曝光装置

摘要

本发明提供一种卷对卷方式的曝光装置，可以自动进行掩模板的图案面的除尘，并且，不对曝光动作造成影响便能进行掩模板的图案面的除尘。其具体为，具备：曝光载物台(240)，具有保持基板(W)的曝光工作台(241)，可沿z轴与基板(W)一起升降；掩模除尘部(230)，将从掩模板(210)的后方侧端部(210a)沿x轴离开规定间隔的第1位置(x1)和从掩模板(210)的前方侧端部(210b)沿x轴离开规定间隔的第2位置(x4)之间作为往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对掩模板(210)的图案面(M)除尘的动作；掩模除尘部控制装置(400)，控制掩模除尘部(230)的往复移动；及曝光载物台控制装置(500)，控制曝光载物台(240)的升降。

权利要求

1.一种曝光装置，是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使所述基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，使所述基板沿由x轴及y轴形成的xy平面中的x轴朝向所述卷绕部的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧时，则具有：曝光载物台，配置在夹着所述基板而与所述掩模板相对的位置上，可沿与xy平面正交的z轴与所述基板一起升降；

掩模除尘部，可实现沿x轴的往复移动且可与所述曝光载物台一起沿z轴升降，并且被设置在所述曝光载物台上，以从所述基板的感光面沿z轴离开的状态位于所述掩模板侧，至少将从所述掩模板的所述后方侧端部沿x轴进一步向后方侧离开规定间隔的第1位置和从所述掩模板的所述前方侧端部沿x轴进一步向前方侧离开规定间隔的第2位置之间的范围作为所述往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对所述掩模板的图案面除尘的动作；

掩模除尘部驱动机构部，用于使所述掩模除尘部进行所述往复移动；

掩模除尘部控制装置，通过控制所述掩模除尘部驱动机构部而控制所述掩模除尘部的所述往复移动；

曝光载物台驱动机构部，用于可使所述曝光载物台沿z轴升降；

及曝光载物台控制装置，通过控制所述曝光载物台驱动机构部而控制所述曝光载物台的升降，所述掩模除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，

所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下进行旋转前进的动作，从所述掩模除尘部相对于所述掩模板沿x轴及z轴分别离开的位置使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面接触时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，

使所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，当所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置时，使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近接触，使所述基板的感光面曝光时，

所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部处于到达所述第1位置或所述第2位置的状态，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，在所述掩模除尘部到达所述第1位置或所述第2位置的状态下，使所述曝光载物台沿z轴移动而使所述基板的感光面和所述掩模板的图案面处于接触或接近的状态。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述掩模除尘部在间歇地各按规定量搬运所述基板的期间内进行对所述掩模板的图案面除尘的动作。

3.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

将所述掩模除尘部沿所述可动范围内向所述前方侧前进的动作作为前方前进动作，将所述掩模除尘部沿所述可动范围内向所述后方侧前进的动作作为后方前进动作时，所述掩模除尘部分别在所述前方前进动作及所述后方前进动作中进行对所述掩模板的图案面除尘的动作，分别在所述前方前进动作及所述后方前进动作中对所述掩模板的图案面进行除尘的动作在间歇地各按规定量搬运所述基板的期间内交互进行。

4.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述掩模除尘部设置在所述曝光载物台上，当处于与所述掩模板的图案面接触的状态时，通过弹簧的弹性力而作用推压所述图案面的力。

5.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

所述掩模除尘部具有沿所述掩模板的图案面中的y轴方向的吸引口，是通过吸引而对所述掩模板的图案面进行除尘的吸引式掩模除尘部，所述吸引式掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面之间具有规定空隙的状态下发挥吸引力并沿所述掩模板的图案面且沿x轴方向前进的动作。

6.根据权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，

具有基板除尘部，对所述基板的至少所述感光面进行除尘。

7.根据权利要求6所述的曝光装置，其特征在于，

所述基板除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，其以与所述基板的至少感光面接触的状态而被设置，伴随间歇地各按规定量搬运所述基板时的所述基板的搬运而旋转。

说明书

曝光装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种曝光装置，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，通过使基板的感光面曝光而在基板上转印图案。

背景技术

[0002] 以往已知有各种曝光装置，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，通过使基板的感光面曝光而在基板上转印图案。在这种曝光装置中，不只是对基板的感光面进行除尘，对掩模板的与基板的相对面(称为掩模板的图案面)进行除尘也很重要。这是因为在掩模板的图案面上存在尘埃时，则曝光时尘埃会与形成在掩模上的图案一起被转印，发生该基板成为次品的不良现象。

[0003] 然而，在这种曝光装置中，不仅仅只是将一张一张呈短尺寸片状的基板作为曝光对象的曝光装置，还有将长尺寸片状基板作为曝光对象的曝光装置。

[0004] 将长尺寸片状基板作为曝光对象的曝光装置是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使基板的感光面曝光的装置，作为所谓的卷对卷(Roll to Roll)方式的曝光装置而在以往为人所知(例如参照专利文献1)。

[0005] 图8是为了说明专利文献1所记载的曝光装置900而示出的图。如图8所示，专利文献1所公开的曝光装置900是在输送长尺寸片状基板910的输送部920和卷绕完成曝光的基板的卷绕部930之间配置曝光部940，在搬运基板910的过程中，使基板910的感光面和掩模板950的图案面相面对，并使基板910的感光面曝光的“卷对卷方式的曝光装置”。

[0006] 另外，由于专利文献1所记载的曝光装置900是如下装置，即基板910的两面为感光面，能够使基板910的两面同时曝光，因此掩模板950被上下分别设置为夹着基板910。另外，在以下的说明中，将上侧的掩模板950作为上侧掩模板951，将下侧的掩模板950作为下侧掩模板952而进行说明。

[0007] 在这种卷对卷方式的曝光装置中，对掩模板950(上侧掩模板951及下侧掩模板952)的各图案面进行除尘也很重要。在专利文献1所记载的曝光装置900中，上侧掩模板951及下侧掩模板952中的各图案面的除尘如下进行。

[0008] 在专利文献1所记载的曝光装置900中，进行上侧掩模板951的除尘时，利用可使基板910沿z轴升降的高度调节辊960，使基板910沿z轴上升，由此使基板910离开下侧掩模板952，并且通过使上侧掩模板951沿z轴上升，而使上侧掩模板951离开基板910，在该状态下，对上侧掩模板951的图案面进行除尘。

