掩模挡板及其制造方法

摘要

本发明公开了一种掩模挡板及其制造方法，其中该掩模挡板的制造方法包括：步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。本发明的技术方案在不但实现了掩模板的共用化设计，而且由于在进行构图工艺时仅需要进行一次曝光工艺，因此可有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。

权利要求

1.一种掩膜挡板的制造方法，其特征在于，包括：

步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；

步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。

2.根据权利要求1所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，在步骤S1之前还包括：步骤S0、调整所述至少一块遮光板的位置，所述遮光板遮挡共用掩模板的部分所述第一透光区域以形成所述第二透光区域。

3.根据权利要求2所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述步骤S0位于所述步骤S1之后。

4.根据权利要求1所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述步骤S2包括：步骤S21、在所述遮光层上形成负性光刻胶，所述负性光刻胶包括：保留区域和非保留区域，所述保留区域对应所述第二透光区域；

步骤S22、曝光光线通过所述第二透光区域对所述负性光刻胶的保留区域进行曝光；

步骤S23、对曝光后的所述负性光刻胶进行显影；

步骤S24、对所述遮光层进行刻蚀形成所述遮光图案；

步骤S25、对所述遮光图案上的负性光刻胶进行剥离。

5.根据权利要求1-4中任一所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述遮光板的数量为四块，其中两块所述遮光板在第一平面内平行设置且在所述第一平面内沿第一方向运动，另外两块所述遮光板在第二平面内平行设置且在所述第二平面内沿第二方向运动，所述第一方向与所述第二方向垂直。

6.根据权利要求1-4中任一所述的掩膜挡板的制造方法，其特征在于，所述遮光层的材料为金属材料。

7.一种掩膜挡板，其特征在于，所述掩膜挡板采用上述权利要求1至6中任一所述的掩膜挡板的制造方法制成。

说明书

掩模挡板及其制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及显示技术领域，特别涉及掩模挡板及其制造方法。

背景技术

[0002] 在液晶显示面板生产中，需要在阵列基板或者彩膜基板上滴注液晶和封框胶，然后将两基板进行对盒，再将封框胶固化，其中，封框胶的作用是粘接阵列基板和彩膜基板，并且保护中间的液晶不受外界空气和水的影响。

[0003] 其中，在两基板对盒后，需要对封框胶进行紫外固化，其中在进行紫外固化时，需要用到于与待固化产品尺寸相对应的紫外固化用的掩模挡板，该掩模挡板包括透光区域和非透光区域，其中掩模挡板板的透光区域对应待固化产品中的封框胶位置，从而使得紫外光线能对封框胶进行紫外固化，掩模挡板的非透光区域对应待固化产品的显示区域，从而避免紫外光线对显示区域内部件的损坏。

[0004] 该掩模挡板具体包括透明衬底和位于透明衬底上的遮光图案，该遮光图案即为掩模挡板的非透光区域，现有技术中形成掩模挡板的方法大致如下，首先在透明衬底上沉积一层遮光材料；然后在遮光材料上涂覆正性光刻胶，该正性光刻胶包括保留区域和非保留区域；再然后选取相应尺寸的掩模板来对正性光刻胶的保留区域进行曝光；最后通过显影、刻蚀、正性光刻胶剥离等步骤得该遮光图案。

[0005] 然而，由于待固化产品尺寸大小存在差异，因此在紫外固化过程中所使用的掩模挡板也会不同(掩模挡板上遮光区域的大小和分布均变化)，同时生产这些不同的掩模挡板需要用到不同的掩模板(在曝光过程中)。而配置这些不同的掩模板会给整个产线带来较大的成本，使得经济为效应降低。

[0006] 为解决上述问题，目前一些厂商采用共用化设计，仅利用在生产大尺寸待固化产品对应的掩模挡板时所使用的大尺寸掩模板，来生产小尺寸待固化产品对应的掩模挡板。

[0007] 图1为正性光刻胶对应的大尺寸掩模板的示意图，图2为正性光刻胶经过四次曝光的示意图，如图1和图2所示，其具体地生产过程如下：首先在透明衬底上形成遮光材料，并在遮光材料上形成正性光刻胶，由于遮光材料上方的光刻胶为正性光刻胶，因此该大尺寸掩模板的中间位置为非透光区域1，大尺寸掩模板的周边位置为透光区域2；然后安装大尺寸掩模板，并将大尺寸掩模板与透明衬底进行对位；再然后调整四次透明衬底的位置(上、下、左、右各一次)，并每调整一次位置后均进行一次曝光处理，经过四次曝光后正性光刻胶上仅有一个小块区域没有被曝光；再经过显影步骤、刻蚀步骤后，该小块区域的正性光刻胶下方的遮光材料得到保留即为遮光图案；最后进行光刻胶剥离步骤得到小尺寸待固化产品对应的掩模挡板。

