本发明公开了一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法及系统。其中该方法包括如下步骤：设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。其在保证设备工艺加工的真空度要求的同时，节省设备成本，且可有效避免硬件设备之间的冲突。
1.一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，包括以下步骤：设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；
对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；
工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
2.根据权利要求1所述的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，所述根据腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理，包括以下步骤：对请求进行抽真空的腔室是否配置了冷泵进行判断，并得到第一判断结果；
根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空；
根据所述第一判断结果，当所述腔室未配置冷泵时，则使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
所述腔室包括加载腔室，传输腔室，预热腔室，以及工艺腔室。
3.根据权利要求1所述的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，所述对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空，包括以下步骤：当ITO-PVD设备中的腔室请求释放所述系统干泵时，判断所述腔室是否为当前系统干泵使用腔室，得到第二判断结果；
根据所述第二判断结果，当所述腔室是当前系统干泵使用腔室时，判断是否有排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第三判断结果；
根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回；
根据所述第三判断结果，当没有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，判断所述腔室是否为所述系统干泵默认腔室，并得到第四判断结果；
根据所述第四判断结果，当所述腔室不是所述系统干泵默认腔室时，则将所述系统干泵分配给所述传输腔室使用，并返回；否则直接返回；
根据所述第二判断结果，当所述腔室不是当前系统干泵使用腔室时，判断所述腔室是否为排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第五判断结果；
根据所述第五判断结果，当所述腔室是排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述腔室从所述排队等候使用所述系统干泵的队列中删除，并返回；否则直接返回。
4.根据权利要求3所述的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，所述根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回，包括以下步骤：关闭所有所述系统干泵与腔室连通的阀门；
将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。
5.根据权利要求1所述的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，还包括以下步骤：在所述传输腔室向所述工艺腔室中传输物料之前，关闭所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险；
在所述传输腔室完成所述工艺腔室中传输物料后，打开所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开安全；
在使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空之前，判断所述默认系统干泵阀门的状态，当所述默认系统干泵阀门的状态为打开安全时打开所述默认系统干泵阀门使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空，否则保持所述默认系统干泵阀门关闭。
6.根据权利要求5所述的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，使用线程互锁实现所述默认系统干泵阀门开关动作的互斥，使当所述默认系统干泵阀门为打开安全的状态时，在打开所述默认系统干泵阀门之前不能执行关闭所述默认系统干泵阀门的动作。
7.根据权利要求2所述的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，所述根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空，包括以下步骤：根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
当对所述腔室抽真空到第一预定真空度后，释放所述系统干泵；
8.一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，包括配置模块，默认腔室控制模块，以及抽真空控制模块，其中：所述配置模块，用于设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；