[0009] 另一方面，进行下侧掩模板952的除尘时，使上侧掩模板951沿z轴上升而与下侧掩模板952之间形成较宽的间隔，并且利用高度调节辊960使基板910离开下侧掩模板952，在该状态下，对下侧掩模板952进行除尘。

[0010] 专利文献1：日本国特开2001-125274号公报

[0011] 如上所述，在专利文献1所记载的曝光装置900中对掩模板950(上侧掩模板951及下侧掩模板952)的各图案面进行除尘时，为了便于上侧掩模板的图案面及下侧掩模板的图案面的除尘，进行使基板及上侧掩模板移动的操作，使各图案面和基板隔开间隔，在此基础上，进行上侧掩模板的图案面及下侧掩模板的图案面的除尘。另外，在专利文献1所记载的曝光装置900中，由于并未特别设置用于对掩模板的图案面进行除尘的除尘装置，因此可以认为掩模板的图案面的除尘是作业人员通过人工作业而进行的。因此，进行掩模板的图案面的除尘时花费很多的精力和时间。

[0012] 另外，在专利文献1所记载的曝光装置900中，进行掩模板的图案面的除尘时，需要使曝光动作停止。因此，在原本应该能够实现高速有效的曝光的卷对卷方式的曝光装置中，为了掩模的除尘而较大地损害高速化及高效化。尤其是在要进行更高品质的曝光时，由于要求频繁进行掩模的除尘，因此每次进行掩模的除尘，都需要每次进行如上所述的工序，变为更大地损害高速化及高效化。

[0013] 另外，在本说明书中，“曝光动作”是指“在间歇地各按规定量搬运长尺寸片状基板的过程中，使基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使基板的感光面曝光的动作”。

发明内容

[0014] 本发明是鉴于上述情况而进行的，其目的在于提供一种曝光装置，在卷对卷方式的曝光装置中，可以自动进行掩模板的图案面的除尘，而且，不对该卷对卷方式的曝光装置进行的曝光动作造成影响便能进行掩模板的图案面的除尘。

[0015] [1]本发明的曝光装置是在间歇地各按规定量搬运架设在输送部和卷绕部之间的长尺寸片状基板的过程中，使所述基板的感光面和掩模板的图案面相面对，并使所述基板的感光面曝光的曝光装置，其特征在于，使所述基板沿由x轴及y轴形成的xy平面中的x轴朝向所述卷绕部的一侧为前方侧，使与该前方侧相反一侧为后方侧时，则具有：曝光载物台，配置在夹着所述基板而与所述掩模板相对的位置上，可沿与xy平面正交的z轴与所述基板一起升降；掩模除尘部，可实现沿x轴的往复移动且可与所述曝光载物台一起沿z轴升降，并且被设置在所述曝光载物台上，以从所述基板的感光面沿z轴离开的状态位于所述掩模板侧，至少将从所述掩模板的所述后方侧端部沿x轴进一步向后方侧离开规定间隔的第1位置和从所述掩模板的所述前方侧端部沿x轴进一步向前方侧离开规定间隔的第2位置之间的范围作为所述往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对所述掩模板的图案面除尘的动作；掩模除尘部驱动机构部，用于使所述掩模除尘部进行所述往复移动；掩模除尘部控制装置，通过控制所述掩模除尘部驱动机构部而控制所述掩模除尘部的所述往复移动；曝光载物台驱动机构部，用于可使所述曝光载物台沿z轴升降；及曝光载物台控制装置，通过控制所述曝光载物台驱动机构部而控制所述曝光载物台的升降，所述掩模除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，所述掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面接触的状态下进行旋转前进的动作，从所述掩模除尘部相对于所述掩模板沿x轴及z轴分别离开的位置使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面接触时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，当所述掩模除尘部到达与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置时，使所述掩模除尘部与所述掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近接触，使所述基板的感光面曝光时，所述掩模除尘部控制装置控制所述掩模除尘部驱动机构部，使所述掩模除尘部处于到达所述第1位置或所述第2位置的状态，所述曝光载物台控制装置控制所述曝光载物台驱动机构部，在所述掩模除尘部到达所述第1位置或所述第2位置的状态下，使所述曝光载物台沿z轴移动而使所述基板的感光面和所述掩模板的图案面处于接触或接近的状态。

[0016] 本发明的曝光装置呈如下构成，掩模除尘部在沿x轴的方向上将比掩模板宽的范围(第1位置和第2位置之间的范围)作为可动范围，通过沿该可动范围前进而对掩模板的图案面进行除尘。而且，使基板的感光面曝光时，在掩模除尘部到达第1位置或所述第2位置的状态下，使曝光载物台沿z轴移动而使基板的感光面和掩模板的图案面处于接触或接近的状态，从而进行曝光。由此，根据本发明的曝光装置，在卷对卷方式的曝光装置中，也可以自动进行掩模板的图案面的除尘，而且，不对该卷对卷方式的曝光装置进行的曝光动作造成影响，便能进行掩模板的图案面的除尘。

[0017] 另外，根据本发明的曝光装置，掩模除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，由于掩模除尘部对掩模板的图案面进行除尘的动作是在与掩模板的图案面接触的状态下进行旋转前进的动作，因此可以高效且切实地对掩模板的图案面进行除尘。

[0018] 另外，根据本发明的曝光装置，掩模除尘部控制装置及曝光载物台控制装置分别控制掩模除尘部驱动机构部及曝光载物台驱动机构部，当掩模除尘部到达与掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近相对的位置时，使掩模除尘部与掩模板的图案面中的沿x轴的端部附近接触。因此，掩模除尘部沿x轴前进时，掩模除尘部不产生向沿着x轴的掩模除尘部的前进方向推压掩模板端部的动作。由此，可以防止掩模板的位置偏移，另外，还可以防止掩模板端部中的角部等破损。

[0019] [2]在本发明的曝光装置中，优选所述掩模除尘部在间歇地各按规定量搬运所述基板的期间内进行对所述掩模板的图案面除尘的动作。

[0020] 如此，由于在搬运基板的期间内进行对掩模板的图案面除尘的动作，因此不对卷对卷方式的曝光装置进行的原本的曝光动作造成影响，便能对掩模板的图案面进行除尘。由此，能够保持卷对卷方式的曝光装置原本具有的曝光动作速度。

[0021] [3]在本发明的曝光装置中，优选将所述掩模除尘部沿所述可动范围内向所述前方侧前进的动作作为前方前进动作，将所述掩模除尘部沿所述可动范围内向所述后方侧前进的动作作为后方前进动作时，所述掩模除尘部分别在所述前方前进动作及所述后方前进动作中进行对所述掩模板的图案面除尘的动作，分别在所述前方前进动作及所述后方前进动作中对所述掩模板的图案面进行除尘的动作在间歇地各按规定量搬运所述基板的期间内交互进行。

