一种首饰抛光磨块的制备方法转让专利

申请号 : CN201310622632.7

文献号 : CN103692362B

文献日 :

基本信息:

PDF:

法律信息:

相似专利:

发明人 : 石红卫刘志明

申请人 : 渑池金华新材料有限公司

摘要 :

一种首饰抛光磨块,由下述重量份数的原料制成:脲醛树脂30~70份、刚玉微粉30~70份、醛类遮蔽剂0.5~1.5、固化剂5~15份、着色剂0.5~3.5份。制备方法包括以下步骤:将刚玉微粉和着色剂混合后,装入球磨机进行研磨,研磨3~5小时,得到填充料;将脲醛树脂、填充料和醛类遮蔽剂,混合,搅拌均匀得到料浆;将料浆加入固化剂,搅拌均匀后加入模具中,常温下固化;将固化后的产物脱模,置于80~100℃恒温箱中水浴,水浴时间为3~5小时;将水浴后的产品在40~60℃下烘干;将烘干后的产品进行表面整形,即得成品。本发明制备得到的首饰抛光磨块自锐性佳、韧性好,且抛光后的首饰无有害物质残留。

权利要求 :

1.一种首饰抛光磨块的制备方法,所述首饰抛光磨块由下述重量份数的原料制成:脲醛树脂30~70份、刚玉微粉30~70份、醛类遮蔽剂0.5~1.5、固化剂5~15份、着色剂0.5~3.5份,所述着色剂为胭脂红;其特征在于,包括以下步骤:将刚玉微粉和着色剂混合后,装入球磨机进行研磨,研磨3~5小时,得到填充料;将脲醛树脂、填充料和醛类遮蔽剂,混合,搅拌均匀得到料浆;将料浆加入固化剂,搅拌均匀后加入模具中,常温下固化;将固化后的产物脱模,置于80~100℃恒温箱中水浴,水浴时间为3~5小时;将水浴后的产品在40~60℃下烘干;将烘干后的产品进行表面整形,即得成品。

说明书 :

一种首饰抛光磨块的制备方法

技术领域

[0001] 本发明属于首饰抛光技术领域,具体涉及一种首饰抛光磨块及其制备方法。

背景技术

[0002] 目前在首饰抛光过程中,多用PL树脂(聚酰亚胺树脂)结合磨块来进行抛光,但普通聚酰亚胺树脂结合磨块的刚性大,不易加工质地柔软的贵重金属饰品。因此提供一种自锐性佳、韧性好的贵金属抛光磨块是非常必要的。

发明内容

[0003] 本发明的的目的是提供一种自锐性佳、韧性好的首饰抛光磨块及其制备方法。
[0004] 为实现上述发明目的,本发明采取的技术方案是,一种首饰抛光磨块,由下述重量份数的原料制成:脲醛树脂30~70份、刚玉微粉30~70份、醛类遮蔽剂0.5~1.5、固化剂5~15份、着色剂0.5~3.5份。
[0005] 所述的首饰抛光磨块,包括以下步骤:将刚玉微粉和着色剂混合后,装入球磨机进行研磨,研磨3~5小时,得到填充料;将脲醛树脂、填充料和醛类遮蔽剂,混合,搅拌均匀得到料浆;将料浆加入固化剂,搅拌均匀后加入模具中,常温下固化;将固化后的产物脱模,置于80~100℃恒温箱中水浴,水浴时间为3~5小时;将水浴后的产品在40~60℃下烘干;将烘干后的产品进行表面整形,即得成品。
[0006] 优选的,所述着色剂为胭脂红。
[0007] 本发明采用脲醛树脂为结合剂,配以铝活性填料,经常温固化而成,制备得到的首饰抛光磨块自锐性佳、韧性好,且抛光后的首饰无有害物质残留。

具体实施方式

[0008] 下面结合具体实施例对本发明作进一步说明,但本发明的保护范围不限于此。
[0009] 以下实施例中,所述脲醛树脂(pH值7.0—8.0、粘度0.25—0.4Pa·S)购自郑州春明商贸有限公司;醛类遮蔽剂为气味遮蔽剂(型号为OH-305),购自于上海荣权化工有限公司;刚玉微粉为棕刚玉微粉(质量分数Al2O3〉94.5%、SiO2〈1.2%、Fe2O3〈0.25%,粒度8-12mm),购自渑池长城高新材料有限公司;所述固化剂为液态芳香二胺(H-256),购自江阴惠峰合成材料有限公司。
[0010] 实施例1
[0011] 取刚玉微粉300克、胭脂红5克,混合后,装入球磨机进行研磨,研磨3小时,得到填充料;取脲醛树脂300克、醛类遮蔽剂5克,并加入填充料,搅拌均匀得到料浆;将料浆加入固化剂50克,搅拌均匀后加入模具中,常温下固化;将固化后的产物脱模,置于80℃恒温箱中水浴,水浴时间为3小时;将水浴后的产品在40℃下烘干;将烘干后的产品进行表面整形,即得成品。
[0012] 所得抛光磨块成品密度1.5g/cm3,用于一件金饰品的抛光上光,耗时仅需8h,抛光