一种低温陶瓷釉料制造方法

摘要

本发明公开一种低温陶瓷釉料制造方法，包括：首先，按体积比为4-6：1-3：2-4的比例往恒温反应壶中加入硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶，并充分搅拌、获得均匀的混合物；然后，往恒温反应壶中加入硅烷，反应4至5小时，硅烷加入量为上述混合物体积的25-35%；再接着，按体积比为15-25:1的比例往恒温反应壶中加入硅烷和强酸混合液体反应4至5小时；最后加入消泡剂、流平剂，搅拌均匀即可。通过大量实验验证，使用本发明制得的低温陶瓷釉料，有效提高陶瓷表面硬度，且物体表面非常干净，自然成膜时间长，防水、防污性能好。

权利要求

1.一种低温陶瓷釉料制造方法，其特征在于，步骤包括：首先，按体积比为4-6：1-3：2-4的比例往恒温反应壶中加入硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶，并充分搅拌、获得均匀的混合物；

然后，往恒温反应壶中加入硅烷，反应4至5小时，硅烷加入量为上述混合物体积的25-

35%；

再接着，按体积比为15-25:1的比例往恒温反应壶中加入硅烷和强酸混合液体反应4至

5小时；

最后加入消泡剂、流平剂，搅拌均匀即可。

2.根据权利要求1所述的一种低温陶瓷釉料制造方法，其特征在于，恒温反应壶中硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶的加入比例为5：2：3；硅烷加入量为硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶混合物体积的30%；加入的硅烷和强酸混合液体中，硅烷与强酸的体积比为20:1。

3.根据权利要求1所述的一种低温陶瓷釉料制造方法，其特征在于，所述恒温反应壶的温度控制在80-85℃之间。

4.根据权利要求1所述的一种低温陶瓷釉料制造方法，其特征在于，所述消泡剂为矿物油消泡剂，所述流平剂为有机硅流平剂。

5.一种低温陶瓷釉料，其特征在于，它是利用权利要求1-4中任意一项制造方法制得。

6.根据权利要求5所述的一种低温陶瓷釉料，其特征在于，所制得的低温陶瓷釉料喷涂在被附着物表面、经150℃低温烘烤10到20分钟形成釉面。

7.根据权利要求5所述的一种低温陶瓷釉料，其特征在于，所制得的低温陶瓷釉料喷涂在被附着物表面、经自然放置3到4天形成釉面。

8.根据权利要求5所述的一种低温陶瓷釉料，其特征在于，所制得的低温陶瓷釉料用在地砖制造上。

说明书

一种低温陶瓷釉料制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及建筑材料表面浸渍或涂覆技术领域，尤其涉及一种低温陶瓷釉料制造方法。

背景技术

[0002] 陶瓷制品广泛用于生活的各个方面，为提高陶瓷制品表面装饰效果，其表面往往还烧制有釉面。现有的陶瓷釉大都采用高岭土、钾长石、钠长石、石英等多种材料混合烧制而成，釉面存在硬度低、易被刮花的缺陷。

发明内容

[0003] 本发明的一个目的在于提供一种表面硬度高，抗划伤能力好，质感佳的低温陶瓷釉。

[0004] 为达到以上目的，本发明采用如下技术方案。

[0005] 一种低温陶瓷釉料制造方法，其特征在于，步骤包括：

[0006] 首先，按体积比为4-6：1-3：2-4的比例往恒温反应壶中加入硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶，并充分搅拌、获得均匀的混合物；

[0007] 然后，往恒温反应壶中加入硅烷，反应4至5小时，硅烷加入量为上述混合物体积的25-35%；

[0008] 再接着，按体积比为15-25:1的比例往恒温反应壶中加入硅烷和强酸混合液体反应4至5小时；

[0009] 最后加入消泡剂、流平剂，搅拌均匀即可。

[0010] 作为本发明的改进实施方案，恒温反应壶中硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶的加热比例为5：2：3；硅烷加入量为硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶混合物体积的30%；加入的硅烷和强酸混合液体中，硅烷与强酸的体积比为20:1。

[0011] 作为本发明的改进实施方案，所述恒温反应壶的温度控制在80-85℃之间。

[0012] 作为本发明的改进实施方案，所述消泡剂为矿物油消泡剂，所述流平剂为有机硅流平剂。

[0013] 本发明还提供一种低温陶瓷釉料，其特征在于，它是利用上述任意一项制造方法制得。

[0014] 作为上述低温陶瓷釉料的一种具体应用，所制得的低温陶瓷釉料喷涂在被附着物表面、经150℃低温烘烤10到20分钟形成釉面。

[0015] 作为上述低温陶瓷釉料的一种具体应用，所制得的低温陶瓷釉料喷涂在被附着物表面、经自然放置3到4天形成釉面。

[0016] 作为上述低温陶瓷釉料的一种具体应用，所制得的低温陶瓷釉料用在地砖制造上。

[0017] 本发明提供的一种低温陶瓷釉料制造方法，利用硅烷、硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶等物混合制成，用料简单，制造方便，且其制得的低温陶瓷釉有效提高物件表面硬度、防水性和防污性；且在使用时，物体表面非常干净，自然成膜比较久。经铅笔硬度法测试，利用本方法制得的低温陶瓷釉料在地砖形成的釉面硬度大于H7，大于传统的釉面抛光硬度。