[0022] 如此，掩模除尘部沿该掩模除尘部的可动范围进行前方前进动作及后方前进动作时，分别在前方前进动作及后方前进动作中进行对掩模板的图案面除尘的动作。另外，分别在前方前进动作及后方前进动作中对掩模板的图案面进行除尘的动作在间歇地各按规定量搬运基板的动作之间交互进行。因此，能够简洁有效地进行基板的搬运动作和掩模除尘部的除尘动作。另外，由于间歇地进行曝光动作时，在曝光动作和曝光动作之间一定会对掩模板的图案面进行除尘，因此可以始终在对掩模板的图案面进行了除尘的状态下进行曝光。

[0023] [4]在本发明的曝光装置中，优选所述掩模除尘部设置在所述曝光载物台上，当处于与所述掩模板的图案面接触的状态时，通过弹簧的弹性力而作用推压所述图案面的力。

[0024] 因此，可以使掩模除尘部以适当的推压力与图案面接触，不需要高精度地进行接触时的推压力的控制等。另外，掩模除尘部和图案面的间隔(沿z轴的间隔)也不需要高精度地进行调整，可以减轻掩模除尘部和图案面的间隔(沿z轴的间隔)的调整作业。

[0025] [5]在本发明的曝光装置中，优选所述掩模除尘部具有沿所述掩模板的图案面中的y轴方向的吸引口，是通过吸引而对所述掩模板的图案面进行除尘的吸引式掩模除尘部，所述吸引式掩模除尘部对所述掩模板的图案面进行除尘的动作是在与所述掩模板的图案面之间具有规定空隙的状态下发挥吸引力并沿所述掩模板的图案面且沿x轴方向前进的动作。

[0026] 作为掩模除尘部，通过使用这种吸引式掩模除尘部，也可以得到与由上述[1]至[3]的发明得到的效果相同的效果。

[0027] [6]在本发明的曝光装置中，优选具有基板除尘部，对所述基板的至少所述感光面进行除尘。

[0028] 由此，不只是掩模板的图案面的除尘，还可以进行基板的至少感光面的除尘。

[0029] [7]在本发明的曝光装置中，优选所述基板除尘部呈至少表面具有粘附力的辊状，其以与所述基板的至少感光面接触的状态而被设置，伴随间歇地各按规定量搬运所述基板时的所述基板的搬运而旋转。

[0030] 由此，可以高效且切实地对掩模板的图案面进行除尘。另外，由于在搬运基板的期间内进行对基板的至少感光面除尘的动作，因此不对卷对卷方式的曝光装置进行的原本的曝光动作造成影响，便能对基板的至少感光面进行除尘。由此，能够保持卷对卷方式的曝光装置原本具有的曝光动作速度。另外，也可以是用具有除尘功能的2个辊夹着基板的构成，通过成为这种构成，可以同时对基板的两面进行除尘。

附图说明

[0031] 图1是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10而示出的整体构成图。

[0032] 图2是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10中的曝光部200的构成而示出的图。

[0033] 图3是示出实施方式所涉及的曝光装置10中的掩模除尘部控制装置400及曝光载物台控制装置500的构成的图。

[0034] 图4是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10的动作而示出的图。

[0035] 图5是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10的动作而示出的图。

[0036] 图6是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10的动作而示出的图。

[0037] 图7是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10的动作而示出的图。

[0038] 图8是为了说明专利文献1所记载的曝光装置900而示出的图。

[0039] 符号说明

[0040] 10-曝光装置；100-搬运机构；130-间歇进给机构部；140-基板除尘辊(基板除尘部)；200-曝光部；210-掩模板；220-掩模板保持部；230-掩模除尘辊(掩模除尘部)；240-曝光载物台；241-曝光工作台；250-掩模除尘部驱动机构部；251L、251R-导轨；252L、252R-滑块；253L、253R-掩模除尘部用滚珠螺杆；257-弹簧；260-曝光载物台驱动机构部；261-升降台；263-曝光载物台用滚珠螺杆；300-曝光装置框体；400-掩模除尘部控制装置；500-曝光载物台控制装置；A-感光面；A1、A2-感光区域。

具体实施方式

[0041] 以下，对本发明的实施方式进行说明。

[0042] (实施方式1)

[0043] 图1是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10而示出的整体构成图。另外，图1是模式化示出实施方式1所涉及的曝光装置10的图，对于为了说明实施方式所涉及的曝光装置10而不是特别必要的构成部件则省略图示。另外，由于图1是模式图，因此并不是将实际的构成部件的尺寸以同一比率进行缩小，而是夸张地画出或更加缩小地画出构成部件。

[0044] 如图1所示，实施方式所涉及的曝光装置10具有：搬运机构部100，沿由x轴及y轴形成的xy平面中的x轴间歇地各按规定量搬运长尺寸片状基板W；曝光部200，使由搬运机构部100间歇地各按规定量搬运的基板W的感光面A曝光；曝光装置框体300，收纳有上述搬运机构部100及曝光部200；掩模除尘部控制装置400，控制曝光部200中的掩模除尘部230(在后面说明)；及曝光载物台控制装置500，控制曝光部200中的曝光载物台240(在后面说明)。虽然实施方式所涉及的曝光装置10除这些构成部件之外省略图示，但是还设置有静电消除部等，消除掩模板210及基板W等所带有的静电。

[0045] 搬运机构部100具有：输送部110，输送长尺寸片状基板W；卷绕部120，卷绕由曝光部200曝光的完成曝光的基板W；间歇进给机构部130，沿x轴间歇地各按规定量搬运基板W；基板除尘部140，与曝光部200相比配置在输送部110侧，对基板W的感光面A进行除尘；及进给辊151、152，设置在搬运路径上。另外，由于输送部110及卷绕部120分别呈辊状，因此以下称为输送辊110、卷绕辊120。

[0046] 如此，实施方式所涉及的曝光装置10是在间歇地各按规定量搬运卷绕在输送辊110上的基板W的过程中，在通过曝光部200使基板W的感光面A曝光后，用卷绕辊卷绕完成曝光的基板W的“卷对卷(Roll to Roll)”方式的曝光装置。另外，在本说明书中，将基板W沿x轴而被搬向卷绕部120的一侧作为前方侧，将与该前方侧相反一侧作为后方侧而进行说明。

