模具、模具的制造方法、以及纳米压印膜的制造方法

摘要

本发明提供树脂材料不会堵塞于模具的凹凸而能制作纳米压印膜的模具、该模具的制造方法、以及使用该模具的纳米压印膜的制造方法。本发明的模具是具有形成有纳米结构的第一表面和实质上不具有上述纳米结构的第二表面的模具，上述纳米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部，上述第一表面与上述第二表面处于同一平面上且位于两个第二表面之间。

权利要求

1.一种纳米压印膜的制造方法，上述纳米压印膜具有相邻的凸部的顶点间的宽度小于

1μm的多个凸部，

上述纳米压印膜的制造方法的特征在于，该制造方法具有：

在基材膜上形成硬涂层的工序；

涂敷工序，在该硬涂层上涂敷转印用树脂组合物；以及转印工序，在该涂敷工序后，将模具按压到转印用树脂组合物，并且使该转印用树脂组合物固化，该模具具有：第一表面，其形成有包含相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部的纳米结构；以及第二表面，其实质上不具有该纳米结构，该第一表面与该第二表面处于同一平面上且位于两个第二表面之间，在该涂敷工序中，以将未涂敷转印用树脂组合物、硬涂层露出的区域形成于硬涂层的端部的方式涂敷转印用树脂组合物，在该转印工序中，将模具的第一表面按压在涂敷有转印用树脂组合物的区域，将模具的第二表面按压在硬涂层露出的区域。

2.根据权利要求1所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述硬涂层在上述转印工序中按压模具时比上述转印用树脂组合物柔软，且在固化后比该转印用树脂组合物的固化物硬。

3.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述相邻的凸部的顶点间的宽度小于380nm。

4.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述模具为圆筒形，

每个上述凹部的高宽比小于3。

5.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，使用上述模具的转印速度为1m/min以上、100m/min以下。

6.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述模具是在基础构件上包覆有构成上述第一表面的构件和构成上述第二表面的构件而构成的。

7.根据权利要求6所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，在上述基础构件与构成上述第一表面的构件之间、以及在上述基础构件与构成上述第二表面的构件之间配置有绝缘膜。

8.根据权利要求6所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，构成上述第一表面的构件的材质是氧化铝，构成上述第二表面的构件的材质是铝。

9.根据权利要求6所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述基础构件的材质是镍或者不锈钢。

10.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，在上述第一表面形成有微米结构，上述微米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度为

20μm以上的多个凹部。

11.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述模具具有贯通内部的导电棒，该导电棒的侧面由绝缘膜覆盖，

该导电棒的至少一方末端部露出到外部，该导电棒在该模具内部与构成该第一表面的构件电连接。

12.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述模具在外周面上具有电极，上述电极与构成上述第一表面的构件电连接。

13.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述纳米压印膜的制造方法使用在形成第二表面的位置进行掩蔽处理而制作的模具。

14.根据权利要求13所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述掩蔽处理是聚酰亚胺胶带的贴附。

15.根据权利要求1或2所述的纳米压印膜的制造方法，其特征在于，上述纳米压印膜的制造方法使用通过多次重复如下工序而制作的模具：对未处理模具的表面进行阳极氧化的工序；以及对进行了该阳极氧化的表面进行蚀刻处理的工序。

说明书

模具、模具的制造方法、以及纳米压印膜的制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及模具、模具的制造方法、以及纳米压印膜的制造方法。更详细地，涉及适合用于制造具有纳米尺寸的凹凸的纳米压印膜的模具、上述模具的制造方法、以及上述纳米压印膜的制造方法。

背景技术

[0002] 将被刻入纳米尺寸（0.001～1μm）的凹凸（以下也称为纳米结构。）的模具按压到涂敷于基板上的树脂材料而转印形状的技术、所谓的纳米压印技术近年来被关注，正在进行以向光学材料、IC的微细化、临床检查基板等的应用为目标的研究。

[0003] 在以往的基于光刻技术的纳米尺寸的微细加工中，为了消除由在通过掩模曝光时产生的衍射现象导致的分辨率不足，曝光波长的短波长化、伴随于此引起的装置的复杂化、成本上升等成为问题。根据纳米压印技术，能利用压花简单地形成纳米尺寸的图案，所以能解决这些问题，而且，有能廉价地大量制作需要纳米尺寸的微细结构的光学部件的可能性而被关注。作为凹凸不是纳米尺寸的一般的压花，已知在表面连续地形成有咬花的产品和用于制作上述产品的咬花辊（例如，参照专利文献1。）。

[0004] 作为纳米压印技术的方式，已知有热纳米压印技术、紫外线（UV）纳米压印技术等。例如，UV纳米压印技术是：在基板上涂敷紫外线固化性树脂而形成薄膜，在该薄膜上按压具有纳米结构的模具，然后照射紫外线，由此形成薄膜（以下也称为纳米压印膜。），上述薄膜形成有纳米结构的反转形状。在研究阶段使用这些方式的情况下，一般使用平板状的模具利用批量处理制作纳米压印片。

[0005] 为了利用纳米压印技术大量便宜地制造纳米压印片，使用辊对辊处理比批量处理更合适。这是因为：根据辊对辊处理，能在模具辊的外周面配置纳米结构，能以长时间连续地制造纳米压印片。

[0006] 在此，对使用纳米结构体的光学材料的例子进行描述。在光学 材料中，作为纳米结构体的一种而已知“蛾眼（蛾子的眼睛）结构”。蛾眼结构形成多个顶点彼此的间隔相对于可见光充分小的尺寸的突起。作为使用蛾眼结构的光学元件，可列举例如在透明基板的表面上形成蛾眼结构的元件。当形成这样的蛾眼结构时，突起的大小相对于可见光线的波长的长度的比率充分小，所以看上去入射到透明基板的表面的可见光线由于突起其折射率从空气层到透明基板连续地变化，透明基板的表面看上去不再是折射率不连续的界面。其结果是，能使在透明基板的表面产生的反射光急剧减少。

[0007] 在这样的具有纳米结构体的光学材料的制造技术领域中，已知将利用阳极氧化法在表面形成纳米尺寸的孔的铝基板用作模具的方法。根据该方法，能在微观上不规则地（随机地）、在宏观上大致均匀地在表面形成纳米结构体。即，如果将该方法应用于转印辊的制作，能在圆柱状或者圆筒状的模具辊的表面形成连续生产所需的没有接缝的纳米结构体。此外，关于阳极氧化法，并不涉及纳米压印技术，而已知如下技术：在阳极氧化时根据需要将铝层的一部分掩蔽，然后，将进行了阳极氧化的部位除去（例如，参照专利文献2。）。

