浮法玻璃的制造方法和制造装置

摘要

本发明的目的在于提供一种能够制造没有随着熔融锡的液滴附着于玻璃带的下表面侧而产生的缺陷的高品质的玻璃的方法和装置。本发明的浮法玻璃的制造方法包括这样的工序：利用提升辊将在容纳有熔融锡的浮法槽中成形后的玻璃带自所述浮法槽的浴面拉起并对该玻璃带进行输送，该提升辊水平配置于设在所述浮法槽的下游侧的渣箱部，该浮法玻璃的制造方法的特征在于，在设有所述提升辊的渣箱部内，将最靠近所述浮法槽的提升辊和渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间划分为由所述渣箱部的侧壁、所述提升辊和该提升辊的底座包围的密闭空间并向该密闭空间输送非活性气体，使该密闭空间充满非活性气体并利用所述提升辊自所述浮法槽输送所述玻璃带。

权利要求

1.一种浮法玻璃的制造方法，该浮法玻璃的制造方法包括这样的工序：利用提升辊将在容纳有熔融金属的浮法槽中成形后的玻璃带自所述浮法槽的浴面拉起并对该玻璃带进行输送，该提升辊水平配置于设在所述浮法槽的下游侧的渣箱部，其中，在设有所述提升辊的渣箱部内，将最靠近所述浮法槽的提升辊和渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间划分为由所述渣箱部的侧壁、所述提升辊、该提升辊的底座、以及遮蔽构件包围的密闭空间并向该密闭空间输送非氧化性气体，使该密闭空间充满非氧化性气体并利用所述提升辊自所述浮法槽输送所述玻璃带，所述遮蔽构件与所述提升辊的周面相接触，其设置在所述渣箱部的最靠近所述浮法槽的侧壁的内侧，将所述渣箱部的侧壁与所述提升辊之间封闭。

2.根据权利要求1所述的浮法玻璃的制造方法，其中，

在所述提升辊与该提升辊的下方的底座之间夹设密封块，该密封块与所述提升辊抵接，容许该提升辊旋转，并且将该提升辊与所述底座之间密封。

3.根据权利要求1或2所述的浮法玻璃的制造方法，其中，

在所述玻璃带两侧与所述渣箱部的侧壁之间设置有第2遮蔽构件。

4.根据权利要求1或2所述的浮法玻璃的制造方法，其特征在于，

所述密闭空间的氧浓度为3ppm以下。

5.一种浮法玻璃的制造装置，该浮法玻璃的制造装置包括：浮法槽，在该浮法槽中将熔融玻璃供给至熔融锡的液面而成形玻璃带；渣箱部，其设置在所述浮法槽的下游侧，包括用于自所述熔融锡拉起玻璃带并对该玻璃带进行输送的提升辊，其中，所述渣箱部构成为包括壳体主体、水平配置在该壳体主体的内侧的一个以上的提升辊以及用于支承该提升辊的底部的底座，所述壳体主体的内部空间由所述提升辊和该提升辊的下方的底座分隔成多个区域，在最靠近所述浮法槽的出口部的所述提升辊和所述渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间配置有使所述区域成为密闭空间的遮蔽构件，该浮法玻璃的制造装置连接有用于向设有所述遮蔽构件的密闭空间供给非氧化性气体的气体供给部件。

6.根据权利要求5所述的浮法玻璃的制造装置，其中，

在所述渣箱部的最靠近所述浮法槽的侧壁的内侧设置有所述遮蔽构件，该遮蔽构件与所述提升辊的周面接触，而将所述渣箱部与所述提升辊之间封闭。

7.根据权利要求5或6所述的浮法玻璃的制造装置，其中，

在所述提升辊与该提升辊的下方的底座之间夹设有密封块，该密封块与所述提升辊抵接，容许该提升辊旋转，并且将该提升辊与所述底座之间封闭。

8.根据权利要求5或6所述的浮法玻璃的制造装置，其中，

所述遮蔽构件由碳构成，形成为长度与所述提升辊在所述玻璃带的宽度方向上的长度相同，所述遮蔽构件被配置为：所述遮蔽构件的一面与所述提升辊的周面的一部分接触且在所述玻璃带的宽度方向上的全长范围内接触。

9.根据权利要求5或6所述的浮法玻璃的制造装置，其中，

在沿着所述提升辊移动的玻璃带的两侧设置有第2遮蔽构件。

说明书

浮法玻璃的制造方法和制造装置

技术领域

[0001] 本发明涉及浮法玻璃的制造方法和制造装置。

背景技术

[0002] 在基于浮法的玻璃制造方法中，首先，将熔融玻璃连续地供给至熔融锡的水平的浴面来形成带状的玻璃(通常，称作玻璃带)，之后将该玻璃带自熔融金属浴的出口侧拉起并向熔融金属浴的槽外拉出。接着，利用输送辊(提升辊)输送该玻璃带并将其送入退火炉，在退火炉内一边使该玻璃带移动一边进行退火，之后利用切割装置将该玻璃带切割成需要的长度，从而制造板状的浮法玻璃。

[0003] 在所述的基于浮法的浮法玻璃制造方法中，玻璃的一面基于熔融金属的浴面形成，且通过在熔融金属上扩展熔融玻璃而形成玻璃的另一面，因此能够使玻璃的平坦性非常高，该方法被公认为是也适合大量生产的制造方法。因此，浮法被广泛应用于汽车用玻璃、显示器用玻璃等平板玻璃的生产。