[0047] 搬运机构部100中的间歇进给机构部130例如依次反复进行如下动作，使固定夹持器131松开，由进给夹持器132夹住基板W并仅输送规定量，在仅输送规定量后由固定夹持器夹住基板W，其后，再次使固定夹持器131松开，由进给夹持器132夹住基板W并仅搬运规定量，在仅搬运规定量后由固定夹持器夹住基板W。由此，可以间歇地按规定量输送基板W。另外，间歇进给机构部130的构成不限于这种构成，可以采用各种构成的间歇进给机构部。

[0048] 另外，基板除尘部140是对从输送辊110输送的基板W进行除尘的部件，呈在表面具有粘附力的辊状，在实施方式所涉及的曝光装置10中使用令具有粘附力的构件(例如具有粘附力的橡胶等)形成为辊状的部件。

[0049] 如此，由于基板除尘部140呈辊状，因而也将基板除尘部140称为“基板除尘辊140”。另外，虽然基板除尘辊140是具有粘附力的部件，但是其粘附力呈能够粘附去除基板W的感光面A上存在的尘埃的程度，其为不会对基板W的感光面A造成不良影响程度的粘附力。
另外，基板W的感光面A是指在基板W上涂布有光致抗蚀剂等的面，光致抗蚀剂处于已经干燥的状态。

[0050] 基板除尘辊140以夹着基板W的方式由2个辊141、142构成。另外，如果主要考虑进行基板W的感光面A的除尘，则也可以是仅感光面侧的辊141具有基板除尘功能，但是通过使2个辊141、142具备基板除尘功能，则不只是基板W的感光面A，还能实现与感光面A相反一侧的面的除尘。因此，优选辊142也具有基板除尘功能，其位于与基板W的感光面A相反一侧的面上。

[0051] 图2是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10中的曝光部200的构成而示出的图。图2(a)是从输送辊110侧沿X轴观察图1中的曝光部200时的侧视图，图2(b)是图2(a)中的a-a向视俯视图。参照图2对曝光部200进行说明。

[0052] 曝光部200具有：未图示的光源；掩模板210，由透明玻璃等的透光性构件构成，具有规定的厚度；掩模板保持部220，在使图案面M朝下的状态下保持掩模板210；掩模除尘部230，进行对图案面M除尘的动作；曝光载物台240，配置在夹着基板W而与掩模板210相对的位置上，可沿与xy平面正交的z轴升降；掩模除尘部驱动机构部250，用于使掩模除尘部230沿x轴往复移动；及曝光载物台驱动机构部260，用于使曝光载物台240沿z轴升降。

[0053] 另外，在实施方式1所涉及的曝光装置10中，掩模板210沿x轴的长度与掩模板保持部220沿x轴的长度为相同的长度L1(参照图1)。另外，掩模板保持部220是沿z轴具有规定厚度的部件。

[0054] 掩模除尘部230呈在表面具有粘附力的辊状。在实施方式所涉及的曝光装置10中使用令具有粘附力的构件(例如具有粘附力的橡胶等)形成为辊状的部件。

[0055] 如此，由于掩模除尘部230呈辊状，因而也将掩模除尘部230称为“掩模除尘辊230”。另外，虽然掩模除尘辊230是具有粘附力的部件，但是其粘附力呈能够粘附去除掩模板210的图案面M上存在的尘埃的程度，其为不会对掩模板210的图案面M造成不良影响程度的粘附力。

[0056] 曝光载物台240具有曝光工作台241。曝光工作台241被配置为隔着基板W与掩模板210的图案面M相对，起到从下侧保持基板W的作用。

[0057] 另外，在曝光载物台240的左右两侧沿x轴形成有台架部242L、242R，其向沿y轴的方向突出。在台架部242L、242R上设置有掩模除尘部驱动机构部250，用于使掩模除尘辊230沿x轴往复移动。

[0058] 掩模除尘部驱动机构部250具有：导轨251L、251R，分别铺设在台架部242L、242R上；滑块252L、252R，可沿上述导轨251L、251R上滑动；滚珠螺杆253L、253R，用于使滑块252L、252R沿x轴往复移动；掩模除尘辊支撑部254L、254R，固定在滑块252L、252R上，在左右两侧将掩模除尘辊230的旋转轴231支撑为旋转自如；及马达(未图示)，用于对滚珠螺杆
253L、253R进行旋转驱动。另外，马达可以使用伺服马达。

[0059] 由于掩模除尘部驱动机构部250呈这种结构，因此滚珠螺杆253L、253R分别在同步的状态下向顺时针方向或逆时针方向旋转，由此滑块252L、252R沿x轴往复移动，据此，掩模除尘辊230也沿x轴往复移动。另外，掩模除尘辊230将曝光载物台240的沿x轴的一个端部240a和另一个端部240b之间内的规定范围作为可动范围(在后面说明)，通过掩模除尘部驱动机构部250而沿该可动范围内往复移动。

[0060] 例如，通过滚珠螺杆253L、253R向逆时针方向(观察前方侧时的逆时针方向)旋转，从而滑块252L、252R沿x轴向前方侧前进，由此，掩模除尘辊230也沿x轴向前方侧前进。

[0061] 例如，通过滚珠螺杆253L、253R向顺时针方向(观察前方侧时的顺时针方向)旋转，从而滑块252L、252R沿x轴向后方侧前进，由此，掩模除尘辊230也沿x轴向后方侧前进。

[0062] 如此构成的掩模除尘部驱动机构部250通过掩模除尘部控制装置400而被控制，由此，对掩模除尘辊230进行控制。

[0063] 进而，在掩模除尘辊支撑部254L、254R上分别形成有U字状轴承槽255(参照图1)，用于将掩模除尘辊230支撑为旋转自如。该轴承槽255的上端侧开口，掩模除尘辊230通过使旋转轴231从轴承槽255的开口落入，从而处于被轴承槽255支撑为旋转自如的状态。

[0064] 由于是这种结构，因此掩模除尘辊230容易在掩模除尘辊支撑部254L、254R上自由装拆，可以容易进行掩模除尘辊230的清扫、交换等的维护。另外，掩模除尘辊230不是通过动力进行旋转，而是以空转的方式被支撑在掩模除尘辊支撑部254L、254R上。

[0065] 另外，掩模除尘辊支撑部254L、254R通过导向销256和弹簧257而被支撑在滑块252L、252R上，在掩模除尘辊支撑部254L、254R上沿z轴向下方施加推压力时，则相对于该推压力，弹簧257的弹性力所产生的抵抗力发生作用。因此，使支撑在掩模除尘辊支撑部254L、
254R上的掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M抵接时，则掩模除尘辊230通过弹簧257的弹性力而以规定的推压力与掩模板210的图案面M接触。

