本发明涉及一种温室无土栽培种植彩椒的方法，具体包括栽培设施的安装：将预先购置的营养液桶埋于温室地面以下，安装供液泵，布置安装营养液供液主管；将栽培槽固定好，最底部一排栽培槽离地面35cm高，相邻两排栽培槽之间的中心距为60cm；安装收集灌溉渗出液的回液管路；向栽培槽中下部装10厘米的河沙，上部分装上栽培基质。本发明的种植方法生产的彩椒质量好，无污染，生产环境清洁卫生，病虫害相对较少，大大减少农药的使用，彩椒商品性好；免去了土壤耕作的繁重劳动，省时省力；不受地区、土壤等条件限制，提高了土地利用率。
1.一种温室无土栽培种植彩椒的方法，其特征在于，包括
将预先购置的营养液桶埋于温室地面以下，安装供液泵，布置安装营养液供液主管；将栽培槽固定在温室中，最底部一排栽培槽离地面35cm高，相邻两排栽培槽之间的中心距为
60cm；安装收集灌溉渗出液的回液管路；向栽培槽中下部装10厘米的河沙，上部分装上含有下列成分的栽培基质：珍珠岩8份、进行无氧发酵后的花生壳粉3份、进行无氧发酵后的油茶子壳2份、炉渣
3份、蔗渣2份、椰渣2份、菇渣3份、鸡粪5份、磷酸二铵1份、粉碎后的苦楝4份、油菜枯饼
7份、粉碎后的罂粟科植物5份、硅藻土4份，栽培基质填装至距离栽培槽顶部3～4cm高度处，在栽培槽中铺设滴灌带；
在营养液桶中配制营养液；将彩椒苗定植在栽培槽中；开启供液泵，使得营养液以滴灌方式对定植于栽培槽中的彩椒进行灌溉，采用间歇式灌溉方式，灌溉完毕后关闭供液泵停止供液；
所述的间歇式灌溉方式为：定植后栽培15～20d的浇灌频率为基质含水量下降到
53％浇营养液，栽培21～50d之间的浇灌频率为基质含水量下降到75％浇营养液，栽培
51～80d之间以后的浇灌频率为基质含水量下降到70％浇营养液，栽培81d以后的浇灌频率为基质含水量下降到40％浇营养液；具体的滴灌规律为从早8:00至晚6:00，每小时滴灌5分钟，滴灌系统为压力补偿式可调滴头，单头流量为10L/hr，在植株生长中后期，延长供液时间到10-15分钟。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的营养液为每升水中含有350～
1000毫克Ca(NO3)2·4H2O、200～900毫克KNO3、40～120毫克NH4NO3、50～150毫克KH2PO4、
50～150毫克K2SO4、200～550毫克MgSO4·7H2O、1.5～3.5毫克H3BO3、0.02～0.04毫克硼砂、0.03～0.05毫克EDTA-2NaFe、1.5～3.0毫克MnSO4·4H2O、0.1～0.3毫克ZnSO4·7H2O、
0.04～0.15毫克CuSO4·5H2O、0.01～0.04毫克(NH4)6Mo7O24·4H2O、3500～7500毫克FeSO47H2O、2.5～4.0毫克微量元素和3500～8500毫克Na2-EDTA，并用磷酸调节营养液的PH值至6.0-6.5。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述的微量元素由含下述微量元素的化合物按以下重量配比的原料组成：硼20-30毫克，锰18-25毫克，铜15-25毫克，锌8-12毫克，钼8-15毫克。
4.根据权利要求1-3任一项所述的方法，其特征在于，定植后的培养温度25～35℃、光照强度1000～75001ux，光照时间6～12小时/天。
一种温室无土栽培种植彩椒的方法
技术领域
[0001] 本发明涉及一种农业种植方法，具体涉及一种温室无土栽培种植彩椒的方法。
背景技术
[0002] 随着我国农村产业结构的不断调整，设施园艺的种植面积最近几年呈现急速增长的趋势，特别是设施蔬菜的种植面积占到了设施园艺总面积的80％以上。日光温室作为我国独创的设施形式，其推广应用面积要占到全部设施面积的60～70％，其中生产的蔬菜产品对于满足人们的蔬菜供应，起着举足轻重的作用。
[0003] 目光温室为了满足冬季保温的需要，从而实现温室内不进行人工加温也能进行蔬菜生产的目的，目前，在设施农业领域，蔬菜无土栽培技术已经得到了推广，与土壤栽培相比，无土栽培能加速蔬菜生育进程，使一年的栽培茬数增加15％-20％；产品质量好，无污染，生产环境清洁卫生，病虫害相对较少，大大减少农药的使用，果实商品性好；免去了土壤耕作的繁重劳动，省时省力；不受地区、土壤等条件限制，提高了土地利用率。然而目前关于彩椒的温室无土栽培技术还没有报道。
发明内容
[0004] 本发明主要解决的技术问题是提供一种温室无土栽培种植彩椒的方法。