所述默认腔室控制模块，用于对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；
所述抽真空控制模块，用于工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
9.根据权利要求8所述的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，所述抽真空控制模块包括判断子模块，第一处理子模块，第二处理子模块，其中：所述判断子模块，用于对请求进行抽真空的腔室是否配置了冷泵进行判断，并得到第一判断结果；
所述第一处理子模块，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空；
所述第二处理子模块，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室未配置冷泵时，则使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
所述腔室包括加载腔室，传输腔室，预热腔室，以及工艺腔室。
10.根据权利要求8所述的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，所述默认腔室控制模块包括第一判断子模块，第二判断子模块，第一执行子模块，第三判断子模块，第二执行子模块，第四判断子模块，第三执行子模块，其中：所述第一判断子模块，用于当ITO-PVD设备中的腔室请求释放所述系统干泵时，判断所述腔室是否为当前系统干泵使用腔室，得到第二判断结果；
所述第二判断子模块，用于根据所述第二判断结果，当所述腔室是当前系统干泵使用腔室时，判断是否有排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第三判断结果；
第一执行子模块，用于根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回；
第三判断子模块，用于根据所述第三判断结果，当没有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，判断所述腔室是否为所述系统干泵默认腔室，并得到第四判断结果；
第二执行子模块，用于根据所述第四判断结果，当所述腔室不是所述系统干泵默认腔室时，则将所述系统干泵分配给所述传输腔室使用，并返回；否则直接返回；
第四判断子模块，用于根据所述第二判断结果，当所述腔室不是当前系统干泵使用腔室时，判断所述腔室是否为排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第五判断结果；
第三执行子模块，用于根据所述第五判断结果，当所述腔室是排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述腔室从所述排队等候使用所述系统干泵的队列中删除，并返回；否则直接返回。
11.根据权利要求10所述的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，第一执行子模块包括阀门关闭单元，时间控制单元，系统干泵分配单元，其中：所述阀门控制单元，用于关闭所有所述系统干泵与腔室连通的阀门；
所述系统干泵分配单元，用于将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。
12.根据权利要求8所述的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，还包第一状态设置模块，第二状态设置模块，以及阀门控制模块，其中：所述第一状态设置模块，用于在所述传输腔室向所述工艺腔室中传输物料之前，关闭所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险；
所述第二状态设置模块，用于在所述传输腔室完成所述工艺腔室中传输物料后，打开所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开安全；
所述阀门控制模块，用于在使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空之前，判断所述默认系统干泵阀门的状态，当所述默认系统干泵阀门的状态为打开安全时打开所述默认系统干泵阀门使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空，否则保持所述默认系统干泵阀门关闭。
13.根据权利要求12所述的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，使用线程互锁实现所述默认系统干泵阀门开关动作的互斥，使当所述默认系统干泵阀门为打开安全的状态时，在打开所述默认系统干泵阀门之前不能执行关闭所述默认系统干泵阀门的动作。
14.根据权利要求9所述的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，其特征在于，所述第一处理子模块，包括系统干泵执行单元，系统干泵释放单元，冷泵执行单元，其中：所述系统干泵执行单元，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
系统干泵释放单元，用于当对所述腔室抽真空到第一预定真空度后，释放所述系统干泵；
所述冷泵执行单元，用于继续使用冷泵对所述腔室进行抽真空。
ITO-PVD设备抽真空控制的方法及系统
技术领域
[0001] 本发明涉及半导体领域，尤其涉及一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法。
背景技术
[0002] 物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发，并使蒸发物质与气体均发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。此技术广泛应用于IC、LED、光伏、平板显示等领域。