[0066] 另一方面，曝光载物台240可通过曝光载物台驱动机构部260而沿z轴升降。曝光载物台驱动机构部260具有：升降台261，固定在曝光载物台240上；曝光载物台用滚珠螺杆263，用于使升降台261沿z轴升降；及马达(未图示)，用于对滚珠螺杆263进行旋转驱动。另外，马达可以使用伺服马达。

[0067] 如此构成的曝光载物台驱动机构部260通过使滚珠螺杆263向顺时针方向或逆时针方向旋转，从而可以使曝光载物台240沿z轴升降。另外，通过曝光载物台驱动机构部260使曝光载物台240升降时，则不只是曝光载物台240，搬运机构部100整体也进行升降。

[0068] 由此，例如使滚珠螺杆263向逆时针方向(沿z轴观察上方时的逆时针方向)旋转时，则曝光载物台240沿z轴上升，并且搬运机构部100也与曝光载物台240一起上升。另外，“搬运机构部100也与曝光载物台240一起上升”是指，输送辊110、卷绕辊120、间歇进给机构部130、基板除尘辊140及基板W与曝光载物台240一起上升。

[0069] 另一方面，使滚珠螺杆263向顺时针方向(沿z轴观察上方时的顺时针方向)旋转时，则曝光载物台240沿z轴下降，并且搬运机构部100也与曝光载物台240一起下降。另外，“搬运机构部100也与曝光载物台240一起下降”是指，输送辊110、卷绕辊120、间歇进给机构部130、基板除尘辊140及基板W与曝光载物台240一起下降。

[0070] 如此构成的曝光载物台驱动机构部260通过曝光载物台控制装置500而被驱动控制。

[0071] 另外，由于设置在掩模除尘部驱动机构部250上的滚珠螺杆253L、253R是用于驱动掩模除尘部230(掩模除尘辊230)的滚珠螺杆，因此有时也称为掩模除尘部用滚珠螺杆253L、253R。另外，由于设置在曝光载物台驱动机构部260上的滚珠螺杆263是用于驱动曝光载物台240的滚珠螺杆，因此有时也称为曝光载物台用滚珠螺杆263。

[0072] 图3是示出实施方式所涉及的曝光装置10中的掩模除尘部控制装置400及曝光载物台控制装置500的构成的图。图3(a)示出掩模除尘部控制装置400的构成，图3(b)示出曝光载物台控制装置500的构成。

[0073] 如图3(a)所示，掩模除尘部控制装置400具有：掩模除尘部用滚珠螺杆驱动部(伺服马达等)410，分别驱动掩模除尘部用滚珠螺杆253L、253R；存储部420，储存用于控制掩模除尘辊230前进的控制程序及用户的设定信息等；及前进控制部430，根据存储部420的存储内容控制掩模除尘部用滚珠螺杆驱动部410，由此控制掩模除尘辊230向前方侧或后方侧前进。

[0074] 如图3(b)所示，曝光载物台控制装置500具有：曝光载物台用滚珠螺杆駆動部(伺服马达等)510，驱动曝光载物台用滚珠螺杆263；存储部520，储存用于控制曝光载物台240升降的控制程序及用户的设定信息等；及升降控制部530，根据存储部520的存储内容控制曝光载物台用滚珠螺杆駆動部510，由此控制曝光载物台240的上升或下降。

[0075] 另外，虽然在图3中，分别在掩模除尘部控制装置400及曝光载物台控制装置500中设置存储部(存储部420及存储部520)，但是也可以共用1个存储部。

[0076] 图4至图7是为了说明实施方式所涉及的曝光装置10的动作而示出的图。图4(a)至图4(d)、图5(a)至图5(c)、图6(a)至图6(d)及图7(a)至图7(c)是示出各自的工序的图。另外，图4至图7是为了主要说明曝光部200中的掩模除尘辊230的动作的图。因此，图1所示的构成部件中的搬运机构部100省略图示，另外，在曝光部200中，曝光载物台驱动机构部260等也省略图示。另外，在曝光部200的图1及图2中标注的符号中也有省略的符号。

[0077] 另外，在图4至图7中，用于使掩模除尘辊230前进的控制通过图3(a)所示的掩模除尘部控制装置400而进行，用于使曝光载物台240升降的控制通过图3(b)所示的曝光载物台控制装置500而进行。

[0078] 在实施方式所涉及的曝光装置10中，基板W通过搬运机构部100而被间歇地各按规定量搬运，进行1次搬运后，基板W的感光面A中成为曝光对象的多个感光区域(以A1、A2···表示该感光区域)中的某一个感光区域(例如为感光区域A1)在曝光工作台241上处于与掩模板210的图案面M相面对的位置。而且，在感光区域A1与掩模板210的图案面M相面对的位置上基板W的搬运处于暂时停止的状态，通过在该状态下进行曝光，从而在感光区域A1上转印图案。

[0079] 而且，感光区域A1的曝光结束后，基板W仅被再次搬运规定量，在基板W的感光面A中下一个感光区域(例如为感光区域A2)在曝光工作台241上处于与掩模板210的图案面M相面对的位置。而且，在感光区域A2与掩模板210的图案面M相面对的位置上基板W的搬运处于暂时停止的状态，通过在该状态下进行曝光，从而在感光区域A2上转印图案。反复进行这种动作。

[0080] 在进行这种动作的过程中，基板W通过基板除尘辊140而进行除尘，掩模板210的图案面M通过掩模除尘辊230而进行除尘。由基板除尘辊140进行的基板W的除尘以及由掩模除尘辊230进行的掩模板210的图案面M的除尘在基板W被搬运的期间内进行。另外，由基板除尘辊140进行的基板W的除尘能够在每次搬运基板W时通过基板除尘辊140旋转来进行，因此，在此对掩模除尘辊230的除尘动作进行说明。

[0081] 图4(a)是掩模除尘辊230开始除尘动作之前的状态，将处于这种状态时的掩模除尘辊230的位置称为初始位置。此时，基板W已经开始搬运动作。

[0082] 掩模除尘辊230处于图4(a)所示的初始位置时，该掩模除尘辊230沿x轴的位置(旋转轴231沿x轴的位置)x1处于从掩模板210后方侧的端部(称为后方侧端部)210a沿x轴进一步向后方侧仅离开规定间隔的位置(也称为第1位置x1)。

