一种α-氧化铝微粉除硅方法

摘要

本发明公开了一种α-氧化铝微粉除硅方法，所述方法包括：一种高温α-氧化铝微粉除硅的方法，主要步骤包括：（1）将适量α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内，加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4-10小时；（2）待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。（3）重复上述步骤三次。本发明根据颗粒大小和比重大小的不同，从而达到SiO2的富集，将富集SiO2粉体分离开来，即可有效的降低氧化铝粉体中的SiO2含量。

权利要求

1.一种高温α-氧化铝微粉除硅的方法，其特征在于，所述方法包括：（1）将α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内；

（2）加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4-10小时，待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，再次重复所述步骤（2）二次。

说明书

一种α-氧化铝微粉除硅方法

技术领域

[0001] 本发明涉及氧化铝制备领域，尤其涉及一种高温α-氧化铝微粉除硅方法。

背景技术

[0002] 在目前高温α-氧化铝烧制过程中，通常是将工业氧化铝放入莫来石匣钵（黄匣钵）中，放入隧道窑中烧制。在烧制过程中，经常会有部分莫来石匣钵碎片进入α-氧化铝烧成好的块料中，从而导致α-氧化铝粉体中的SiO2含量由烧成前的0.02%升高到0.08%左右。现有技术中，降低高温α-氧化铝粉体中的SiO2含量，一直没有太好的技术方法和设备装置。如采用采用常规的酸洗方法对除去氧化铝粉体中的SiO2基本没有效果。

发明内容

[0003] 本发明的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种高温α-氧化铝微粉除硅方法。

[0004] 上述目的是通过下述方案实现的：

[0005] 一种高温α-氧化铝微粉除硅的方法，其特征在于，所述方法包括：

[0006] （1）将α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内；

[0007] （2）加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4-10小时，待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝。

[0008] 根据上述的方法，其特征在于，再次重复所述步骤（2）二次。

[0009] 本发明的有益效果：本发明根据颗粒大小和比重大小的不同，从而达到SiO2的富集，将富集SiO2粉体分离开来，即可有效的降低氧化铝粉体中的SiO2含量。

具体实施方式

[0010] 本发明公开了一种高温α-氧化铝微粉除硅方法，包括以下步骤：

[0011] （1）将适量α-氧化铝粉体加入直径1.0m-2.0m，容积600L-2000L的圆柱形洗涤槽内，加水至氧化铝浆液固含在300-800g/L，搅拌20-40分钟后，静置4-10小时；

[0012] （2）待粉体沉降后，排除洗涤用水，刮去沉降粉体上层0.3-0.6厘米厚的细颗粒氧化铝；

[0013] （3）重复上述步骤三次，即重复加水，搅拌，沉淀，刮去沉淀粉体上层颗粒的步骤。

[0014] 本发明是在沉降中根据颗粒大小和比重大小的不同，从而达到SiO2的富集，将富集SiO2粉体分离开来，即可有效的降低氧化铝粉体中的SiO2含量。

具体实施方式

[0015] 实施例1

[0016] 将1600kgα-氧化铝粉体（D50:36μm）加入直径为2m，容积为2000L的圆柱形洗涤槽中，加满去离子水，搅拌20分钟后，静置4小时，并刮去上层0.3厘米厚的细颗粒氧化铝，