传送带式箱形浸釉装置

摘要

本发明提供一种传送带式箱形浸釉装置，包括拉杆、碗坯，所述低速电机驱动传送带一和传送带二同时运动，与传送带一和传送带二相铰接的碗坯盛放机构将碗坯位置限定在一定区域内，当碗坯盛放机构浸入整体支架底部的釉池时对碗坯上釉，随后传送带一和传送带二将碗坯盛放机构带出离开釉池，碗坯盛放机构运动到A工位时位置传感器检测到碗坯盛放机构，此时电磁铁吸合滑块，滑块带动拉杆将碗盖打开，工作人员将碗坯取出，从而完成整个上釉过程，本装置可用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工序，解决目前在工厂使用的一些上釉装置存在的驱动机构复杂、上釉效率不高、上釉存在死角的缺陷。

权利要求

1.一种传送带式箱形浸釉装置，低速电机（6）与整体支架（7）一端上侧连接，传送带一（8）和传送带二（9）安装在整体支架（7）上，并且随着低速电机（6）转动在整体支架（7）上不断发生位置变化，其特征在于：所述整体支架（7）的另一端上侧安装有位置传感器（11），所述传送带一（8）和传送带二（9）上按间隔加工有铰接凸台，并且与碗坯盛放机构铰接；所述碗坯盛放机构包括电磁铁（5）、摇板（4）、碗坯盖（3）、拉杆（1）、拉紧弹簧（12）、滑槽（13）和滑块（14），所述电磁铁（5）和滑槽（13）固定安装在摇板（4）上，所述摇板（4）则铰接在传送带一（8）和传送带二（9）上，所述滑块（14）与滑槽（13）形成移动并且跟拉杆（1）一端铰接，拉杆（1）的另一端与碗坯盖（3）上的凸台铰接，所述碗坯盖（3）铰接在摇板上。

2.根据权利要求1所述的传送带式箱形浸釉装置，其特征在于：所述摇板（4）在靠近碗坯（2）的一端和碗坯盖（3）上均加工有小孔。

3.根据权利要求1所述的传送带式箱形浸釉装置，其特征在于：所述滑块（14）、滑槽（13）均为T字型。

说明书

传送带式箱形浸釉装置

技术领域

[0001] 本发明涉及日用陶瓷生产技术，特别是一种用于日用陶瓷生产过程中自动上釉的自动上釉装置。

背景技术

[0002] 在以往的日用陶瓷生产中，各陶瓷厂家因原材料性能的差异或是各种产品外形的限制原因，施釉工序只能采用手工浸釉的工艺方法进行施釉，手工浸釉生产效率低，同时由于在施釉过程中手指接触坯体，使坯体在施釉后留下手指印，影响坯体的施釉质量。另外，由于釉水中加有多种化工材料，这些化工材料对人体有腐蚀作用，长期手工浸釉对人体有危害。

[0003] 为了提高生产效率，提高产品质量，改善工人生产环境，降低成本等，技术人员在日用陶瓷的生产技术及生产设备上进行着不断的改进。在已有的陶瓷生产技术中，针对陶瓷上釉工序的技术文献有：

[0004] 1、专利文献【公开号：CN202373397U】公开了一种“盘形悬式瓷绝缘子瓷泥坯件头部上釉装置”， 该装置包括其上放置倒置瓷泥坯件的可旋转工位平台、为瓷泥坯件的外周表面布釉的头部外周表面浸釉装置、为瓷泥坯件的内表面布釉的头部内孔注釉装置，以及电气控制柜。该装置通过将瓷泥坯件“∩”形头部的倒置安放在旋转平台工位上并借助电气控制旋转360°进程中经二次延时停顿过程以实现了按步骤连续完成瓷泥坯件头部外周表面的上釉工序。该装置自动化程度高，但结构复杂，成本高，并且只能实现对坯件某一局部的上釉而已。

[0005] 2、专利文献【公开号：CN2647444】公开了一种“上釉机”。该上釉机通过将往复机构及转角机构相组合喷枪机构并以控制器控制的电动机作为动力源来实现上釉，其喷枪机构布置在机架上，机架上同时还布置有工件装夹机构等。该上釉机适用于对有波纹环的圆柱形工件外表面进行上釉处理，不适于异形工件的上釉处理。

[0006] 3、专利文献【公开号：CN1090834】公开了一种“ 陶瓷制品的局部表面上釉”， 该实用新型是通过将熔化辐射能施加到所述上釉位置周围的制品表面上的熔融区域从而延缓所述熔融区域的冷却以把接近所述熔融区域的所述制品中产生的热应力限制到小于所述制品的所述表面上的陶瓷材料的断裂应力来实现局部表面上釉。该实用新型主要用于修补釉彩缺陷及用作装饰，这种方式的上釉能量消耗巨大，不适用大批量生产制造过程。

[0007] 4、专利文献【公开号：CN202246453U】公开了“一种上釉装置”，该装置主要由加釉罐、稳压罐、打釉泵三个部分组成。先将釉料添加至加釉罐，通过打釉泵将釉料送入稳压罐中，再通过出料阀将釉料涂施在胶辊表面以实现上釉过程。该装置可实现较均匀的上釉过程，这种工艺过程过于繁琐，生产效率低，其上釉层厚度也受胶辊磨损纯度而变化，导致其上釉质量不稳定。

[0008] 5、专利文献【公开号：CN202422887U】公开了一种“线路柱式绝缘子上釉装置”，该装置包括支撑架、电机和固定坯体的卡盘，电机固定在支撑架上；电机、卡盘和胚体同轴转动。该装置可用于电瓷绝缘子生产过程的上釉工序，其卡盘式固定方式增加了胚体与上釉装置的接触面积，使得一次上釉的面积减少，影响生产效率。