[0083] 另外，掩模除尘辊230沿z轴的位置(掩模除尘辊230中的圆周上的上方侧顶点P1沿z轴的位置)z2处于与掩模板210的图案面M的位置z1相比向下方侧仅离开规定间隔的位置。

[0084] 掩模除尘辊230处于这种初始位置时，该掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M处于非接触的状态。

[0085] 掩模除尘辊230从处于图4(a)所示的初始位置的状态沿x轴向前方侧仅前进规定量，到达与掩模板210的后方侧端部210a附近的平面部，即图案面M的后方侧端部e1附近相对的位置x2时(参照图4(b))，曝光载物台240沿z轴上升规定量，掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M的后方侧端部e1附近接触(参照图4(c))。其后，掩模除尘辊230在与掩模板
210的图案面M接触的状态下沿x轴向前方(箭头x方向)前进。

[0086] 此时，掩模除尘辊230在弹簧257的弹性力发生作用的状态下，如图4(c)所示，在与掩模板210的图案面M接触的状态下旋转并前进。由此，可以使掩模板210的图案面M上存在的尘埃附着在掩模除尘辊230一侧，据此，可以对掩模板210的图案面M进行除尘。

[0087] 如此，在掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M接触的状态下，该掩模除尘辊230处于通过弹簧257的弹性力而推压掩模板210的图案面M的状态。因此，不需要特别进行掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M接触时的相对于掩模板210的推压力等的控制。

[0088] 另外，虽然掩模除尘辊230是具有粘附力的部件，但是由于其粘附力是粘附去除掩模板210的图案面M上存在的尘埃的程度，因此不会对形成在掩模板210的图案面M上的图案等造成不良影响。

[0089] 如此，掩模除尘辊230在与掩模板210的图案面M接触的状态下旋转并向前方侧前进，当到达掩模板210前方侧的端部(称为前方侧端部)210b，即掩模板210的图案面M的前方侧端部e2附近时(参照图4(d))，则曝光载物台240从图4(d)的状态沿z轴下降(参照图5(a))。此时的掩模除尘辊230沿z轴的位置(圆周上的上方侧顶点P1沿z轴的位置)是与图4(a)相同的位置z2。另外，曝光载物台240仅下降规定量时，则与该曝光载物台240的下降一起，搬运机构部100整体也仅下降规定量。

[0090] 而且，掩模除尘辊230进一步向前方前进，到达从掩模板210的前方侧端部210b(图案面M的前方侧端部e2)沿x轴向前方侧离开规定间隔的位置x4(也称为第2位置x4)(参照图5(b))。

[0091] 掩模除尘辊230沿x轴从图4(a)所示的第1位置x1前进至图5(b)所示的第2位置x4的动作在基板W被搬运的期间内进行。因此，不对间歇地各按规定量搬运长尺寸片状基板W而进行曝光这样的曝光装置10所进行的原本的曝光动作造成影响，便能对掩模板210的图案面M进行除尘。另外，由于基板除尘辊140进行的基板W的除尘也能够在基板W的搬运中进行，因此不会产生由进行基板W及掩模板210的图案面M的除尘所引起的时间损失。

[0092] 如此，当掩模除尘辊230到达图5(b)所示的位置x4(第2位置x4)时，曝光载物台240仅上升规定量(参照图5(c))。曝光载物台240仅上升规定量时，则与该曝光载物台240的上升一起，搬运机构部100整体也仅上升规定量。

[0093] 另外，由于曝光载物台240仅上升规定量时，掩模除尘辊230已到达从掩模板210的前方侧端部210b(图案面M的前方侧端e2)沿x轴向前方侧离开规定间隔的位置x4(第2位置x4)，因此掩模除尘辊230不会与掩模板210及掩模板保持部220抵接。另外，掩模除尘辊230也不与未图示的其它构成部件抵接。由此，曝光载物台240能够如图5(c)所示般上升。

[0094] 曝光载物台240的上升量是基板的感光面A(此时为感光区域A1)与掩模板210的图案面M接近或接触程度的上升量。如图5(c)所示，当处于基板W的感光区域A1与掩模板210的图案面M接近或接触的状态时，则在该状态下进行曝光。由此，在基板W的感光区域A1上转印图案。

[0095] 另外，虽然也可以使进行曝光时的基板W的感光面和掩模板210的图案面M之间密接，但是还可以设置存在微小空隙(例如1/100mm至4/100mm左右)程度的间隔。

[0096] 如此，通过在基板W的感光面和掩模板210的图案面M之间设置微小的空隙(例如1/100mm至4/100mm左右)，从而即便在基板W侧残存有微少的尘埃，也能够防止残存的尘埃附着于掩模板210的图案面M。

[0097] 而且，曝光结束后，再次开始基板W的间歇的搬运动作，基板W仅被搬运规定量。如此，再次开始基板W的间歇的搬运动作时，如图6(a)所示，曝光载物台240从图5(c)的状态沿z轴下降。另外，曝光载物台240仅下降规定量时，则与该曝光载物台240的下降一起，搬运机构部100整体也仅下降规定量。另外，此时的掩模除尘辊230沿x轴的位置是与图5(b)相同的位置(第2位置x2)。

[0098] 其后，掩模除尘辊230从图6(a)所示的位置沿x轴向后方侧仅前进规定量，到达与掩模板210的前方侧端部210b附近的平面部，即掩模板210的图案面M的前方侧端部e2附近相对的位置x2时(参照图6(b))，曝光载物台240沿z轴上升规定量，掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M的前方侧端部e2附近接触(参照图6(c))。其后，掩模除尘辊230在与掩模板
210的图案面M接触的状态下沿x轴向后方侧(箭头x’方向)前进。

[0099] 此时，掩模除尘辊230在弹簧257的弹性力发生作用的状态下，在与掩模板210的图案面M接触的状态下旋转并前进。由此，可以使掩模板210的图案面M上存在的尘埃附着在掩模除尘辊230一侧，据此，可以对掩模板210的图案面M进行除尘。

[0100] 如此，掩模除尘辊230在与掩模板210的图案面M接触的状态下旋转并向后方侧前进，最终到达掩模板210的图案面M的后方侧端部e1附近(参照图6(d))。于是，曝光载物台240从图6(d)状态下降(参照图7(a))。此时的掩模除尘辊230沿z轴的位置(圆周上的上方侧顶点P1沿z轴的位置)是与图4(a)相同的位置z2。另外，曝光载物台240仅下降规定量时，则与该曝光载物台240的下降一起，搬运机构部100整体也仅下降规定量。