[0018] 本发明提供的一种低温陶瓷釉料，由于只需喷涂在被附着物表面，经自然放置3到4天即可形成釉面，可以减少现在地砖生产工艺所需要的釉面烧制；有效减少现有地砖生产工艺中所需要的抛光，工序简化，降低能耗。

[0019] 以地砖为例，通过大量实验对比，利用现有生产工艺生产出的地砖防污油性大头笔重复7-8次可以清楚看见笔迹，蓝墨水超不过24小时。而利用本发明提供的陶瓷釉料制得的地砖釉面，其防污油性大头笔重复20次无任何痕迹，蓝墨水24小时无任何痕迹。两者经过较大人流量的践踏一个月现有生产工艺生产出的地砖表面有磨损出现，而利用本发明制得的地砖表面只有极少痕迹。

具体实施方式

[0020] 为方便本领域普通技术人员更好地理解本发明的实质，下面度对本发明的具体实施方式进行详细阐述。

[0021] 制造方法实施例

[0022] 一种低温陶瓷釉料制造方法，步骤包括：

[0023] 首先，按体积比为4-6：1-3：2-4的比例往恒温反应壶中加入硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶，并充分搅拌、获得均匀的混合物。

[0024] 然后，往恒温反应壶中加入硅烷，反应4至5小时，硅烷加入量为上述混合物体积的25-35%。

[0025] 再接着，按体积比为15-25:1的比例往恒温反应壶中加入硅烷和强酸混合液体反应4至5小时。

[0026] 最后加入矿物油消泡剂和有机硅流平剂，搅拌均匀即可。

[0027] 其中，反应时，恒温反应壶的温度控制在80-85℃之间。

[0028] 本实施例中，优选恒温反应壶中硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶的加热比例为5：2：3；优选硅烷加入量为硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶混合物体积的30%；优选加入的硅烷和强酸混合液体中，硅烷与强酸的体积比为20:1。

[0029] 本实施例提供的一种低温陶瓷釉料制造方法，利用硅烷、硅溶胶、锂溶胶、铝溶胶等物混合制成，用料简单，制造方便，且其制得的低温陶瓷釉有效提高物件表面硬度、防水性和防污性；且在使用时，物体表面非常干净，自然成膜比较久。经铅笔硬度法测试，利用本方法制得的低温陶瓷釉料在地砖形成的釉面硬度大于H7，大于传统的釉面抛光硬度。

[0030] 陶瓷釉料实施例

[0031] 一种低温陶瓷釉料，它是上述低温陶瓷釉料制造方法所制得的。通过大量实验验证，使用本实施例制得的低温陶瓷釉料后、有效提高陶瓷表面硬度，且物体表面非常干净，自然成膜时间长，防水、防污性能好，特别适用于地砖、陶瓷表面及金属表面使用。

[0032] 在实际使用中，所制得的低温陶瓷釉料喷涂在被附着物表面、经150℃低温烘烤10到20分钟形成釉面；且其生成比普通釉料硬度还高的膜，可以减少现在地砖生产工艺所需要的抛光，工序简化，降低能耗。

[0033] 作为另一种应用方案，所制得的低温陶瓷釉料直接喷涂在被附着物表面、经自然放置3到4天即可形成釉面；可以减少现在地砖生产工艺所需要的釉面烧制。

[0034] 以地砖为例，本申请人对采用传统工艺制得的地砖和采用本实施例提供的低温陶瓷釉料制得的地砖进行了大量防污性对比实验，包括：油性大头笔（蓝，红色）测试、蓝墨水测试和人工踩踏测试。

[0035] 通过实验得出：利用现有生产工艺生产出的地砖防污油性大头笔重复7-8次可以清楚看见笔迹，蓝墨水超不过24小时；而利用本实施例提供的陶瓷釉料制得的地砖釉面，其防污油性大头笔重复20次无任何痕迹，蓝墨水24小时无任何痕迹。两者经过较大人流量的践踏一个月现有生产工艺生产出的地砖表面有磨损出现，而利用本发明制得的地砖表面只有极少痕迹。

[0036] 以上具体实施方式对本发明的实质进行了详细说明，但并不能以此来对本发明的保护范围进行限制。显而易见地，在本发明实质的启示下，本技术领域普通技术人员还可进行许多改进和修饰，需要注意的是，这些改进和修饰都落在本发明的权利要求保护范围之内。