[0008] 然而，现有的这种利用大尺寸掩模板生产小尺寸待固化产品对应的掩模挡板的过程中，需要在对位后移动四次透明衬底，并进行四次曝光过程，从而使得生产工艺的时间偏长，生产效率较低。

发明内容

[0009] 本发明提供一种掩模挡板及其制造方法，在实现利用大尺寸掩模板生产小尺寸待固化产品对应的掩模挡板的同时，能有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。

[0010] 为实现上述目的，本发明提供一种掩膜挡板的制造方法，包括：

[0011] 步骤S1、在透明衬底上形成遮光层；

[0012] 步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对所述遮光层进行构图工艺形成遮光图案，所述掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，所述公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，所述至少一块遮光板用于遮挡部分所述第一透光区域以形成第二透光区域，所述第二透光区域对应于所述遮光图案。

[0013] 可选地，在步骤S1之前还包括：

[0014] 步骤S0、调整所述至少一块遮光板的位置，所述遮光板遮挡共用掩模板的部分所述第一透光区域以形成所述第二透光区域。

[0015] 可选地，所述步骤S0位于所述步骤S1之后。

[0016] 可选地，所述步骤S2包括：

[0017] 步骤S21、在所述遮光层上形成负性光刻胶，所述负性光刻胶包括：保留区域和非保留区域，所述保留区域对应所述第二透光区域；

[0018] 步骤S22、曝光光线通过所述第二透光区域对所述负性光刻胶的保留区域进行曝光；

[0019] 步骤S23、对曝光后的所述负性光刻胶进行显影；

[0020] 步骤S24、对所述遮光层进行刻蚀形成所述遮光图案；

[0021] 步骤S25、对所述遮光图案上的负性光刻胶进行剥离。

[0022] 可选地，所述遮光板的数量为四块，其中两块所述遮光板在第一平面内平行设置且在所述第一平面内沿第一方向运动，另外两块所述遮光板在第二平面内平行设置且在所述第二平面内沿第二方向运动，所述第一方向与所述第二方向垂直。

[0023] 可选地，所述遮光层的材料为金属材料。

[0024] 为实现上述目的，本发明还提供一种掩膜挡板，所述掩膜挡板采用上述的掩膜挡板的制造方法制成。

[0025] 本发明具有以下有益效果：

[0026] 本发明提供了一种掩模挡板及其制造方法，通过在遮光层上涂布负性光刻胶，且利用至少一块遮光板遮挡共用掩模板的第一透光区域以形成第二透光区域，该第二透光区域对应遮光图案，从而实现了掩模板的共用化设计。同时，在进行构图工艺时仅需要进行一次曝光工艺，因此可有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。

附图说明

[0027] 图1为正性光刻胶对应的大尺寸掩模板的示意图；

[0028] 图2为正性光刻胶经过四次曝光的示意图；

[0029] 图3为本发明实施例提供的掩膜挡板的制造方法的流程图；

[0030] 图4为本发明中共用掩模板的示意图；

[0031] 图5为本发明实施例提供的掩膜挡板的又一制造方法的流程图；

[0032] 图6为本发明实施例提供的掩膜挡板的另一制造方法的流程图；

[0033] 图7为本发明中掩模装置的俯视图；

[0034] 图8为图7的右视图。

具体实施方式

[0035] 为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的掩模挡板及其制造方法进行详细描述。

[0036] 图3为本发明实施例提供的掩膜挡板的制造方法的流程图，如图3所示，其中该掩膜挡板为紫外固化用的掩模挡板，该制造方法包括：

[0037] 步骤S1、在透明衬底上形成遮光层。

[0038] 具体地，通过气相沉积工艺在透明衬底上沉积一层遮光材料，该层遮光材料即为遮光层。

[0039] 可选地，该遮光材料为金属材料。

[0040] 步骤S2、通过预先形成的掩膜装置对遮光层进行构图工艺形成遮光图案，掩膜装置包括公用掩膜板和至少一块遮光板，公用掩膜板包括第一透光区域和非透光区域，至少一块遮光板用于遮挡部分第一透光区域以形成第二透光区域，第二透光区域对应于遮光图案。

[0041] 需要说明的是，本发明中所称的构图工艺包括光刻胶涂布、掩模、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等部分或全部工艺。其中，在本实施例中所用的光刻胶为负性光刻胶。

[0042] 图4为本发明中共用掩模板的示意图，如图4所示，本实施例中所称的共用掩模板为生产大尺寸待固化产品对应的掩模挡板时所使用的大尺寸掩模板，由于在构图工艺中所使用的光刻胶为负性光刻胶，因此该共用掩模板的中间位置为第一透光区域3，该共用掩模板的周边位置为非透光区域4。在对遮光层上方的负性光刻胶进行曝光之前，需要利用遮光板遮挡第一透光区域3以形成第二透光区域，此时第二透光区域的面积要小于第一透光区域的面积，因此负性光刻胶上被光照射到的区域面积(曝光面积)相应的减小。