[0101] 而且，掩模除尘辊230进一步向后方侧前进，到达从掩模板210的后方侧端部210a(图案面M的后方侧端部e1)沿x轴向后方侧离开规定间隔的位置x1(第1位置x1)(参照图7(b))。

[0102] 掩模除尘辊230从图5(b)所示的第2位置x4前进至图7(b)所示的第1位置x1的动作在基板W被搬运的期间内进行。因此，不对间歇地各按规定量搬运长尺寸片状基板W而进行曝光这样的曝光装置10所进行的原本的曝光动作造成影响，便能对掩模板210的图案面M进行除尘。

[0103] 如此，如图7(b)所示，当掩模除尘辊230到达位置x1(第1位置x1)时，曝光载物台240仅上升规定量(参照图7(c))。这是与图5(c)一样的动作。此时，伴随曝光载物台240的上升，搬运机构部100整体也仅上升规定量。如图7(c)所示，当处于基板W的感光面(其为感光区域A2)与掩模板210的图案面M接近或接触的状态时，则在该状态下进行曝光。由此，在基板W的感光区域A2上转印图案。

[0104] 此时，由于也在曝光载物台240仅上升规定量时，掩模除尘辊230到达从掩模板210的后方侧端部210a(图案面M的后方侧端部e1)沿x轴向后方侧离开规定间隔的位置x1(第1位置x1)，因此掩模除尘辊230不会与掩模板210及掩模板保持部220抵接。另外，掩模除尘辊230也不与未图示的其它构成部件抵接。由此，曝光载物台240能够如图7(c)所示般上升。

[0105] 而且，曝光结束后，曝光载物台240从图7(c)的状态下降。此时，也再次开始基板W的间歇的搬运动作，基板W仅被搬运规定量。另外，曝光结束后，曝光载物台240从图7(c)的状态下降时的状态成为与图4(a)相同的状态。从该状态再次反复进行如下动作，即依次进行图4(b)至图4(d)、图5(a)至图5(c)、图6(a)至图6(d)及图7(a)至图7(c)而返回图4(a)的动作。

[0106] 如此，在实施方式所涉及的曝光装置10中，掩模除尘辊230将第1位置x1和第2位置x4之间作为往复移动时的可动范围，一边沿该可动范围内前进一边进行对掩模板210的图案面M除尘的动作。而且，将掩模除尘辊230沿可动范围内向前方侧前进的动作作为前方前进动作，且将掩模除尘辊230沿可动范围内向后方侧前进的动作作为后方前进动作时，掩模除尘辊230分别在前方前进动作及后方前进动作中进行对掩模板210的图案面M除尘的动作。另外，分别在前方前进动作及后方前进动作中对掩模板210的图案面M进行除尘的动作在间歇地各按规定量搬运基板W的动作之间交互进行。因此，可以有效地进行掩模除尘动作。

[0107] 然而，从掩模除尘辊230相对于掩模板210处于沿x轴及z轴分别离开的位置的状态(参照图4(a))变为掩模除尘辊230与掩模板210的图案面M接触的状态(参照图4(c))时，如图4(a)至图4(c)所示，掩模除尘辊230直接与掩模板210的图案面M接触。

[0108] 因此，不会出现掩模除尘辊230向前方侧推压掩模板210的后方侧端部210a的情况，可以防止掩模板210的位置偏移，并且可以防止掩模板210的后方侧端部210a中的角部等破损。

[0109] 另外，虽然在图4(c)中，掩模除尘辊230与图案面M接触时的沿x轴的位置x2是与掩模板210的后方侧端部210a(图案面M的后方侧端部e1)一致的位置，但是不必一定是与掩模板210的后方侧端部210a(图案面M的后方侧端部e1)一致的位置，也可以是掩模板210的后方侧端部210a附近的平面部，即图案面M的后方侧端部e1附近(例如，图案面M中实际形成有图案的图案形成区域的后方侧端部)。重要的是，只要不是向前方侧推压掩模板210的后方侧端部210a或者使掩模板210的后方侧端部210a中的角部等破损的位置，并且是能够对掩模板210的图案面M中的图案形成区域切实地进行除尘的位置即可。

[0110] 另外，在掩模除尘辊230从第2位置x4向后方侧前进时，也从掩模除尘辊230相对于掩模板210处于沿x轴及z轴分别离开的位置的状态(参照图6(a))变为掩模除尘辊230与掩模板210接触的状态(参照图6(c))时，如图6(a)至图6(c)所示，掩模除尘辊230直接与掩模板210的图案面M接触。

[0111] 因此，不会出现掩模除尘辊230向后方侧推压掩模板210的前方侧端部210b的情况，可以防止掩模板210的位置偏移，并且可以防止掩模板210的前方侧端部210b中的角部等破损。

[0112] 另外，虽然在图6(c)中，掩模除尘辊230与图案面M接触时的沿x轴的位置x3是与掩模板210的前方侧端部210b(图案面M的前方侧端部e2)一致的位置，但是此时也不必是与掩模板210的前方侧端部210b(图案面M的前方侧端部e2)一致的位置，也可以是掩模板210的前方侧端部210b附近的平面部，即图案面M的前方侧端部e2附近(例如，图案面M中实际形成有图案的图案形成区域的前方侧端部)。重要的是，只要不是向后方侧推压掩模板210的前方侧端部210b或者使掩模板210的前方侧端部210b中的角部等破损的位置，并且是能够对掩模板210的图案面M中的图案形成区域切实地进行除尘的位置即可。

[0113] 如以上说明的那样，根据实施方式所涉及的曝光装置10，通过掩模除尘辊230对掩模板210的图案面M进行除尘的动作在基板W被搬运的期间内自动进行。另外，不仅仅只是由掩模除尘辊230进行掩模板210的图案面M的除尘，还可以通过基板除尘辊140进行基板W的除尘。另外，基板除尘辊140对基板W进行除尘的动作也在基板W被搬运的期间内自动进行。因此，不对卷对卷方式的曝光装置中原本进行的曝光动作造成影响，便能进行掩模板210的图案面M及基板W的除尘。由此，可以保持原本的曝光动作速度。

[0114] 另外，在实施方式所涉及的曝光装置10中，掩模除尘辊230呈如下结构，通过弹簧257的弹性力而在给予规定推压力的状态下与掩模板210的图案面M接触。因此，可以使掩模除尘辊230以适当的推压力与图案面M接触，不需要高精度地进行接触时的推压力的控制等。另外，掩模除尘辊230和图案面M的间隔(沿z轴的间隔)也不需要高精度地进行调整，可以减轻掩模除尘辊230和图案面M的间隔(沿z轴的间隔)的调整作业。由此，根据实施方式所涉及的曝光装置10，可以简化用于对掩模板210的图案面M进行除尘的机构整体。