[0008] 现有技术文献

[0009] 专利文献

[0010] 专利文献1：特开昭61－44607号公报

[0011] 专利文献2：特开2007－270213号公报

发明内容

[0012] 发明要解决的问题

[0013] 本发明人着眼于以蛾眼膜为代表的纳米压印膜的表面的铅笔硬度和耐擦伤性。图20是用纳米压印膜的树脂硬度和铅笔硬度以及耐擦伤性的关系将纳米压印膜分类的示意图。纳米压印膜111通常形成于基材膜112上。纳米压印膜111是纳米尺寸的突起排列的结构物，因此当施加用铅笔描绘、用钢丝棉擦拭等机械刺激时，应力集中于各个突起。其中，当使转印用树脂自身变硬时，相对于向铅笔 113按压方向的压力的耐性、即铅笔硬度提高，但是在用钢丝棉施加摩擦时突起物的顶端折断等而变脆，因此钢丝棉耐性变得不充分。另一方面，在设为使转印用树脂柔软，即使发生摩擦也灵活地复原的构成的情况下，表面变得易滑，因此钢丝棉耐性提高，但是另一方面，在施加向铅笔113按压方向的压力时，发生突起物的变形，且不复原，在变形状态的情况下被固定。

[0014] 作为针对这样的问题的解决方法，可列举在基材膜与纳米压印膜之间进一步设置硬涂层的方法。在基材膜上设置硬涂层作为下层，设置转印用树脂层作为上层，如果调节这些层的硬度的平衡，则硬涂层能表现硬度，转印用树脂层能表现灵活性，所以能得到铅笔硬度和耐擦伤性两者优良的特性。

[0015] 另外，即使在TAC（Tri Acetyl Cellulose：三乙酰纤维素）膜等基材膜与纳米压印膜之间的粘合性的方面，设置硬涂层的方法也是有效的。例如，在使用辊对辊法在TAC膜上直接形成纳米压印膜的情况下，难以确保纳米压印膜与TAC膜之间的粘合力。在成为衬底的基材膜和转印用树脂层的接触面积宽广的情况下，可得到某种程度的粘合性，但是在接触面积小的情况下，粘合性降低。

[0016] 对此，考虑到如下方法：例如，在将硬涂层树脂涂敷到基材膜上时，使用溶剂溶解基材膜，产生从基材膜溶出的成分和溶剂相互混合的区域，使基材膜和硬涂层的接触面积增大，而且在将转印用树脂涂敷到硬涂层上时，使硬涂层不完全固化，使具有硬涂层树脂和转印用树脂部分地相互混合的区域，由此使硬涂层和转印用树脂层的接触面积增大，提高粘合力。

[0017] 但是，本发明人进行研究的结果发现：在使用硬涂层的情况下，发生如下新的问题。图21是示出相对于将基材膜、硬涂层以及转印用树脂层层叠的膜的表面，使表面具有纳米尺寸的凹凸的模具旋转而对转印用树脂赋予纳米结构的情况的示意图。

[0018] 图21中的右侧的长箭头表示膜的滑动方向，隔着模具，上侧的区域是未转印区域，下侧的区域是已转印区域。模具124具有圆筒结构，并具有能旋转的机构。如图21所示，在向层叠有基材膜122、 硬涂层123以及转印用树脂层121的膜转印的转印工序的情况下，在制造工序上，每次层叠都需要涂布余量。即，硬涂层123的宽度需要小于基材膜122的宽度，转印用树脂层121的宽度需要小于硬涂层123的宽度。

[0019] 但是，在利用这样的方法制作纳米压印膜的情况下，存在硬涂层123出现在最表面的部位，因此硬涂层树脂容易导致模具124的堵塞。硬涂层树脂是硬的树脂，脱模性差，因此有时由于硬涂层树脂堵塞于模具124而变得不能动，或者由于与其它构件的应力平衡的混乱，膜会断裂。

[0020] 另外，在实际的制造阶段，使用长的膜长时间地使装置连续运转来进行转印作业，所以由于转印过程中的膜的伸缩、基于外在原因的膜的蜿蜒等，转印用树脂堵塞于模具的凹凸的部位与转印区域接触，妨碍纳米压印膜的凹凸的适当形成。

[0021] 而且，在为辊状的模具将硬涂层卷起的形式的情况下，在转印工序中硬涂层的表面被摩擦而飘浮在空中的粉尘（白色硬点（white hard spots））附着于模具的表面，这成为原因，在转印树脂的表面产生凹入缺陷是显而易见的。图22～图25是示出在使用辊状的模具的情况下产生凹入缺陷的过程的示意图。

[0022] 如图22所示，首先，模具134与硬涂层接触，由此粉尘135在空气中飞舞。并且，如图23所示，在空气中飞扬的粉尘135附着于模具的表面。这样，如图24所示，在所转印的膜面中与附着有粉尘135的部分重叠的位置，形成有粉尘的痕迹（凹入缺陷）136。另外，如图25所示，上述凹入缺陷136在进行进一步的转圈后，呈现出更大的缺陷。

[0023] 图26～图28是示出引起凹入缺陷的位置的照片图，均表示转圈后的相同场所。图26表示第1圈，凹入缺陷的大小为102×100μm。凹入缺陷136的深度为约5μm。图27表示第2圈，凹入缺陷136的大小与第1圈相同。图28表示第45圈，凹入缺陷的大小为
190×114μm。也想到如下：成为凹入缺陷的原因的粉尘附着于转印膜侧，由此在第2圈以后的转印中不会产生凹入缺陷，但是反之，以在第1圈所形 成的凹入缺陷为核心，凹入缺陷每当转圈时变大。认为这是由于：在重复转印中，转印用树脂附着于硬涂层树脂的粉尘而生长。由此，即使没有膜的收缩、蜿蜒等的设计偏差，只要重复硬涂层和模具的接触，就会产生如上所述的问题是显而易见的。

[0024] 而且，本发明人进行深入研究的结果是发现如下：即使在不设置硬涂层而使基材膜和转印用树脂层直接贴合的情况下，也在与基材膜和转印用树脂的边界接触的区域，引起由转印用树脂层的端部暴露于空气中导致的固化阻止（氧阻止），因此，同样地，未固化的转印用树脂容易堵塞于模具。

[0025] 本发明是鉴于上述现状而完成的，目的在于提供树脂材料不会堵塞于模具的凹凸而能制作纳米压印膜的模具、上述模具的制造方法、以及使用上述模具的纳米压印膜的制造方法。

[0026] 用于解决问题的方案

[0027] 本发明人进行用于解决上述问题的种种研究的结果是，着眼于制作在与硬涂层接触的区域不形成纳米结构的模具的方法。如果这是可能的，则硬涂层树脂不会堵塞于模具的凹凸，不会使硬涂层树脂的粉尘卷起，因此不会发生转印不良的问题。