[0003] 近几年来，由于发光二极管(LED)的巨大市场需求，GaN基LED被广泛应用于大功率照明灯、汽车仪表显示、大面积的户外显示屏、信号灯，以及普通照明等不同领域。掺锡氧化铟（IndiumTinOxide），一般简称为ITO。ITO薄膜作为一种透明导电薄膜与传统的金属薄膜相比具有可见光透过率高、导电性好、抗磨损、耐腐蚀等优点，且ITO薄膜和GaN之间粘附性好。由于这些特性，ITO被广泛的应用于GaN基芯片的电极材料。
[0004] ITO PVD设备在工艺加工过程中，加载腔室，预热腔室，传输腔室以及ITO工艺腔室等都会要求真空条件。由于各腔室对真空度的要求不尽相同，所以腔室保证真空条件所使用的真空泵也有所区别。加载腔室、预热腔室对真空度要求相对较低，所以使用系统干泵即可以满足要求；PM（Process Module）腔室是ITO工艺腔室，对真空度要求较高，必须使用高真空泵来满足条件；传输腔室较特殊，由于其中的机械手需要跟每个腔室进行交互（尤其是高真空的PM腔室），其真空要求是：与PM腔室进行传片时对其真空度的改变基本不影响ITO工艺结果。在传统工艺中对传输腔室也配有一个冷泵，与系统干泵搭配对传输腔室进行抽真空。此种方法设备成本高，不利于生产加工。
[0005] 综上所述，如何提供一种满足工艺加工真空条件且设备成本低的ITO-PVD设备抽真空的方法是一个亟待解决的问题。
发明内容
[0006] 基于此，有必要提供一种能够准确控制设备抽真空，且设备成本低的ITO-PVD设备抽真空控制的方法及系统。
[0007] 为实现本发明目的提供的一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法，包括以下步骤：
[0008] 设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；
[0009] 对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；
[0010] 工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
[0011] 其中，所述根据腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理，包括以下步骤：
[0012] 对请求进行抽真空的腔室是否配置了冷泵进行判断，并得到第一判断结果；
[0013] 根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空；
[0014] 根据所述第一判断结果，当所述腔室未配置冷泵时，则使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
[0015] 所述腔室包括加载腔室，传输腔室，预热腔室，以及工艺腔室。
[0016] 作为一种可实施方式，所述对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空，包括以下步骤：
[0017] 当ITO-PVD设备中的腔室请求释放所述系统干泵时，判断所述腔室是否为当前系统干泵使用腔室，得到第二判断结果；
[0018] 根据所述第二判断结果，当所述腔室是当前系统干泵使用腔室时，判断是否有排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第三判断结果；
[0019] 根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回；
[0020] 根据所述第三判断结果，当没有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，判断所述腔室是否为所述系统干泵默认腔室，并得到第四判断结果；
[0021] 根据所述第四判断结果，当所述腔室不是所述系统干泵默认腔室时，则将所述系统干泵分配给所述传输腔室使用，并返回；否则直接返回；
[0022] 根据所述第二判断结果，当所述腔室不是当前系统干泵使用腔室时，判断所述腔室是否为排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第五判断结果；
[0023] 根据所述第五判断结果，当所述腔室是排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述腔室从所述排队等候使用所述系统干泵的队列中删除，并返回；否则直接返回。
[0024] 作为一种可实施方式，所述根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回，包括以下步骤：
[0025] 关闭所有所述系统干泵与腔室连通的阀门；
[0026] 等待预设时间；
[0027] 将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。
[0028] 作为一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法可实施方式，还包括以下步骤：
[0029] 在所述传输腔室向所述工艺腔室中传输物料之前，关闭所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险；
[0030] 在所述传输腔室完成所述工艺腔室中传输物料后，打开所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开安全；
[0031] 在使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空之前，判断所述默认系统干泵阀门的状态，当所述默认系统干泵阀门的状态为打开安全时打开所述默认系统干泵阀门使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空，否则保持所述默认系统干泵阀门关闭。