[0115] 另外，本发明不限于上述的实施方式，可以在不脱离本发明主旨的范围内实施各种变形。例如，也可以实施如下所示的变形。

[0116] (1)在上述实施方式中，虽然将滚珠螺杆253L、253R设置在左右两侧的滑块252L、252R上，通过使两者在同步的状态下进行旋转，从而使掩模除尘辊230沿x轴往复移动，但是滚珠螺杆也可以仅为左右的任意一个。例如，仅在图2(a)中的右侧滑块252R上设置滚珠螺杆253R时，则左侧滑块252L与右侧滑块252R的前进连动而沿导轨251L上前进。作为这种结构，也能够使掩模除尘辊230沿x轴往复移动。

[0117] 另外，通过1个滚珠螺杆驱动左右两侧的滑块252L、252R时，则1个滚珠螺杆也可以沿x轴配置在左侧滑块252L和右侧滑块252R的中间位置上。据此，可以通过1个滚珠螺杆平衡性良好地驱动左右两侧的滑块252L、252R。

[0118] (2)在上述实施方式中，虽然掩模除尘部驱动机构部250是使用滚珠螺杆而使掩模除尘辊230沿x轴往复移动的机构，但是使掩模除尘辊沿x轴往复移动的机构可以采用各式各样的机构。另外，虽然曝光载物台驱动机构部260也同样是使用滚珠螺杆而使曝光载物台240升降的机构，但是使曝光载物台240沿z轴升降移动的机构可以采用各式各样的机构。

[0119] (3)在上述实施方式中，虽然说明了掩模除尘辊230是由掩模除尘辊230整体具有粘附力的构件构成的部件，但是并不限于此，也可以是仅掩模除尘辊230表面具有粘附力的部件。例如，既可以是在由合成树脂等形成的圆筒体的表面缠绕具有粘附力的构件的形式，另外，也可以是在圆筒体的表面形成有粘附层的形式。基板除尘辊140也是一样的。

[0120] (4)在上述实施方式中，虽然例示了基板W的感光面A朝上配置且掩模板210的图案面M朝下配置的曝光装置，但是并不限于此，也可以是相反的配置。即，也可以是基板W的感光面A朝下配置且掩模板210的图案面M朝上配置的曝光装置。

[0121] (5)在上述实施方式中，虽然例示了在曝光部200中使基板W的感光面A曝光时，在基板W的感光面A和掩模板210的图案面M之间设置微小空隙的状态下进行曝光的情况，但是不必一定在基板W的感光面A和掩模板210的图案面M之间设置微小的空隙，也可以在使基板W的感光面A和掩模板210的图案面M密接的状态下进行曝光。

[0122] (6)在上述实施方式中，虽然掩模除尘部分别在前方前进动作及后方前进动作中进行对掩模板210的图案面M除尘的动作，但是也可以仅在前方前进动作及后方前进动作的任意一个中进行除尘。

[0123] (7)在上述实施方式中，虽然例示了作为掩模除尘部，使用由具有粘附力的构件构成的辊(掩模除尘辊230)，通过掩模除尘辊230的粘附力对掩模板210的图案面M上存在的尘埃进行除尘的情况，但是不限于此。例如，掩模除尘部也可以是利用真空吸引而进行除尘的形式。如此，将掩模除尘部利用真空吸引进行除尘时的曝光装置作为本发明的曝光装置的变形例而进行说明。

[0124] 本发明的曝光装置的变形例构成为，掩模除尘部230具有沿掩模板210的图案面M中的y轴方向的吸引口，是利用吸引对掩模板210的图案面M进行除尘的吸引式掩模除尘部，吸引式掩模除尘部对掩模板210的图案面M进行除尘的动作是在与掩模板210的图案面M之间具有规定空隙的状态下发挥吸引力并沿掩模板210的图案面M且沿x轴方向前进而进行动作的形式。

[0125] 另外，即使掩模除尘部利用真空吸引而进行除尘，曝光装置的整体构成也可以是与上述实施方式中说明的曝光装置相同的构成。另外，在下述说明中，将利用真空吸引进行除尘的掩模除尘部作为吸引式掩模除尘部。

[0126] 在将这种吸引式掩模除尘部例如应用于图1所示的曝光装置的情况下则简单地进行说明。吸引式掩模除尘部在掩模板210的宽度方向(图1中沿y轴的方向)上具有细长的吸引口。这种吸引式掩模除尘部与掩模除尘辊230一样，可以安装在掩模除尘辊支撑部254L、254R上。此时，吸引式掩模除尘部的吸引孔朝上，以能够与掩模板210的图案面M相对。

[0127] 而且，进行除尘时，只要进行与图4至图7大致同样的动作即可。但是，由于吸引式掩模除尘部及吸引式基板除尘部相对于掩模板210的图案面M分别在非接触的状态下进行除尘，因此不需要使吸引式掩模除尘部与掩模板210的图案面M接触。因而，如果在图4(a)所示的初始位置，适当设定吸引式掩模除尘部的吸引口和掩模板210的图案面M的沿z轴的间隔，则只要沿z轴的位置在保持不变的状态下使吸引式掩模除尘辊沿x轴往复移动即可。

[0128] 另外，由于吸引式掩模除尘部相对于掩模板210的图案面M在非接触的状态下进行除尘，因此不需要像掩模除尘辊230那样通过弹簧257的弹性力而与掩模板210的图案面M接触的结构。

[0129] 通过使用这种吸引式掩模除尘部，也可以与上述实施方式一样，在间歇地各按规定量搬运基板W的期间内，对掩模板210的图案面M进行除尘。另外，在基板除尘部140中也可以同样使用吸引式基板除尘部。

[0130] (8)在上述实施方式中，虽然如图1所示，示出了掩模除尘部控制装置400及曝光载物台控制装置500被收纳在曝光装置框体300内部的例子，但是也可以设置在曝光装置框体300的外部。

[0131] (9)在上述实施方式中，虽然如图1所示，掩模板210沿x轴的长度与掩模板保持部220沿x轴的长度为相同的长度L1，但是不必一定是相同的长度，在伴随曝光载物台240的上升而掩模除尘辊230上升时，只要不妨碍掩模除尘辊230的上升，则掩模板保持部220沿x轴的长度也可以比掩模板210长。