[0028] 本发明人进行深入研究的结果是发现如下：对模具的整个外周面中与硬涂层直接接触的两末端部或者位于从两末端部稍微靠内侧的部位进行掩蔽处理，然后进入制作纳米结构的工序，由此能在进行了掩蔽处理的区域形成实质上不具有纳米尺寸的凹凸的平坦面，并且发现如下：能充分确保将未进行掩蔽处理的区域设为用于形成纳米结构所需的区域，想到能良好地解决上述问题，从而完成本发明。

[0029] 即，本发明是具有形成有纳米结构的第一表面和实质上不具有上述纳米结构的第二表面的模具，上述纳米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部，上述第一表面与上述第二表面处于同一平面上，且上述第一表面位于两个第二表面之间。

[0030] 相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部，上述制造方法是包含如下工序的模具的制造方法：在形成上述第二表面的位置进行掩蔽处理。

[0031] 而且，本发明是具有相邻的凸部的顶点间的宽度小于1μm的多个凸部的纳米压印膜的制造方法，上述制造方法具有：在基材膜上形成硬涂层的工序；涂敷工序，在该硬涂层上涂敷转印用树脂组合物；以及转印工序，在上述涂敷工序后，将模具按压到转印用树脂组合物，并且使上述转印用树脂组合物固化，该模具具有：第一表面，其形成有包含相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部的纳米结构；以及第二表面，其实质上不具有该纳米结构，该第一表面与该第二表面处于同一平面上且位于两个第二表面之间，在该涂敷工序中，以将未涂敷转印用树脂组合物、硬涂层露出的区域形成于硬涂层的端部的方式涂敷转印用树脂组合物，在该转印工序中，将模具的第一表面按压在涂敷有转印用树脂组合物的区域，将模具的第二表面按压在硬涂层露出的区域。

[0032] 首先，以下对本发明的模具的特征和本发明的模具的优选方式进行详述。

[0033] 本发明的模具具有形成了纳米结构的第一表面和实质上不具有上述纳米结构的第二表面，上述纳米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部。通过将上述第一表面用作转印区域，能得到具有如下表面的结构体：上述表面具有纳米尺寸的凹凸。另外，通过在模具的凹凸发生堵塞的可能性高的部位形成上述第二表面，能使制造工序有效，且设为可靠性高的工序。

[0034] 上述第一表面与上述第二表面处于同一平面上，且上述第一表面位于两个第二表面之间。第一表面处于被第二表面夹着的位置，由此作为主要目的的纳米结构的形成容易确保宽广的面积。在本说明书中，所谓同一平面上是指：在通常的模具、优选纳米压印膜的制造用模具中，被评价为实质上是同一平面的程度，即，能评价为模具的截面中的第一表面和第二表面实质上处于相同直线上。

[0035] 作为本发明的模具，只要必须形成这样的构成要素，并不由其它构成要素特别限定。上述模具只要是能进行凹凸形状向树脂组合物的转印即可，不必包含金属材料。上述模具可以为平板形，也可以为圆筒形，通过使用圆筒形，能采用如下所谓的辊对辊法：相对于从辊拉出的膜，使模具旋转而连续地转印凹凸形状，所以在纳米压印膜的生产率方面优良。

[0036] 优选上述模具是在基础构件上包覆有构成上述第一表面的构 件和构成上述第二表面的构件而构成的。为了设置纳米结构的凹凸，需要高精细的技术，另外，即使是将设置纳米结构的凹凸的场所和不设置的场所区分形成的方法，也需要高精细的技术。因此，如果允许模具的基础构件和构成模具的表面的构件分开，就容易得到有效的且高性能的模具。

[0037] 优选在上述基础构件与构成上述第一表面的构件之间、以及在上述基础构件与构成上述第二表面的构件之间配置有绝缘膜。当考虑作为模具的刚性和加工容易性时，作为基础构件的材质优选金属等导电性物质，由于同样的理由，构成第一表面的构件和构成第二表面的构件的材质也优选金属等导电性物质。但是，在其包含不同的材质的情况下，在进行阳极氧化、蚀刻等用于得到纳米结构的加工时，例如，有可能在不同的金属界面发生腐蚀（电偶腐蚀）。因此，在得到更高性能的模具的观点上，优选在构成基础的构件与构成表面的构件之间预先形成保护用的绝缘膜。

[0038] 优选构成上述第一表面的构件的材质是氧化铝，构成上述第二表面的构件的材质是铝。为了形成精密的纳米结构，作为有效的方法，如后所述，可列举铝的阳极氧化和蚀刻的重复工序，这样制作的方式的一例是本方式，在形成纳米压印膜上非常优良。

[0039] 优选上述基础构件的材质是镍或者不锈钢。镍和不锈钢的加工容易，也大大有助于成本的降低，因此作为构成基础构件的材质优选。

[0040] 优选在上述第一表面形成有微米结构，上述微米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度为20μm以上的多个凹部。更优选地，上述相邻的凹部的底点间的宽度为60μm以下。根据形成的纳米结构体的使用用途，有时要求进行形成不仅具有纳米结构还具有微米尺寸的凹凸的表面的防眩（AG：Anti Glare）处理。具体地，在形成构成显示面板的表面的纳米压印膜的情况下，如果预先一并形成微米结构，就能使在显示面板的表面反射的光散射，能得到使图像的映入模糊的效果。在该情况下，在模具的相同平面上不仅预先形成纳米结构，也形成微米结构，由此能得到制造效率高的模具。

[0041] 优选上述模具具有贯通内部的导电棒，上述导电棒的侧面由绝缘膜覆盖，上述导电棒的至少一方末端部露出到外部，上述导电棒在上述模具内部与构成上述第一表面的构件电连接。由此，能从外部通过模具的内部（导电棒）针对构成第一表面的构件取导通路径，所以能不使作为模具的重要部分的表面设计复杂化地完成。

[0042] 优选上述模具在外周面上具有电极，上述电极与构成上述第一表面的构件电连接。由此，能通过模具的表面从外部针对构成第一表面的构件取导通路径，所以能不使模具的内部设计复杂化地完成。

[0043] 接着，以下对本发明的模具的制造方法的特征和本发明的模具的制造方法的优选方式进行详述。

[0044] 本发明的模具的制造方法是具有形成有纳米结构的第一表面和实质上不具有上述纳米结构的第二表面的模具的制造方法，适合用于制作上述本发明的模具，上述纳米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度小于1μm的多个凹部。

[0045] 上述制造方法包含在形成上述第二表面的位置进行掩蔽处理的工序。作为针对模具的表面设置纳米结构的方法，考虑到例如使被处理体浸渍于试药的化学处理，但是为了简化制造工序，优选用同一工序形成具有纳米结构的第一表面和实质上不具有纳米结构的第二表面，因此在实质上不具有纳米结构的区域实施掩蔽处理。作为掩蔽处理的优选的方法，可列举相对于试药具有耐性的胶带的贴附、掩蔽用的制剂的涂敷等，其中优选聚酰亚胺胶带的贴附。聚酰亚胺（注册商标）胶带是针对聚酰亚胺膜涂敷硅系列粘接材料而形成的粘接胶带，结果是，从成本和操作面的方面来看是有效的。

