为本发明两维位移调节机构的立体图；

[0010] 图2为图1的a-a剖开的剖视图；

[0011] 图3为平台2的立体图；

[0012] 图4为导向柱4和导轨6连接时的立体图；

[0013] 图5为底座1立体图；

具体实施方式

[0014] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明，但不应依次限制本发明的保护范围。

[0015] 请参阅图1、图2，由图可见，本发明两维位移调节机构，包括底座1、平台2、丝杆3、导向柱4、磁铁5和导轨6；所述的底座1和平台2为非导磁材料制成；

[0016] 所述的底座1的两邻边设有较高的边框条和一个较低的开放式的方形区域，在该方形区域的中心偏左下方设有第一内孔16，该第一内孔16嵌有第一磁铁5，所述的两边框条上均设有自外向内的通向所述的方形区域的同轴的螺孔15和通孔14，该通孔14的孔径小于所述螺孔15的小径，该螺孔15供所述的丝杆3啮合，所述的导向柱4和所述的导轨6通过螺钉7呈“T”形连接在一起，所述的导向柱4置于所述的通孔14中；

[0017] 所述的平台2为四方形，该平台2的下方的中心偏右上方区域具有供第二磁铁5嵌设的第二内孔10，所述的平台2中的第二磁铁5与所述的底座1的第一磁铁5异极性相对并且位置相错，所述的平台2的两相邻侧面均设有内凹的“┑”形导向面8，所述的平台2置于所述的底座1的方形区域，该平台2的下表面17与所述的底座1方形区域的上表面18形成滑移面，所述的平台2的“┑”形导向面8与所述的导轨6的导轨面13相向相靠，所述的丝杆3位于所述的螺孔15中，借助所述的丝杆3在所述的螺孔15中旋动推动所述的导向柱4在通孔14中运动和所述的第一磁铁5、第二磁铁5中心之间偏差的恢复力，驱动所述的平台2在所述的底座1上滑动形成所述的平台2的一维位置移动。由于置于底座1与平台2的两个磁铁5的位置相错的布置形成的磁铁吸力使平台2始终靠近导轨6，并且两个磁铁5异性相吸，使平台2紧靠底座1，保证了平台2的稳定。