[0005] 为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：
[0006] 一种温室无土栽培种植彩椒的方法，包括
[0007] (1)栽培设施的安装
[0008] 将预先购置的营养液桶埋于温室地面以下，安装供液泵，布置安装营养液供液主管；将栽培槽固定在温室中，最底部一排栽培槽离地面35cm高，相邻两排栽培槽之间的中心距为60cm；安装收集灌溉渗出液的回液管路；向栽培槽中下部装10厘米的河沙，上部分装上含有下列成分的栽培基质：
[0009] 珍珠岩8份、进行无氧发酵后的花生壳粉3份、进行无氧发酵后的油茶子壳2份、炉渣3份、蔗渣2份、椰渣2份、菇渣3份、鸡粪5份、磷酸二铵1份、粉碎后的苦楝4份、油菜枯饼7份、粉碎后的罂粟科植物5份、硅藻土4份，栽培基质填装至距离栽培槽顶部3～4cm高度处，在栽培槽中铺设滴灌带；
[0010] (2)栽培与管理
[0011] 在营养液桶中配制营养液；将彩椒苗定植在栽培槽中；开启供液泵，使得营养液以滴灌方式对定植于栽培槽中的蔬菜进行灌溉，采用间歇式灌溉方式，灌溉完毕后关闭供液泵停止供液。
[0012] 所述的营养液为是每升水中含有350～1000毫克Ca(NO3)2·4H2O、200～900毫克KNO3、40～120毫克NH4NO3、50～150毫克KH2PO4、50～150毫克K2SO4、200～550毫克MgSO4·7H2O、1.5～3.5毫克H3BO3、0.02～0.04毫克硼砂、0.03～0.05毫克EDTA-2NaFe、1.5～3.0毫克MnSO4·4H2O、0.1～0.3毫克ZnSO4·7H2O、0.04～0.15毫克CuSO4·5H2O、
0.01～0.04毫克(NH4)6Mo7O24·4H2O、3500～7500毫克FeSO47H2O、2.5～4.0毫克微量元素和3500～8500毫克Na2-EDTA，并用磷酸调节营养液的PH值至6.0-6.5。
[0013] 所述的微量元素由含下述微量元素的化合物按以下重量配比的原料组成：硼20-30毫克，锰18-25毫克，铜15-25毫克，锌8-12毫克，钼8-15毫克。
[0014] 所述的间歇式灌溉方式为：定植后栽培15～20d的浇灌频率为基质含水量下降到53％浇营养液，栽培21～50d之间的浇灌频率为基质含水量下降到75％浇营养液，栽培51～80d之间以后的浇灌频率为基质含水量下降到70％浇营养液，栽培81d以后的浇灌频率为基质含水量下降到40％浇营养液；具体的滴灌规律为从早8：00至晚6：00，每小时滴灌5分钟，滴灌系统为压力补偿式可调滴头，单头流量为10L/hr，在植株生长中后期，延长供液时间到10-15分钟。
[0015] 定植后的培养温度25～35℃、光照强度1000～7500lux，光照时间6～12小时/夭。
[0016] 本发明的有益效果是：本发明无土栽培能加速彩椒生育进程，使一年的栽培茬数增加15％-20％；本发明以农产废弃物资源高效利用为特色，创新土壤栽培的养分供应方法和无土栽培的化学营养液养分供应观念，通过科学施用优质有机肥满足彩椒全生育期所需养分，实现绿色蔬菜清洁化生产，且生产的彩椒质量好，无污染，生产环境清洁卫生，病虫害相对较少，大大减少农药的使用，彩椒商品性好；免去了土壤耕作的繁重劳动，省时省力；不受地区、土壤等条件限制，提高了土地利用率。
具体实施方式
[0017] 下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0018] 本发明实施例包括：
[0019] 实施时间：2012年
[0020] (一)、实施具体实例：
[0021] 选用品种：红罗丹；
[0022] (二)实施方法：
[0023] 包括
[0024] (1)栽培设施的安装
[0025] 将预先购置的营养液桶埋于温室地面以下，安装供液泵，布置安装营养液供液主管；将栽培槽固定在温室中，最底部一排栽培槽离地面35cm高，相邻两排栽培槽之间的中心距为60cm；安装收集灌溉渗出液的回液管路；向栽培槽中下部装10厘米的河沙，上部分装上含有下列成分的栽培基质：
[0026] 珍珠岩8份、进行无氧发酵后的花生壳粉3份、进行无氧发酵后的油茶子壳2份、炉渣3份、蔗渣2份、椰渣2份、菇渣3份、鸡粪5份、磷酸二铵1份、粉碎后的苦楝4份、油菜枯饼7份、粉碎后的罂粟科植物5份、硅藻土4份，栽培基质填装至距离栽培槽顶部3～4cm高度处，在栽培槽中铺设滴灌带；
[0027] (2)栽培与管理
[0028] 在营养液桶中配制营养液；将彩椒苗定植在栽培槽中；开启供液泵，使得营养液