[0046] 作为本发明的模具的制造方法，只要必须包含这样的工序，并不由其它工序特别限定。上述模具只要能进行凹凸形状向树脂组合物的转印即可，未必包含金属材料。上述模具既可以是平板形也可以是圆筒形，但是通过使用圆筒形，能采用所谓的辊对辊法：针对从辊拉出的膜，使模具旋转而连续地转印凹凸形状，所以在纳米压印膜的生产率方面优良。

[0047] 优选上述制造方法还包含多次重复如下工序的工序：对未处理模具的表面进行阳极氧化的工序；以及对进行了上述阳极氧化的表面进行蚀刻处理的工序。另外，在该情况下，优选构成上述模具材料的表面的构件是铝。例如，在模具材料的表面包含铝的情况下，能利用阳极氧化和蚀刻，并利用多孔氧化铝现象形成多个纳米尺寸（更具体地，底点间的宽度为380nm以下）的微细的孔。

[0048] 优选上述模具具有贯通内部的导电棒，上述导电棒的侧面由绝缘膜覆盖，上述导电棒的至少一方末端部露出到外部，上述导电棒在上述模具内部与构成上述第一表面的构件电连接。由此，能从外部通过模具的内部（导电棒）针对构成第一表面的构件取导通路径，所以能使作为模具的重要部分的表面设计不复杂化地完成。

[0049] 优选上述模具在外周面上具有电极，上述电极与构成上述第一表面的构件电连接。由此，能通过模具的表面从外部针对构成第一表面的构件取导通路径，所以能不使模具的内部设计复杂化地完成。

[0050] 接着，以下对本发明的纳米压印膜的制造方法的特征和本发明的纳米压印膜的制造方法的优选方式进行详述。

[0051] 本发明的纳米压印膜的制造方法是具有相邻的凸部的顶点间的宽度小于1μm的多个凸部的纳米压印膜的制造方法，上述制造方法具有：涂敷工序，在基材膜上涂敷树脂组合物；以及转印工序，在上述涂敷工序后，将模具按压到树脂组合物，并且使上述树脂组合物固化。本制法是通过使模具与作为目标物的转印用的树脂组合物重合，将模具的表面形状转印到树脂组合物而得到纳米结构体的手法，紧接着进行固化工序，由此完成纳米压印膜。作为树脂组合物，可列举以光固化性树脂组合物、电子束固化性树脂组合物等为代表的活性能量线固化性树脂组合物、热固化性树脂组合物等，但是考虑到在常温下进行且容易进行，优选是活性能量线固化性树脂组合物。另外，在作为树脂组合物使用光固化性树脂的情况下，优选根据需要预先添加光聚合引发剂或者光敏剂。

[0052] 上述模具是上述本发明的模具、或者利用上述本发明的模具的 制造方法制作的模具。通过使用这些模具，能大大降低发生如下的可能性：由于设于转印用的树脂组合物与基材膜之间的硬涂层的树脂、或者存在于树脂组合物和基材的边界部分的未固化的树脂堵塞于模具，由于粉尘附着于模具的表面导致的转印不良等，能得到高性能的纳米压印膜。

[0053] 作为本发明的纳米压印膜的制造方法，只要必须包含这样的工序，并不由其它工序特别限定。

[0054] 优选上述硬涂层在上述转印工序中按压模具时比上述转印用树脂组合物柔软，且在固化后比该转印用树脂组合物的固化物硬。优选上述相邻的凸部的顶点间的宽度小于380nm。通过设计成凸部的顶点间的宽度比可见光波长小，从而可见光成分的大部分会透射纳米压印膜，所以能用作优良的防光反射膜（蛾眼膜），例如，通过将这样的膜作为构成显示装置的最前面的构件来应用，能得到进行由外界光反射导致的周围（例如，室内的荧光灯）的映入少的良好显示的显示装置。

[0055] 上述相邻的凸部的顶点间的宽度更优选为300nm以下，进一步优选为作为可见光波长的约1/2的200nm以下。当凸部的顶点间的宽度超过400nm时，有时在蓝色的波长成分中偏色，但是通过将宽度设为300nm以下，可充分抑制该影响，通过将宽度设为200nm以下，几乎完全不受影响。

[0056] 优选上述模具为圆筒形，每个上述凹部的高宽比小于3。当高宽比为3以上时，蛾眼膜的转印容易引起不良。这是因为：摩擦力与脱模的容易度有关，当压力集中于凸部的角的部分时，固化的树脂容易折断，成为堵塞的原因。高宽比越大则摩擦力越大，因此更难以脱模。蛾眼膜的转印速度通常为1m/min以上、100m/min以下，在该条件的情况下，在形成图案后压力会急剧释放，被转印的膜的顶端容易折断。脱模的容易度也与转印时的温度条件和树脂材料的玻璃化转变温度有关，但是在例如高宽比为4以上的图案中，压力缓慢地被释放，且如果在树脂固化后不缓慢地冷却，则不能得到高精细的图案。认为以上述范围的转印速度进行转印的情况下的模具的温度是50℃程度，当也考虑紫外线照射的条件时，认为在图案被转印的场所局部地施加大量的热。并且，可得出的结论是：当考虑 压力继续施加直至模具剥离时，优选每个凹部的高宽比小于3。

[0057] 优选上述模具为圆筒形，使用上述模具的转印速度为1m/min以上、100m/min以下。更优选为10m/min以上、50m/min以下的范围。随着成为高速的连续转印，在形成图案后压力会急剧地释放，所以当过于提高转印速度时，更容易引起堵塞。另一方面，当转印速度过慢时，担心生产量的降低。

[0058] 发明效果

[0059] 根据本发明的模具，能不会引起树脂向模具的凹凸的堵塞、且不会发生树脂的粉尘地制作纳米压印膜。另外，根据本发明的模具的制造方法，能有效地制作本发明的模具。而且，根据本发明的纳米压印膜的制造方法，能制作没有转印不良、凹入缺陷的可靠性高的纳米压印膜。