[0009] 6、专利文献【公开号：CN1223926】公开了一种“特别用于瓷砖的旋转上釉机”，该装置具有两个并排靠近设置的滚筒,釉料可推积在其上,第一滚筒的砖片的上表面上作不受阻滞的接触滚动,从而将釉料转移到砖片上,而第二滚筒的旋转方向与第一滚筒相反。该装置适用于瓷砖的上釉工序，但其对釉水的流变学动力参数要求非常严格，若釉水改变或釉水成分不够均匀即容易造成上釉层的厚度不一致，直接影响成品率。

[0010] 7、专利文献【公开号为CN203187583U】名称为“日用陶瓷自动上釉装置”的实用装置专利中，储釉筒壁上设有吸釉孔，以便储釉筒内吸入釉水作为碗底上釉用，在生产过程发现，吸盘机构吸住碗坯往釉池摆动上釉过程中，碗底部接触釉水的时间比碗表面接触釉水的时间相对长一些，对于一些吸水性很强的坯体用这种方法上釉，碗底部的釉层厚度明显比碗表面的厚度大，坯体上釉不合格。

[0011] 综上所述，现有的现有上釉装置主要存在效率不高、上釉质量差、结构复杂、工人劳动强度过大、自动化程度有待提高等缺陷。

发明内容

[0012] 本发明提供一种传送带式箱形浸釉装置，用于日用陶瓷生产过程中自动上釉工艺步骤，使其能够解决现有的上釉装置存在的效率不高、上釉质量差、结构复杂等缺陷。

[0013] 一种传送带式自动浸釉装置，低速电机与整体支架一端上侧连接，传送带一和传送带二安装在整体支架上，并且随着低速电机转动在整体支架上不断发生位置变化，所述整体支架的另一端上侧安装有位置传感器，所述传送带一和传送带二上按一定间隔加工有铰接凸台，并且与碗坯盛放机构铰接。

[0014] 所述碗坯盛放机构包括电磁铁、摇板、碗坯盖、拉杆、拉紧弹簧、滑槽和滑块，所述电磁铁和滑槽固定安装在摇板上，所述摇板则铰接在传送带一和传送带二上，所述滑块与滑槽形成移动并且跟拉杆一端铰接，拉杆的另一端与碗盖上的凸台铰接，所述碗盖则铰接在摇板上。

[0015] 所述摇板在靠近碗坯的一端和碗盖上均加工有小孔。

[0016] 所述滑块、滑槽均为T字型。

[0017] 本发明的显著效果在于：

[0018] 1、本发明的传送带一和传送带二是通过固定连接在支架一段的低速电机直接驱动，不需要购买减速器或者变频器设备，结构简单、紧凑，且电机将能量输入给传送带，损耗少，因此效率高；

[0019] 2、上釉过程中只需要两位工人操作，一位在B工位处将碗坯放入摇板装料，另一位在A工位处将上好釉的碗坯取出即可，其他的动作都是设备自动完成，由于碗坯盖和摇板共同形成一个箱形结构，可以一次装入多个碗坯集中上釉，因此上釉效率比较高；

[0020] 3、本装置对异形碗坯的适应性也很好；

[0021] 4、上釉过程是将碗坯直接浸入到釉池当中，且碗坯底部与摇板的接触位置上摇板加工有若干个孔，碗盖也是多孔结构，因此，上釉过程碗坯是充分泡在釉水中，明显无死角，上釉质量能得到绝对的保证；

[0022] 5、本装置的碗坯夹紧机构非常简单，一个电磁铁和拉紧弹簧在不同时间推拉滑块，滑块再通过拉杆使碗坯盖打开或者闭合即可实现对碗坯位置的限定，动作响应迅速，也比较可靠。

附图说明

[0023] 图1是本发明的结构示意图；

[0024] 其中：1-拉杆；2-碗坯；3-碗坯盖；4-摇板；5-电磁铁；6-低速电机；7-整体支架；8-传送带一；9-传送带二；10-釉池；11-位置传感器；12-拉紧弹簧；13-滑槽；14-滑块。

[0025] 图2是本发明的两工位示意图。

[0026] 其中：A处为卸料工位示意图；B处为上料工位示意图。

[0027] 图3是局部C处碗坯盛放机构放大示意图。

具体实施方式

[0028] 如图2、3所示，首先是碗坯2的夹紧过程，碗坯2盛放机构运动到B工位处，此时电磁铁5处于得电状态，滑块14吸附沿滑槽13移动并使拉杆1驱动碗坯盖3摆动，碗坯盖3打开，操作人员将碗坯2放入摇板4中，随后电磁铁5失电。滑块14在拉紧弹簧12的作用下沿滑槽13移动，继而碗坯盖3关闭，将碗坯2限制在一定区域内，完成碗坯2的位置限定过程。

[0029] 对照图1，待碗坯2位置限定好之后低速电机6转动，低速电机6驱动传送带一8和传送带二9在整体支架7上转动，碗坯盛放机构与传送带一8和传送带二9上的铰接凸台铰接，并随着传送带一8和传送带二9转动而不断发生位置变化，当碗坯盛放机构运动到处于整体支架7横梁上的釉池10上方时碗坯2浸入到釉池10中，从而完成上釉。

[0030] 当上釉完成后，碗坯盛放机构继续随着传送带一8和传送带二9运动，当运动到A工位时，位置传感器11检测到碗坯2，此时电磁铁5得电，滑块14被拉回，碗坯盛放机构的碗坯盖3打开，操作人员将碗坯2取出，从而完成碗坯2卸料过程，随后碗坯盛放紧机构运动到A工位，继续上料进行下一个上釉循环。