[0032] 作为一种可实施方式，使用线程互锁实现所述默认系统干泵阀门开关动作的互斥，使当所述默认系统干泵阀门为打开安全的状态时，在打开所述默认系统干泵阀门之前不能执行关闭所述默认系统干泵阀门的动作。
[0033] 作为一种可实施方式，所述根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空，包括以下步骤：
[0034] 根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
[0035] 当对所述腔室抽真空到第一预定真空度后，释放所述系统干泵；
[0036] 继续使用冷泵对所述腔室进行抽真空。
[0037] 基于同一发明构思的一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统，包括配置模块，默认腔室控制模块，以及抽真空控制模块，其中：
[0038] 所述配置模块，用于设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；
[0039] 所述默认腔室控制模块，用于对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；
[0040] 所述抽真空控制模块，用于工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
[0041] 在其中一个实施例中，所述抽真空控制模块包括判断子模块，第一处理子模块，第二处理子模块，其中：
[0042] 所述判断子模块，用于对请求进行抽真空的腔室是否配置了冷泵进行判断，并得到第一判断结果；
[0043] 所述第一处理子模块，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空；
[0044] 所述第二处理子模块，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室未配置冷泵时，则使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
[0045] 所述腔室包括加载腔室，传输腔室，预热腔室，以及工艺腔室。
[0046] 作为一种可实施方式，所述默认腔室控制模块包括第一判断子模块，第二判断子模块，第一执行子模块，第三判断子模块，第二执行子模块，第四判断子模块，第三执行子模块，其中：
[0047] 所述第一判断子模块，用于当ITO-PVD设备中的腔室请求释放所述系统干泵时，判断所述腔室是否为当前系统干泵使用腔室，得到第二判断结果；
[0048] 所述第二判断子模块，用于根据所述第二判断结果，当所述腔室是当前系统干泵使用腔室时，判断是否有排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第三判断结果；
[0049] 第一执行子模块，用于根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回；
[0050] 第三判断子模块，用于根据所述第三判断结果，当没有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，判断所述腔室是否为所述系统干泵默认腔室，并得到第四判断结果；
[0051] 第二执行子模块，用于根据所述第四判断结果，当所述腔室不是所述系统干泵默认腔室时，则将所述系统干泵分配给所述传输腔室使用，并返回；否则直接返回；
[0052] 第四判断子模块，用于根据所述第二判断结果，当所述腔室不是当前系统干泵使用腔室时，判断所述腔室是否为排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第五判断结果；
[0053] 第三执行子模块，用于根据所述第五判断结果，当所述腔室是排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述腔室从所述排队等候使用所述系统干泵的队列中删除，并返回；否则直接返回。
[0054] 作为一种可实施方式，第一执行子模块包括阀门关闭单元，时间控制单元，系统干泵分配单元，其中：
[0055] 所述阀门控制单元，用于关闭所有所述系统干泵与腔室连通的阀门；
[0056] 所述时间控制单元，用于等待预设时间；
[0057] 所述系统干泵分配单元，用于将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。
[0058] 在其中一个实施例中，还包第一状态设置模块，第二状态设置模块，以及阀门控制模块，其中：
[0059] 所述第一状态设置模块，用于在所述传输腔室向所述工艺腔室中传输物料之前，关闭所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险；
[0060] 所述第二状态设置模块，用于在所述传输腔室完成所述工艺腔室中传输物料后，打开所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开安全；
[0061] 所述阀门控制模块，用于在使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空之前，判断所述默认系统干泵阀门的状态，当所述默认系统干泵阀门的状态为打开安全时打开所述默认系统干泵阀门使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空，否则保持所述默认系统干泵阀门关闭。
[0062] 作为一种可实施方式，使用线程互锁实现所述默认系统干泵阀门开关动作的互斥，使当所述默认系统干泵阀门为打开安全的状态时，在打开所述默认系统干泵阀门之前不能执行关闭所述默认系统干泵阀门的动作。
[0063] 作为一种可实施方式，所述第一处理子模块，包括系统干泵执行单元，系统干泵释放单元，冷泵执行单元，其中：