附图说明

[0060] 图1是实施方式1的模具的立体示意图。

[0061] 图2是示出制作套筒型的模具的各阶段的示意图。

[0062] 图3是示出制作套筒型的模具的各阶段的示意图。

[0063] 图4是示出制作套筒型的模具的各阶段的示意图。

[0064] 图5是示出制作套筒型的模具的各阶段的示意图。

[0065] 图6是实施例1的阳极氧化工序和蚀刻工序时的镍套筒的截面示意图。

[0066] 图7是实施例1的模具的表面SEM照片，左侧的放大图示出形成有纳米结构的区域，右侧的放大图示出未形成纳米结构的区域。

[0067] 图8是示出制作管型的模具的各阶段的示意图。

[0068] 图9是示出制作管型的模具的各阶段的示意图。

[0069] 图10是示出制作管型的模具的各阶段的示意图。

[0070] 图11是示出制作管型的模具的各阶段的示意图。

[0071] 图12是实施例2的阳极氧化工序和蚀刻工序时的铝管的截面示意图。

[0072] 图13是示出相对于将基材膜、硬涂层以及转印用树脂层层叠的 膜的表面，使表面具有纳米级的突起物的模具旋转而对蛾眼膜转印用的树脂赋予蛾眼结构的情况的示意图。

[0073] 图14是示出相对于将基材膜和转印用树脂层层叠的膜的表面，使表面具有纳米级的突起物的模具旋转而对蛾眼膜转印用的树脂赋予蛾眼结构的情况的示意图。

[0074] 图15是实施了AG处理的蛾眼膜的外形照片。

[0075] 图16表示针对硬涂层树脂转印模具的凹凸的SEM照片。

[0076] 图17表示针对蛾眼膜树脂转印模具的凹凸的SEM照片。

[0077] 图18表示在对蛾眼膜的转印用树脂按压模具后、进行剥离前的时间点的SEM照片。

[0078] 图19表示在对蛾眼膜的转印用树脂按压模具后、剥离后的时间点的SEM照片。

[0079] 图20是用纳米压印膜的树脂硬度和铅笔硬度以及耐擦伤性的关系将纳米压印膜分类的示意图。

[0080] 图21是示出相对于将基材膜、硬涂层以及转印用树脂层层叠的膜的表面，使表面具有纳米尺寸的凹凸的模具旋转而对转印用树脂赋予纳米结构的情况的示意图。

[0081] 图22是示出在使用辊状的模具的情况下产生凹入缺陷的过程的示意图。

[0082] 图23是示出在使用辊状的模具的情况下产生凹入缺陷的过程的示意图。

[0083] 图24是示出在使用辊状的模具的情况下产生凹入缺陷的过程的示意图。

[0084] 图25是示出在使用辊状的模具的情况下产生凹入缺陷的过程的示意图。

[0085] 图26是示出引起凹入缺陷的位置的照片图，表示第1圈。

[0086] 图27是示出引起凹入缺陷的位置的照片图，表示第2圈。

[0087] 图28是示出引起凹入缺陷的位置的照片图，表示第45圈。

具体实施方式

[0088] 以下揭示实施方式，参照附图对本发明更详细地进行说明，但是本发明并不仅仅限于这些实施方式。

[0089] 实施方式1

[0090] 在实施方式1中，对作为纳米压印膜的一例的蛾眼膜的制造例进行说明。蛾眼膜是具有相邻的凸部的顶点间的宽度小于380nm的多个凸部的纳米压印膜，在基材膜上涂敷转印用树脂，然后将模具按压到转印用树脂上，并且进行使上述转印用树脂固化的处理，由此能制作蛾眼膜。此外，根据需要在基材膜与转印用树脂之间形成硬涂层。

[0091] 作为基材膜，能使用三乙酰纤维素（TAC）膜、二乙酰纤维素膜、乙酸丁酸纤维素膜、聚醚砜膜、聚丙烯系列树脂膜、聚氨酯系列树脂膜、聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚砜膜、聚醚膜、三甲基戊烯膜、聚醚酮膜、（甲基）丙烯腈膜等，特别是TAC膜和单轴拉伸聚酯膜在透明性优良、在光学上没有各向异性的方面优选使用。

[0092] 在本说明书中，所谓硬涂层树脂是指在进行基于JIS K5600－5－4的铅笔硬度试验时其硬度为H以上的原材料。作为硬涂层树脂，能使用以光固化性树脂、电子束固化性树脂等为代表的活性能量线固化性树脂、热塑性树脂、热固化性树脂等，优选具有透明性。在形成硬涂层时，将硬涂层树脂溶解于溶剂，由此容易涂敷于基材膜上。

[0093] 作为用于制作蛾眼膜的转印用树脂的材料，可列举以光固化性树脂、电子束固化性树脂等为代表的活性能量线固化性树脂、热固化性树脂等。其中（甲基）丙烯酸系列树脂优选，在分子中具有氨酯键的氨酯（甲基）丙烯酸酯、在分子中具有酯键的酯（甲基）丙烯酸酯、以及在分子中具有环氧基的环氧（甲基）丙烯酸酯特别优选。

[0094] 在转印用树脂是光固化性树脂的情况下，优选含有光聚合引发剂，在是热固化性树脂的情况下，优选含热聚合引发剂。作为光聚合引发剂，可以是在紫外光区具有吸收波长的引发剂，也可以是在可见光区具有吸收波长的引发剂，还可以是在两者具有吸收波长的 引发剂。

[0095] 作为使用模具在转印用树脂上转印微细凹凸形状的具体的方法，可列举与模具具有的凹凸的按压一起照射光使树脂固化的2P法（Photo-polymerization法：光聚合法），另外，可列举例如热压法（压花法）、注射成型法、溶胶-凝胶法等的复制法、微细凹凸赋型片的层压法、微细凹凸层的转印法等各种方法，只要根据防反射物体的用途和基材膜的材料等适当选择即可。

[0096] 模具的凹部的深度和蛾眼膜的凸部的高度能使用SEM（Scanning Electron Microscope：扫描型电子显微镜）测定。

[0097] 利用本制法制作的蛾眼膜能用于例如显示装置的构成构件（自发光型显示元件、非自发光型显示元件、光源、光扩散片、棱镜片、偏振反射片、相位差板、偏振板、前面板、框体等）、透镜、窗玻璃、相框玻璃、橱窗、水槽、印刷物、照片、涂敷物体、照明设备等。由此，能得到没有外界光映入的优良的低反射性能。

[0098] 图1是实施方式1的模具的立体示意图。如图1所示，在本实施方式中使用的模具1是圆筒形的辊版。在模具1的外周面形成有纳米结构，能进行长时间、连续地制造纳米压印膜的辊对辊法。在以往，在使用辊对辊法的情况下，由于长时间的转印过程中的膜的伸缩、基于外在原因的膜的蜿蜒等，在模具的凹凸中堵塞树脂、或者树脂的粉尘分散等，由于上述原因，有时发生转印不良，但在本实施方式中，构成模具的表面包括具有纳米结构的表面（第一表面）1a和实质上不具有纳米结构的平坦的表面（第二表面）1b，第二表面1b配置于有可能发生模具的堵塞的区域，因此即使进行长时间的转印工序，也难以发生转印不良。由图1所示的模具的末端附近的两条虚线所包含的区域是形成有第二表面1b的区域。

