本发明公开了一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法，它包括配置、混合、制浆、涂布、滚压、干燥、固化、裁剪；实现该制造方法的生产线包括球磨机、搅拌机、转筒架、滚压轮、惰轮、干燥箱、恒温箱；滚压轮表面轴向及径向都均布雕刻了微米级突出正棱台；滚压轮表面轴向及径向相邻的微米级突出正棱台距离等于正棱台底面的宽度。本发明所有工序可实现一条生产线上同步完成，生产效率高，同时由于生产过程连续不间断，可严格控制微槽成型时间，保证了抛光薄膜后续干燥后固化性能，避免了梯形微槽抛光薄膜的研磨层生成裂纹，使用本发明制造的抛光薄膜具有使用寿命高、抛光效果好等特点。
1.一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于包括以下步骤：
1）配置：配置不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料；
2）混合：将完成步骤1）的抛光薄膜原料输入球磨机混合；
3）制浆：将完成步骤2）的抛光薄膜混料输入搅拌机，同时添加固化剂、湿润剂、去泡剂，并不断搅拌制浆；
4）涂布：将完成步骤3）的抛光薄膜浆料涂布在薄膜基底层上；
5）滚压：将完成步骤4）的薄膜基底层的浆料通过雕刻微米级突出正棱台的滚压轮滚压，形成抛光薄膜；
6）干燥：将完成步骤5）的抛光薄膜，采用50-80℃的热风干燥；
7）固化：将完成步骤6）的抛光薄膜，送入100-110℃恒温箱固化48小时；
8）裁剪：将完成步骤7)的抛光薄膜裁剪成型，包装后进入仓库。
2.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的步骤1）中不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料包括磨粒、可溶性结合剂。
3.根据权利要求2所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的磨粒包括二氧化硅微粉和二氧化铈微粉，质量比为2-3:1，二氧化硅微粉粒径均值为20-100纳米，二氧化铈微粉粒径均值为二氧化硅微粉粒径均值的1/2-1/5。
4.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的步骤2）球磨机混合48小时。
5.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的步骤4）的薄膜基底层缠绕在转筒架上。
6.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的步骤5）的滚压轮表面轴向及径向都均布雕刻了微米级突出正棱台。
7.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的步骤5）的滚压轮表面轴向及径向相邻的微米级突出正棱台距离等于正棱台底面的宽度。
8.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其特征在于所述的步骤5）的滚压轮正下方设有惰轮，滚压轮和惰轮的最小间距为抛光薄膜厚度。
一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法
技术领域
[0001] 本发明涉及一种抛光薄膜的制造方法，尤其涉及一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法。
背景技术
[0002] 梯形微槽抛光薄膜，具有较高的磨削力、良好的磨削效果，并能保证工件抛光质量的一致性，尤其是具有优异的排屑能力的抛光材料，能很大程度上提高抛光的效率与质量，促进相关行业更好的发展。
[0003] 公开号为CN101428404A的中国专利申请公开了一种固结磨料研磨抛光垫及其制备方法，该制备方法比较复杂，一是磨料必须经过改性，而且制造工艺是先转移再固化，很难保证磨料保持预先的形状。目前也有一种防堵研磨磨具的制造方法，该方法通过制作防堵研磨磨具，依靠模具的作用形成梯形微槽。采用该方法，使用方法复杂，生产过程需要不断开合模具，不仅生产成本高昂，生产效率低，而且配套设备维护维修费用也非常高。同时，由于生产过程生产不连贯，无法较容易控制微槽成型时间，直接影响抛光薄膜后续干燥后固化性能，其研磨层容易生成裂纹，造成抛光薄膜使用寿命低、抛光质量差。
发明内容
[0004] 本发明的目的是克服现有技术的不足，提供一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法。
[0005] 一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法，包括以下步骤：
[0006] 1）配置：配置不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料；
[0007] 2）混合：将完成步骤1）的抛光薄膜原料输入球磨机混合；
[0008] 3）制浆：将完成步骤2）的抛光薄膜混料输入搅拌机，同时添加固化剂、湿润剂、去泡剂，并不断搅拌制浆；
[0009] 4）涂布：将完成步骤3）的抛光薄膜浆料涂布在薄膜基底层上；