[0064] 所述系统干泵执行单元，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；
[0065] 系统干泵释放单元，用于当对所述腔室抽真空到第一预定真空度后，释放所述系统干泵；
[0066] 所述冷泵执行单元，用于继续使用冷泵对所述腔室进行抽真空。
[0067] 本发明的有益效果包括：
[0068] 本发明提供的一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法及系统，对传输腔室不配备高真空泵，即冷泵，在没有其他腔室占用系统干泵的情况下使用系统干泵持续对传输腔室进行抽真空，在保证设备工艺加工的真空度要求的同时，节省设备成本。且采用此控制流程可有效协调工艺设备在各腔室之间的配置、流转，避免硬件设备之间的冲突造成硬件损坏。
附图说明
[0069] 图1为本发明一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法的一具体实施例的流程图；
[0070] 图2为本发明一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统的一具体实施例的系统结构示意图；
[0071] 图3为本发明一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统的一具体实施例的默认腔室控制模块的结构示意图；
[0072] 图4为本发明一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统的一具体实施例的第一执行子模块的结构示意图；
[0073] 图5为本发明一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统的另一具体实施例的系统结构示意图；
[0074] 图6为本发明一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统的一具体实施例的第一处理子模块的结构示意图。
具体实施方式
[0075] 为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图对本发明的ITO-PVD设备抽真空控制的方法及系统的具体实施方式进行说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
[0076] 本发明实施例的一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法，如图1所示，包括以下步骤：
[0077] S100，设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵。与传统设备配置不同，不对传输腔室配置冷泵，而是将所述传输腔室设置为系统干泵的默认腔室，如此则可以是传输腔室更多的占用系统干泵进行抽真空，保证传输腔室相对于加载腔室等较高的真空度。
[0078] S200，对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空。
[0079] S300，工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
[0080] 经实验证明，在使用系统干泵对传输腔室进行持续抽真空的真空度条件下，从传输腔室进入到PM腔室汇总的晶圆执行工艺后的主要工艺结果仍然能够呈现出良好的表现。本发明实施例的ITO-PVD设备抽真空控制的方法，对传输腔室不配备高真空泵，即冷泵，在没有其他腔室占用系统干泵的情况下使用系统干泵持续对传输腔室进行抽真空，如此可保证设备工艺加工的真空度要求，节省了设备成本。且采用此控制流程可保证工艺设备在各腔室之间的配置、流转，避免硬件设备之间的冲突。
[0081] 在其中一个实施例中，所述根据腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理，包括以下步骤：
[0082] S310，对请求进行抽真空的腔室是否配置了冷泵进行判断，并得到第一判断结果。控制程序执行过程中对是否配置了高真空泵进行判断，并根据判断结果自动执行相应动作，而无需考虑执行对象的具体情况，程序调用简单方便。
[0083] S320，根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空。若配置了高真空泵，即冷泵，则先使用系统干泵对腔室进行抽真空，抽到某一预设的真空度后，再使用冷泵继续对腔室进行抽真空，此为成熟技术，在此不再一一详细说明。此处需要说明的是，配置了高真空冷泵的腔室只有PM腔室，因此，系统设备中的冷泵可由PM腔室持续占用。
[0084] S330，根据所述第一判断结果，当所述腔室未配置冷泵时，则使用系统干泵对所述腔室进行抽真空。通常情况下，可使用系统干泵将腔室抽真空到真空度为0.1Torr后，释放所述系统干泵。
[0085] 本发明实施例中，设备进行工艺加工过程中加工流程可根据是否配置了高真空冷泵自动执行相应的操作，整个流程调用简单方便，不需要在调用时考虑抽真空对象的具体情况。
[0086] 在其中一个实施例中，步骤S200，包括以下步骤：
[0087] S210，当ITO-PVD设备中的腔室请求释放所述系统干泵时，判断所述腔室是否为当前系统干泵使用腔室，得到第二判断结果。当腔室抽真空到一定真空度后腔室会请求释放系统干泵，将系统干泵让给其他腔室进行使用。
[0088] S220，根据所述第二判断结果，当所述腔室是当前系统干泵使用腔室时，判断是否有排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第三判断结果。此处需要说明的是，当某一腔室请求使用系统干泵时，首先进行系统干泵使用请求，且所有系统干泵使用请求进行排队，后可根据排队顺序安排配置系统干泵的使用。
[0089] S230，根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。所述返回没有其他特别意义，只是程序的返回，按照正常程序执行操作。