[0099] 形成于模具的第二表面1b通过在针对模具形成纳米结构时进行掩蔽处理而形成。作为掩蔽处理的方法，可列举：在未处理模具的表面的一部分涂敷掩蔽用的制剂的方法、在未处理模具的表面的一部分贴附掩蔽用的胶带的方法等。作为上述掩蔽用的制剂的例子，可列举聚丁二烯、聚苯乙烯等橡胶系列掩蔽制剂，作为上述掩 蔽用的胶带的贴附，可列举聚酰亚胺、聚乙烯、聚苯乙烯等的胶带的贴附，但是需要根据用于形成模具的凹凸的化学处理来适当变更使用的原材料。

[0100] 以下对模具的制造方法详细地进行说明。作为模具的例子，可列举套筒型和管型这两种。以下将实际制作的例子分别作为实施例1和实施例2进行说明。在实施例1和实施例2中，作为掩蔽处理，使用聚酰亚胺胶带的贴附。

[0101] 实施例1

[0102] 图2～图5是示出制作套筒型的模具的各阶段的示意图。首先，如图2所示，准备圆筒形的镍（Ni）套筒11，利用电镀法进行绝缘膜的涂敷。这样的涂敷也能利用绝缘材料的喷涂来进行。镍套筒11的尺寸中，半径为约300mm，辊宽为约1500mm。

[0103] 对电镀法进行详述。首先，在对镍套筒11进行碱脱脂后，按城市供水（自来水）、纯水的顺序进行水洗，最后利用纯水进行喷射洗净（洗净工序）。接着，使镍套筒浸渍于电镀液，利用电镀处理在镍套筒表面使树脂成膜（电镀工序）。电压设为30～40V，进行300秒钟电镀处理。其结果是，可形成厚度为7μm的电镀膜（绝缘膜）。

[0104] 在此，在针对实施例1的模具实施AG处理的情况下，可以利用上述电镀处理。通过调整电镀处理中的处理液的种类、浓度、处理时间等，能形成具有凹凸的绝缘膜，上述凹凸具有微米级的间隔和高度。例如，在电压为40V、液体温度为23℃、固体成分为10％、处理时间为300秒的条件下对进行了掩蔽处理的镍套筒12进行处理，由此形成具有凹凸的绝缘膜，上述凹凸的相邻的凹部的底点间的间隔为20μm以上。通过预先形成这样的绝缘膜，能针对在后续工序所成膜的铝膜容易地赋予具有同样的图案的凹凸形状。

[0105] 接着，利用溅射涂覆，在绝缘膜上以10μm膜厚使铝（Al）膜成膜。

[0106] 接着，如图3所示，进行如下掩蔽处理：将宽度为4cm的聚酰亚胺（注册商标）膜胶带（杜邦公司（デュポン社）制造）14贴附 到从镍套筒（带铝膜）12的两末端分别进入内侧125mm的位置。聚酰亚胺膜胶带14相对于后述的草酸和磷酸具有耐药性，且耐热性也优良。
由此，在进行了掩蔽的两个区域之间形成有未进行掩蔽处理的区域。

[0107] 接着，如图4所示，将进行了掩蔽处理的镍套筒12浸渍到0.1mol/l的草酸溶液，在以18℃电解35秒钟后，使其浸渍到纯水中进行水洗（阳极氧化工序）。接着，使其浸渍到0.3mol/l的磷酸溶液，以18℃进行19分钟蚀刻，再次使其浸渍到纯水中进行水洗（蚀刻工序）。

[0108] 重复6次上述阳极氧化工序和蚀刻工序的循环，最后进行阳极氧化工序，使工序结束。通过连续地进行这样的阳极氧化工序和蚀刻工序的重复工序，除进行了掩蔽处理的区域外，能形成异常生长粒子，形成多个微小的孔，相邻的孔（凹部）的底点间的距离为380nm以下，且微小的孔具有顶端朝向铝膜的内部变细的形状（锥形形状）。

[0109] 最后，如图5所示，将用于掩蔽处理的聚酰亚胺膜胶带剥离，完成具有表面（第一表面）13a和平滑的表面（第二表面）13b的圆筒形的模具13，上述表面（第一表面）13a形成有包含微细的凹凸的纳米结构，上述表面（第二表面）13b实质上不具有上述纳米结构。由此，构成没有进行掩蔽处理的第一表面13a的构件的材质为氧化铝（Al2O3），而构成进行了掩蔽处理的第二表面13b的构件的材质仍然是铝（Al）。

[0110] 对实施例1的模具的结构更详细地说明。图6是实施例1的阳极氧化工序和蚀刻工序时的镍套筒的截面示意图。镍套筒31的内部为空洞，轴构件32贯通中央。镍套筒31的两端用树脂33密封，轴构件32通过设于树脂33中的贯通孔从镍套筒31的两端穿出。轴构件32固定于镍套筒31，所以通过使轴构件32旋转，镍套筒31能旋转。在镍套筒31的内部设有包括树脂的三根支撑棒38。镍套筒31的表面由绝缘膜35覆盖，而且，铝膜36包覆上述绝缘膜35表面。以从铝膜36的两末端分别靠向内侧125mm的位置为边界，贴附有宽度为4cm的 聚酰亚胺胶带37，在聚酰亚胺胶带37的更末端侧设有电极34。电极34的周围由绝缘膜35覆盖，但是可确保部分地与外部导通的路径。在电解液槽中注满电解液，电解液槽的内侧面由金属膜覆盖。铝膜36上的电极34作为阳极发挥作用，贮液槽的内侧面上的电极作为阴极发挥作用，能在电解液中进行铝膜36的表面的阳极氧化。此外，在使用实施例1的模具的情况下，需要确保电极34的设置场所，因此不能将聚酰亚胺胶带37贴附到铝膜36的两末端部，需要贴附在从末端部稍微靠向内侧的位置。

[0111] 在实施例1中，作为圆筒形的模具，使用横向的模具，但是根据夹具和处理槽的结构，也能使用纵向的模具。

[0112] 下面示出实际拍摄实施例1的模具的表面的照片。图7是实施例1的模具的表面SEM照片，左侧的放大图示出形成有纳米结构的区域，右侧的放大图示出未形成纳米结构的区域。如图7所示，模具的表面被分类为以纳米间隔形成有细孔的区域（具有纳米结构的区域）81、未形成细孔的区域（不具有纳米结构的区域）82、以及形成有不完全的细孔的区域83这3个区域。形成有不完全的细孔的区域83产生的理由是因为：采用聚酰亚胺胶带的贴附，因此不进行完全的掩蔽。但是，即使形成有这样的细孔，也在实际制作蛾眼膜上不成为障碍。

[0113] 实施例2

[0114] 图8～图11是示出制作管型的模具的各阶段的示意图。首先，如图8所示，准备圆筒形的铝（Al）管21。铝管21的尺寸中，半径为约300mm，辊宽为约1000mm，厚度为约15mm。