[0010] 5）滚压：将完成步骤4）的薄膜基底层的浆料通过雕刻微米级突出正棱台的滚压轮滚压，形成抛光薄膜；
[0011] 6）干燥：将完成步骤5）的抛光薄膜，送入干燥间，采用50-80℃的热风干燥；
[0012] 7）固化：将完成步骤6）的抛光薄膜，送入100-110℃恒温箱固化48小时；
[0013] 8）裁剪：将完成步骤7)的抛光薄膜裁剪成型，包装后进入仓库。
[0014] 所述的步骤1）配置不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料包括磨粒、可溶性结合剂。
[0015] 所述的磨粒包括二氧化硅微粉和二氧化铈微粉，质量比比例为2-3:1，二氧化硅微粉粒径均值为20-100纳米，二氧化铈微粉粒径均值为二氧化硅微粉粒径均值的1/2-1/5。
[0016] 所述的步骤2）球磨机混合48小时。
[0017] 所述的步骤4）的薄膜基底层缠绕在转筒架上。
[0018] 所述的步骤5）的滚压轮表面轴向及径向都均布雕刻了微米级突出正棱台。
[0019] 所述的步骤5）的滚压轮表面轴向及径向相邻的微米级突出正棱台距离等于正棱台底面的宽度。
[0020] 所述的步骤5）的滚压轮正下方设有惰轮，滚压轮和惰轮的最小间距为抛光薄膜厚度。
[0021] 本发明，梯形微槽抛光薄膜从配置、混合、制浆、涂布、滚压、干燥、固化、裁剪可实现一条生产线上同步完成，生产效率高。解决了目前通过制作防堵研磨磨具，依靠模具的作用形成梯形微槽，其使用方法复杂、生产成本高昂，生产效率低、质量差等问题。本发明由于生产过程连续不间断，可严格控制微槽成型时间，保证了抛光薄膜后续干燥后固化性能，避免了梯形微槽抛光薄膜的研磨层生成裂纹，使用本发明制造的抛光薄膜具有使用寿命高、抛光效果好等特点。
附图说明
[0022] 图1为本发明梯形微槽抛光薄膜的制造方法流程图；
[0023] 图2为本发明梯形微槽抛光薄膜的制造方法使用的装置示意图；
[0024] 图3为本发明梯形微槽抛光薄膜的制造方法涉及的滚压轮结构示意图；
[0025] 图中，球磨机1、搅拌机2、转筒架3、滚压轮4、惰轮5、干燥箱6、恒温箱7。
具体实施方式
[0026] 如图1、图2、图3所示，一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法，包括以下步骤：
[0027] 1）配置：配置不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料；
[0028] 2）混合：将完成步骤1）的抛光薄膜原料输入球磨机（1）混合；
[0029] 3）制浆：将完成步骤2）的抛光薄膜混料输入搅拌机（2），同时添加固化剂、湿润剂、去泡剂，并不断搅拌制浆；
[0030] 4）涂布：将完成步骤3）的抛光薄膜浆料涂布在薄膜基底层上；
[0031] 5）滚压：将完成步骤4）的薄膜基底层的浆料通过雕刻微米级突出正棱台的滚压轮（4）滚压，形成抛光薄膜；
[0032] 6）干燥：将完成步骤5）的抛光薄膜，送入干燥间（6），采用50-80℃的热风干燥；
[0033] 7）固化：将完成步骤6）的抛光薄膜，送入100-110℃恒温箱（7）固化48小时；
[0034] 8）裁剪：将完成步骤7)的抛光薄膜裁剪成型，包装后进入仓库。
[0035] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其步骤1）配置不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料包括磨粒、可溶性结合剂，可溶性结合剂在抛光过程中，通过溶剂溶解抛光表层钝化磨粒周围的可溶结合剂，降低结合剂对磨粒的把持力使其脱落，去除表层钝化磨粒，露出新磨粒，使抛光薄膜拥有较为持久的抛光性能。
[0036] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其磨粒包括二氧化硅微粉和二氧化铈微粉，质量比比例为2-3:1，二氧化硅微粉粒径均值为20-100纳米，二氧化铈微粉粒径均值为二氧化硅微粉粒径均值的1/2-1/5，小粒径磨粒即可以直接参与抛光过程，又可以作为填充物质，起到支撑大颗粒的作用，降低了薄膜中的树脂结合剂含量。
[0037] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其步骤2）球磨机（1）混合48小时。
[0038] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其步骤4）的薄膜基底层缠绕在转筒架（3）上。
[0039] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其步骤5）的滚压轮（4）表面轴向及径向都均布雕刻了微米级突出正棱台。
[0040] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其步骤5）的滚压轮（4）表面轴向及径向相邻的微米级突出正棱台距离等于正棱台底面的宽度。
[0041] 梯形微槽抛光薄膜的制造方法，其步骤5）的滚压轮（4）正下方设有惰轮（5），滚压轮（4）和惰轮（5）的最小间距为抛光薄膜厚度。