[0090] S240，根据所述第三判断结果，当没有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，判断所述腔室是否为所述系统干泵默认腔室，并得到第四判断结果。
[0091] S250，根据所述第四判断结果，当所述腔室不是所述系统干泵默认腔室时，则将所述系统干泵分配给所述传输腔室使用，并返回；否则直接返回。
[0092] 当前系统干泵使用者释放系统干泵且没有其他腔室排队等候使用系统干泵时，则将系统干泵分配给默认系统干泵使用者，即传输腔室进行使用。最大程度保证传输腔室抽真空的时间。
[0093] S260，根据所述第二判断结果，当所述腔室不是当前系统干泵使用腔室时，判断所述腔室是否为排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第五判断结果。
[0094] S270，根据所述第五判断结果，当所述腔室是排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述腔室从所述排队等候使用所述系统干泵的队列中删除，并返回；否则直接返回。
[0095] 本发明实施例使其他腔室释放系统干泵后及时将所述系统干泵分配给传输腔室进行抽真空，保证传输腔室的真空度。系统干泵释放程序简单、清楚。
[0096] 在其中一个实施例中，步骤S230根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回，包括以下步骤：
[0097] S231，关闭所有所述系统干泵与腔室连通的阀门。对释放的系统干泵进行再次分配时，首先关闭所有系统干泵与腔室连通的阀门，可确保后续打开系统干泵阀门时，系统干泵对某一腔室单独进行抽真空，保证抽真空的效果及硬件设备安全。
[0098] S232，等待预设时间。较佳地，在一个实施例中，所述预设时间为0.3S。等待一定时间使硬件设备准备妥当。
[0099] S233，将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。
[0100] 在其中一个ITO-PVD设备抽真空控制的方法的实施例中，还包括以下步骤：
[0101] S400，在所述传输腔室向所述工艺腔室中传输物料之前，关闭所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险。传输腔室为默认的系统干泵使用腔室，其与系统干泵相连接的阀门为默认系统干泵阀门。在传输腔室向工艺腔室中放晶圆之前，首先关闭所述默认系统干泵阀门，再打开传输腔室与工艺腔室之间的槽阀向工艺腔室中传送晶片。
[0102] S500，在所述传输腔室完成所述工艺腔室中传输物料后，打开所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开安全。先关闭传输腔室与工艺腔室之间的阀门再所述默认系统干泵。
[0103] S600，在使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空之前，判断所述默认系统干泵阀门的状态，当所述默认系统干泵阀门的状态为打开安全时打开所述默认系统干泵阀门使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空，否则保持所述默认系统干泵阀门关闭。
[0104] 本发明实施例中，在传输腔室与工艺腔室进行传片时对槽阀与默认系统干泵阀门的开关顺序进行限定，防止在传输腔室与工艺腔室之间的阀门打开时，同时使用冷泵和系统干泵对一密闭腔室进行抽真空造成硬件损伤。且对系统默认阀门的状态进行标注，防止系统默认系统干泵阀门的意外打开造成系统硬件损伤，保证传输腔室传输晶圆过程的安全。
[0105] 在其中一个实施例中，使用线程互锁实现所述默认系统干泵阀门开关动作的互斥，使当所述默认系统干泵阀门为打开安全的状态时，在打开所述默认系统干泵阀门之前不能执行关闭所述默认系统干泵阀门的动作。防止释放系统干泵过程中判断默认系统干泵阀门的状态为打开安全后，CPU去执行传片准备过程中的设定默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险并关闭阀门，然后CPU又返回来继续执行释放系统干泵流程中的开阀动作。防止传输腔室与工艺腔室之间的阀门和默认系统干泵阀门同时打开。
[0106] 在其中一个实施例中，步骤S320，根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空，包括以下步骤：
[0107] S321，根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，使用系统干泵对所述腔室进行抽真空。首先使用系统干泵对腔室进行抽真空。
[0108] S322，当对所述腔室抽真空到第一预定真空度后，释放所述系统干泵。所述第一预定真空度可以为0.1Torr。
[0109] S323，继续使用冷泵对所述腔室进行抽真空。
[0110] 基于同一发明构思，本发明实施例提供一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统，由于此系统解决问题的原理与前述一种ITO-PVD设备抽真空控制的方法相似，因此，该系统的实施可以按照前述方法的具体步骤实现，重复之处不再赘述。
[0111] 本发明实施例的一种ITO-PVD设备抽真空控制的系统，如图2所示，包括配置模块100，默认腔室控制模块200，以及抽真空控制模块300，其中所述配置模块100，用于设置ITO-PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；
所述默认腔室控制模块200，用于对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；所述抽真空控制模块