[0115] 接着，如图9所示，进行如下掩蔽处理：将宽度为4cm的聚酰亚胺（注册商标）膜胶带（杜邦公司（デュポン社）制造）24贴附在从铝管21的末端进入内侧50mm的位置。此外，上述值可以设为70mm。聚酰亚胺膜胶带24相对于后述的草酸和磷酸具有耐药性，且耐热性也优良。由此，在进行了掩蔽的两个区域之间形成有未进行掩蔽处理的区域。

[0116] 接着，如图10所示，将进行了掩蔽处理的铝管21浸渍于0.1mol/l 的草酸溶液，以18℃电解35秒钟后，使其浸渍于纯水进行水洗（阳极氧化工序）。接着，使其浸渍于0.3mol/l的磷酸溶液，以18℃进行19分钟蚀刻，再次使其浸渍于纯水进行水洗（蚀刻工序）。

[0117] 重复6次上述阳极氧化工序和蚀刻工序的循环，最后进行阳极氧化工序，使工序结束。通过连续地进行这样的阳极氧化工序和蚀刻工序的重复工序，除进行了掩蔽处理的区域外，能形成异常生长粒子，形成多个微小的孔，相邻的孔（凹部）的底点间的距离为380nm以下，且微小的孔具有顶端朝向铝管21的内部变细的形状（锥形形状）。

[0118] 最后，如图11所示，将用于掩蔽处理的聚酰亚胺膜胶带剥离，完成具有形成有纳米结构的表面（第一表面）23a和实质上不具有上述纳米结构的平滑的表面（第二表面）23b的圆筒形的模具，上述纳米结构包含微细的凹凸。由此，构成没有进行掩蔽处理的第一表面23a的构件的材质为氧化铝（Al2O3），而构成进行了掩蔽处理的第二表面23b的构件的材质仍然是铝（Al）。

[0119] 对实施例2的铝管的结构更详细地进行说明。图12是实施例2的阳极氧化工序和蚀刻工序时的铝管的截面示意图。铝管41的内部为空洞，轴构件（导电棒）42贯通中央。铝管41的两端隔着衬垫46用树脂43密封，轴构件42通过设于树脂43中的贯通孔从铝管
41的一方末端穿出。轴构件42固定于铝管41，所以通过使轴构件42旋转，铝管41能旋转。
轴构件42的表面由绝缘膜45包覆。另外，轴构件42的没有在外部穿出的一侧的末端与成为平衡锤的金属构件44接触，上述金属构件44部分地与铝管41的外表面接触（图12中的圆圈记号）。由此，能将轴构件42用作在铝管41的内部传导并从外部流出电流的路径。以铝管41的两末端作为边界，贴附有宽度为4cm的聚酰亚胺胶带47。在电解液槽中注满电解液，电解液槽的内侧面由金属膜覆盖。在实施例2中，轴构件42和金属构件44作为阳极发挥作用，贮液槽的内侧面上的电极作为阴极发挥作用，能在电解液中进行铝管41的表面的阳极氧化。在实施例2中，聚酰亚胺胶带47能以覆盖铝管41的两末端部的形式贴附，但是可以根据需要设于从末端 部进入内侧的场所。

[0120] 在实施例2中，作为圆筒形的模具使用纵向的模具，但是根据夹具和处理槽的结构，也能使用横向的模具。

[0121] 接着，以下对蛾眼膜的制造方法详细地进行说明。作为蛾眼膜的方式，可列举设置硬涂层的类型和不设置硬涂层的类型这两种。以下将实际制作的例子分别作为实施例3和实施例4进行说明。

[0122] 实施例3

[0123] 在实施例3中，对在基材膜与转印用树脂层之间设置硬涂层的例子进行说明。通过在基材膜与转印用树脂层之间设置硬涂层作为中间层，能得到表面耐性和基材膜－转印用树脂层间的粘合性这两者的效果。

[0124] 在使硬涂层树脂溶解于溶剂后，在基材膜上用凹版涂布法进行溶液的涂敷。然后，为了使溶剂挥发，在80℃的条件下进行30秒钟干燥。但是，硬涂层树脂只要是在照射光时不完全固化，就是比转印用树脂柔软的原材料，所以在模具的凹凸中引起树脂的堵塞，不能从辊版剥离膜，发生膜的卷起，不能进行连续转印。另外，引起堵塞的硬涂层树脂在连续转印工序中被擦拭，粉尘在工序中飞舞，有可能附着于模具。并且，当粉尘作为异物附着于模具的表面时，其痕迹被转印到蛾眼膜，成为缺陷（白色硬点缺陷）的原因。因此，在实施例3中，使用实施例1的模具制作蛾眼膜。

[0125] 图13是示出相对于将基材膜、硬涂层以及转印用树脂层层叠的膜的表面，使表面具有纳米级的突起物的模具旋转而对蛾眼膜转印用的树脂赋予蛾眼结构的情况的示意图。在此，使用实施例1的模具，但是也能使用实施例2的模具。如图13所示，模具54为圆筒形，具有能旋转的机构。转印速度设为约10m/min。模具54在表面具有纳米级的凹凸，上述模具54被按压到转印用树脂层51上，由此在转印用树脂层51的表面转印纳米级的凹凸。
另外，与此同时，进行光照射等的树脂固化工序，由此能形成蛾眼结构。此外，这样制作的凸部的每一个的高宽比为1（顶点间的宽度：200nm、凸部的高度：200nm）。

[0126] 作为各膜的尺寸，当将作为现行标准的TAC膜（基材膜）52的宽度设为1340mm时，针对内侧的层需要单侧为30mm的涂布余量，因此硬涂层53的宽度设为1280mm。另外，针对更内侧的层也需要单侧为30mm的涂布余量，因此转印用树脂层51的宽度设为1220mm。

[0127] 如实施例1和实施例2所示，这些模具在进行阳极氧化处理前进行如下：针对与硬涂层53接触的部分卷绕聚酰亚胺胶带，由此进行掩蔽处理，因此在与硬涂层53接触的区域实质上不具有纳米结构。因此，能不引起堵塞地进行长时间的连续转印。本发明人实际进行转印作业的结果是，约3500m的连续转印成功。另外，关于白色硬点缺陷的产生也能抑制。

[0128] 实施例4

[0129] 在实施例4中，对在基材膜与转印用树脂层之间不设置硬涂层的例子进行说明。

[0130] 使用模具涂敷法将转印用树脂（无溶剂）涂敷在基材膜上。但是，在基材膜和转印用树脂层的边界处，转印用树脂层成为露出到外部的形式，因此即使照射光，也利用氧阻止来阻止固化，不会发生完全的固化。当以未固化的状态进行基于辊版的转印工序时，在模具的凹凸中引起树脂的堵塞，不能从辊版剥离膜，发生膜的卷绕，不能进行连续转印。另外，即使不发生这样的问题，也在基材膜和转印树脂层的边界部分产生薄的条纹。因此，在实施例4中，使用实施例1的模具制作蛾眼膜。