[0043] 在进行显影、刻蚀以及光刻胶剥离等工艺后，在遮光层上形成遮光图案，该遮光图案与第二透光区域对应。

[0044] 其中，第二透光区域的形状和面积可以根据实际的生产需要来进行相应的调整。图5为本发明实施例提供的掩膜挡板的又一制造方法的流程图，如图5所示，在步骤S1之前还包括：

[0045] 步骤S0、调整至少一块遮光板的位置，遮光板遮挡共用掩模板的部分第一透光区域以形成第二透光区域。

[0046] 可选地，步骤S0还可以位于步骤S1之后(此情况未给出相应的流程图)。在本实施例中，仅需保证步骤S0先于步骤S2执行即可。

[0047] 在本实施例中，假定该大尺寸待固化产品的尺寸大小为第一尺寸，且生产第一尺寸待固化产品对应的掩模挡板时使用的掩模板为共用掩模板，则利用该共用掩模板可以生产出满足尺寸大小小于第一尺寸的待固化产品其所对应的掩模挡板，即实现了掩模板的共用化设计。此外，在进行构图工艺时仅需要进行一次曝光工艺，因此可有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。

[0048] 图6为本发明实施例提供的掩膜挡板的另一制造方法的流程图，如图6所示，该制造方法包括：

[0049] 步骤S0、调整至少一块遮光板的位置，遮光板遮挡共用掩模板的部分第一透光区域以形成第二透光区域。

[0050] 图7为本发明中掩模装置的俯视图，图8为图7的右视图，如图7和图8所示，该掩模装置包括共用掩模板6和四块遮光板7(8)，其中两块遮光板7在第一平面内平行设置且在第一平面内沿第一方向运动，另外两块遮光板8在第二平面内平行设置且在第二平面内沿第二方向运动，第一方向与第二方向垂直。在步骤S0中，通过调整四块遮光板7(8)的位置，可实现利用至少一块遮光板7(8)配合共用掩模板以围成第二透光区域5，或者利用四块遮光板7(8)围成第二透光区域5。需要说明的是，图7中所示的共用掩模板6和遮光板7(8)的形状大小并不对本申请的技术方案产生限制，共用掩模板6的图形与遮光板7(8)的图形仅起到示意性作用。

[0051] 此外，本发明中的遮光板具体可以为曝光机上的遮光板(shutter)。

[0052] 步骤S1、在透明衬底上形成遮光层。

[0053] 在步骤S1中，通过气相沉积工艺在透明衬底上沉积一层遮光材料，该层遮光材料即为遮光层。

[0054] 步骤S21、在遮光层上形成负性光刻胶，负性光刻胶包括：保留区域和非保留区域，非保留区域对应第二透光区域。

[0055] 在步骤S21中，利用涂胶机在遮光层上涂布一层负性光刻胶。

[0056] 步骤S22、曝光光线通过第二透光区域对负性光刻胶的非保留区域进行曝光。

[0057] 在步骤S22中，曝光机产生的曝光光线透过第二透光区域，从而照射至负性光刻胶的保留区域，从而使得负性光刻胶的保留区域变性而具备抗蚀能力。

[0058] 步骤S23、对曝光后的负性光刻胶进行显影。

[0059] 在步骤S23中，利用显影液对负性光刻胶进行显影，保留区域的负性光刻胶因为变性而得到保留，非保留区域的负性光刻胶溶解于显影液中。

[0060] 步骤S24、对遮光层进行刻蚀形成遮光图案。

[0061] 在步骤S24中，通过刻蚀工艺对遮光层进行刻蚀，覆盖有负性光刻胶的遮光材料得到保留，即为所需要的遮光图案。

[0062] 步骤S25、对遮光图案上的负性光刻胶进行剥离。

[0063] 在步骤S25中，通过剥离工艺使得遮光图案上的负性光刻剥离，从而得到掩膜挡板，流程结束。

[0064] 本发明实施例提供了一种掩模挡板的制造方法，通过在遮光层上涂布负性光刻胶，且利用至少一块遮光板遮挡共用掩模板的第一透光区域以形成第二透光区域，该第二透光区域对应遮光图案，从而实现了掩模板的共用化设计。同时，在进行构图工艺时仅需要进行一次曝光工艺，因此可有效的缩短生产工艺的时间，提升生产效率。

[0065] 本发明实施例还提供了一种掩膜挡板，该掩膜挡板采用本发明中任一实施例提供的掩膜挡板的制造方法制成。

[0066] 可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。