300，用于工艺加工过程中，当ITO-PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
[0112] 本发明实施例的ITO-PVD设备抽真空控制的系统，对传输腔室不配备高真空泵，即冷泵，在没有其他腔室占用系统干泵的情况下使用系统干泵持续对传输腔室进行抽真空，如此可保证设备工艺加工的真空度要求，节省了设备成本。且采用此控制流程可保证工艺设备在各腔室之间的配置、流转，避免硬件设备之间的冲突。
[0113] 在其中一个实施例中，所述抽真空控制模块300包括判断子模块310，第一处理子模块320，第二处理子模块330，其中：
[0114] 所述判断子模块310，用于对请求进行抽真空的腔室是否配置了冷泵进行判断，并得到第一判断结果；所述第一处理子模块320，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，则使用系统干泵抽真空到第一预定真空度后，继续使用冷泵进行抽真空；所述第二处理子模块330，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室未配置冷泵时，则使用系统干泵对所述腔室进行抽真空。其中，所述腔室包括加载腔室，传输腔室，预热腔室，以及工艺腔室。
[0115] 在其中一个实施例中，如图3所示，所述默认腔室控制模块200包括第一判断子模块210，第二判断子模块220，第一执行子模块230，第三判断子模块240，第二执行子模块250，第四判断子模块260，第三执行子模块270，其中：所述第一判断子模块210，用于当ITO-PVD设备中的腔室请求释放所述系统干泵时，判断所述腔室是否为当前系统干泵使用腔室，得到第二判断结果；所述第二判断子模块220，用于根据所述第二判断结果，当所述腔室是当前系统干泵使用腔室时，判断是否有排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第三判断结果；第一执行子模块230，用于根据所述第三判断结果，当有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回；第三判断子模块240，用于根据所述第三判断结果，当没有排队等候使用所述系统干泵的腔室时，判断所述腔室是否为所述系统干泵默认腔室，并得到第四判断结果；
第二执行子模块250，用于根据所述第四判断结果，当所述腔室不是所述系统干泵默认腔室时，则将所述系统干泵分配给所述传输腔室使用，并返回；否则直接返回；第四判断子模块
260，用于根据所述第二判断结果，当所述腔室不是当前系统干泵使用腔室时，判断所述腔室是否为排队等候使用所述系统干泵的腔室，得到第五判断结果；第三执行子模块270，用于根据所述第五判断结果，当所述腔室是排队等候使用所述系统干泵的腔室时，则将所述腔室从所述排队等候使用所述系统干泵的队列中删除，并返回；否则直接返回。
[0116] 本发明实施例使其他腔室释放系统干泵后及时将所述系统干泵分配给传输腔室进行抽真空，保证传输腔室的真空度。系统干泵释放程序简单、清楚。
[0117] 在其中一个实施例中，如图4所示，第一执行子模块230包括阀门关闭单元231，时间控制单元232，系统干泵分配单元233，其中：所述阀门控制单元231，用于关闭所有所述系统干泵与腔室连通的阀门；所述时间控制单元232，用于等待预设时间；所述系统干泵分配单元233，用于将所述系统干泵分配给排队等候使用所述系统干泵的腔室队列中的第一个腔室使用，并返回。
[0118] 在其中一个ITO-PVD设备抽真空控制的系统的实施例中，如图5所示，还包第一状态设置模块400，第二状态设置模块500，以及阀门控制模块600，其中：所述第一状态设置模块400，用于在所述传输腔室向所述工艺腔室中传输物料之前，关闭所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险；所述第二状态设置模块500，用于在所述传输腔室完成所述工艺腔室中传输物料后，打开所述系统干泵与所述传输腔室之间的默认系统干泵阀门，并将所述默认系统干泵阀门的状态设置为打开安全；所述阀门控制模块600，用于在使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空之前，判断所述默认系统干泵阀门的状态，当所述默认系统干泵阀门的状态为打开安全时打开所述默认系统干泵阀门使用所述系统干泵对所述传输腔室进行抽真空，否则保持所述默认系统干泵阀门关闭。
[0119] 本发明实施例中，在传输腔室与工艺腔室进行传片时对槽阀与默认系统干泵阀门的开关顺序进行限定，防止在传输腔室与工艺腔室之间的阀门打开时，同时使用冷泵和系统干泵对一密闭腔室进行抽真空造成硬件损伤。且对系统默认阀门的状态进行标注，防止系统默认系统干泵阀门的意外打开造成系统硬件损伤，保证传输腔室传输晶圆过程的安全。
[0120] 在其中一个ITO-PVD设备抽真空控制的系统的实施例中，使用线程互锁实现所述默认系统干泵阀门开关动作的互斥，使当所述默认系统干泵阀门为打开安全的状态时，在打开所述默认系统干泵阀门之前不能执行关闭所述默认系统干泵阀门的动作。防止释放系统干泵过程中判断默认系统干泵阀门的状态为打开安全后，CPU去执行传片准备过程中的设定默认系统干泵阀门的状态设置为打开危险并关闭阀门，然后CPU又返回来继续执行释放系统干泵流程中的开阀动作。防止传输腔室与工艺腔室之间的阀门和默认系统干泵阀门同时打开。
[0121] 在其中一个实施例中，如图6所示，所述第一处理子模块320，包括系统干泵执行单元321，系统干泵释放单元322，冷泵执行单元323，其中：所述系统干泵执行单元321，用于根据所述第一判断结果，当所述腔室配置了冷泵时，使用系统干泵对所述腔室进行抽真空；系统干泵释放单元322，用于当对所述腔室抽真空到第一预定真空度后，释放所述系统干泵；所述冷泵执行单元323，用于继续使用冷泵对所述腔室进行抽真空。
[0122] 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