[0131] 图14是示出相对于将基材膜和转印用树脂层层叠的膜的表面，使表面具有纳米级的突起物的模具旋转而对蛾眼膜转印用的树脂赋予蛾眼结构的情况的示意图。在此，使用实施例1的模具，但是也能使用实施例2的模具。如图14所示，模具64为圆筒形，具有能旋转的机构。转印速度设为约10m/min。模具64在表面具有纳米级的凹凸，上述模具64被按压到转印用树脂层61上，由此在转印用树脂层61的表面转印纳米级的凹凸。另外，与此同时，进行光照射等的树脂固化工序，由此能形成蛾眼结构。此外，这样制作的凸部的 每一个的高宽比为1（顶点间的宽度：200nm，凸部的高度：200nm）。

[0132] 作为各膜的尺寸，当将作为现行标准的TAC膜（基材膜）62的宽度设为1340mm时，针对内侧的层需要单侧为30mm的涂布余量，因此转印用树脂层61的宽度设为1280mm。根据实施例4的方法，可以不设置硬涂层，能以一次工序制作与实施例3的方法相比更大范围的蛾眼膜。另外，能消除由硬涂层导致的粉尘的产生。但是，需要用于确保膜的表面耐性以及基材膜与转印用树脂层间的粘合性的处理。

[0133] 如实施例1和实施例2所示，这些模具在进行阳极氧化处理前，通过针对与硬涂层接触的部分卷绕聚酰亚胺胶带而进行掩蔽处理，因此在与硬涂层接触的区域实质上不具有纳米结构。因此，能不引起堵塞地进行长时间的连续转印。本发明人实际进行转印作业的结果是，约3500m的连续转印成功。另外，对于白色硬点缺陷的发生也能抑制。

[0134] 在此，对关于实施例3和实施例4的蛾眼膜进一步实施了AG处理的情况进行详述。图15是实施了AG处理的蛾眼膜的外形照片。图15中的颜色浓的部分示出相对于基准高度高的区域或者低的区域。

[0135] 下述表1是对在图15所示的蛾眼膜上的任意的15处地点测定AG凹凸的间距（XY）和高度（Z）的数据进行总结的表。

[0136] [表1]

[0137]编号 XY Z
1 40～50μm 0.70μm
2 30～40μm 0.70μm
3 40～50μm 0.75μm
4 30～40μm 0.80μm
5 40～50μm 0.80μm
6 40～50μm 0.80μm
7 40～50μm 0.85μm
8 40～50μm 0.85μm
9 40～50μm 0.80μm
10 30～40μm 0.85μm
11 30～40μm 0.90μm
12 40～50μm 0.90μm
13 40～50μm 0.90μm
14 40～60μm 0.90μm
15 20～30μm 0.70μm

[0138] 在表1中的数值范围内，不会发生树脂的堵塞，且可得到良好的图像的模糊效果，由此可知优选：在模具的表面上还形成有微米结构，上述微米结构包含相邻的凹部的底点间的宽度至少为20μm以上、60μm以下的多个凹部。

[0139] 比较实验

[0140] 在此，对使用用于形成蛾眼结构的模具在硬涂层树脂上进行转印的例子和针对转印用树脂进行转印的例子进行说明。

[0141] 图16表示针对硬涂层树脂转印模具的凹凸的SEM照片，图17表示针对蛾眼膜树脂转印模具的凹凸的SEM照片。此外，这些照片是将模具按压到各自的树脂后立即用手剥离并观测的照片。

[0142] 图16和图17中均被转印模具的凹凸形状，但是凸部的高度不同。在图16所示的硬涂层树脂中，凸部的高度为313nm，在图17所示的蛾眼膜树脂中，凸部的高度为160nm。由此可知：硬涂层树脂的填充率（蛾眼膜的凸部的高度相对于模具的凹部的深度的比率）是蛾眼膜树脂的填充率的约2倍。认为这些高度的不同是由树脂的硬度不同引起的。

[0143] 另外，图18和图19表示在针对蛾眼膜的转印用树脂按压模具后，进行剥离前和剥离后的时间点的各个SEM照片。如图18所示， 在按压模具72的时间点，转印用树脂层71完全填充到模具72的凹凸的槽（深度：350nm），但是如图19所示，在剥离后，转印用树脂层71的凸部的高度低至约229nm。由此认为：转印用树脂层71在一次完全填充到模具72的凹凸的槽后，由于应力的不同等，在剥离时高度变低。

[0144] 由此认为：硬涂层树脂的填充率与蛾眼膜树脂比较大至2倍，因此硬涂层树脂深深侵入到版的槽中而引起堵塞，不能脱模，成为发生膜的卷绕的原因。考虑到几个防止上述的对策，但是从如下方面来看，可以说通过在模具的制作时间点进行掩蔽处理等在模具的一部分区域不设置纳米结构是有效的：（1）考虑到蛾眼膜树脂的填充率为版的深度的6成的程度来决定辊版的深度，因此使版（凹部）的深度浅于此是不能执行的方面；（2）硬涂层树脂的涂布宽度和蛾眼树脂的涂布宽度在制造工艺上不能完全相同的方面；以及（3）当使蛾眼膜树脂的涂布宽度宽于硬涂层树脂时，突出部分的蛾眼膜树脂附着于辊版的可能性高的方面。

[0145] 此外，本申请以2011年3月11日提出的日本专利申请2011－054537号为基础，主张基于巴黎公约乃至进入国的法规的优先权。该申请的内容的全部编入到本申请中作为参考。

[0146] 附图标记说明

[0147] 1、13、54、64、72、124、134：模具

[0148] 1a、13a、23a：第一表面

[0149] 1b、13b、23b：第二表面

[0150] 11、31：镍套筒

[0151] 12：镍套筒（带铝膜）

[0152] 14、24、37、47：聚酰亚胺（膜）胶带

[0153] 21：铝管

[0154] 32：轴构件

[0155] 33、43：树脂（密封用）

[0156] 34：电极

[0157] 35：绝缘膜

[0158] 36：铝膜

[0159] 38：支撑棒

[0160] 41：铝管

[0161] 42：轴构件（导电棒）

[0162] 44：金属构件（平衡锤）

[0163] 45：绝缘膜

[0164] 46：衬垫

[0165] 51、61、71、121：转印用树脂层

[0166] 52、62、112、122：基材膜

[0167] 53、123：硬涂层

[0168] 81：具有纳米结构的区域

[0169] 82：不具有纳米结构的区域

[0170] 83：形成有不完全的细孔的区域

[0171] 111：纳米压印膜

[0172] 113：铅笔

[0173] 135：粉尘

[0174] 136：凹入缺陷