[0004] 图9示出了应用于这种浮法的浮法玻璃制造装置的一例，该例中的装置由包括锡的熔融金属浴100的浮法槽101以及设置在该浮法槽101的下游侧的渣箱102和退火炉103构成。在渣箱102的内部水平设置有多个提升辊105，在退火炉103的内部水平设置有多个输送(レヤー)辊106(参照专利文献1)。

[0005] 在图9所示的制造装置中，将熔融玻璃107供给至熔融金属浴100的浴面，并且拉伸至需要的厚度和宽度，之后，能够利用提升辊105的牵引力拉出玻璃带108并将其输送向退火炉103侧。

[0006] 另外，作为这种浮法玻璃制造装置的另一例，已知有在设于渣箱的提升辊的上方设有氩气、氮气等非活性气体的供给部的制造装置(参照专利文献2)。

[0007] 所述非活性气体的供给部发挥这样的作用：使欲自浮法槽的出口部侧向渣箱的内侧流入的气体流逆流，从而使存在于浮法槽侧的含有挥发锡的气体不会混入至渣箱侧。由于渣箱侧与浮法槽的内部相比容易成为低温，因此若挥发锡向渣箱侧移动而作为微细的金属氧化物或者渣等附着于玻璃带的表面，则玻璃表面被污染，因此所述非活性气体的供给部能够防止出现该污染。

[0008] 现有技术文献

[0009] 专利文献

[0010] 专利文献1：再公表WO2009/014028号公报

[0011] 专利文献2：日本特开2011－251897号公报

发明内容

[0012] 发明要解决的问题

[0013] 然而，在浮法中，存在这样的问题：在将玻璃带自熔融锡的浴面拉起时，熔融锡附着于玻璃带的下表面，若熔融锡被自熔融金属槽拉出而成为一直附着于玻璃带的下表面的锡氧化物，则会作为异物成为玻璃的缺陷。并且，还存在这样的问题：作为异物附着的熔融锡附着于提升辊的外周面。该附着的熔融锡附着于提升辊的外周面而有可能生成成为凸部的氧化物。

[0014] 因此，在按照浮法将玻璃带自熔融锡拉起时，需要想办法使熔融锡不附着于玻璃带。并且，为了不生成熔融锡的氧化物，需要防止氧的混入。然而，提升辊及其周边部分的构造复杂，因此存在这样的问题：难以限制自渣箱的周围进入渣箱的内部侧的氧的量，难以阻止进入玻璃带自熔融锡脱离的部分及其周围的氧。

[0015] 基于这些背景，本发明人对包括提升辊的渣箱的构造进行了研究，并对附着于通过浮法得到的玻璃的熔融金属进行了研究，发现若对包括如下提升辊、即最靠近自熔融锡拉起玻璃带的位置的提升辊的部分的构造和气氛进行改善，则能够避免出现因锡氧化物而导致玻璃污染的问题，从而完成了本申请。

[0016] 本发明是基于所述背景而做成的，其目的在于提供一种能够提供因锡氧化物的附着而产生的缺陷较少的高品质的浮法玻璃的制造方法和制造装置。

[0017] 用于解决问题的方案

[0018] 本发明涉及一种浮法玻璃的制造方法，该浮法玻璃的制造方法包括这样的工序：利用提升辊将在容纳有熔融锡的浮法槽中成形后的玻璃带自所述浮法槽的浴面拉起并对该玻璃带进行输送，该提升辊水平配置于设置在所述浮法槽的下游侧的渣箱部，其中，在设有所述提升辊的渣箱部内，将最靠近所述浮法槽的提升辊和渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间划分为由所述渣箱部的侧壁、所述提升辊和该提升辊的底座包围的密闭空间并向该密闭空间输送非活性气体，使该密闭空间充满非活性气体并利用所述提升辊自所述浮法槽输送所述玻璃带。

[0019] 在自熔融锡的液面拉起玻璃带并对该玻璃带进行输送时，有可能在玻璃带的底面侧附着有熔融锡的液滴。根据本发明人的研究，认为锡的液滴自熔融锡分离出之后会附着于玻璃带的下表面侧主要是受氧的影响。因此，在调查熔融锡的液滴与氧气氛之间的关系时，发现在熔融锡的液滴附着于玻璃的表面一定时间之后，出现随着时间延迟而发生润湿(濡れ)的现象，到该时间延迟润湿(以下记载为二次润湿)为止的时间与氧浓度相关。

[0020] 因此，对于在渣箱部内最靠近玻璃带与熔融锡的液面分离的位置的提升辊，利用该提升辊使熔融锡侧的空间成为密闭空间并使该密闭空间充满非氧化性气体，从而能够抑制附着于玻璃带的下表面侧并被输送向提升辊侧的熔融锡的液滴。

[0021] 在本发明中，能够在所述渣箱部的最靠近所述浮法槽的侧壁的内侧设置与所述提升辊的周面相接触的遮蔽构件而将所述渣箱部的侧壁与所述提升辊之间封闭。

[0022] 若在最靠近玻璃带与熔融锡的液面分离的位置的提升辊和渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间设置遮蔽构件来构成密闭空间，则不会自该密闭空间向玻璃带的下表面侧供给氧。因此，能够降低在玻璃带的下表面与熔融锡的液面分离的位置处的氧浓度，能够抑制附着于玻璃带的下表面侧并被输送向提升辊侧的熔融锡的液滴。

[0023] 在本发明中，能够在所述玻璃带两侧与所述渣箱部的侧壁之间设置第2遮蔽构件。

[0024] 通过在玻璃带的两侧设置第2遮蔽构件，能够降低玻璃带的下表面与熔融锡的液面分离的一侧的氧浓度，能够抑制附着于玻璃带的下表面侧并被输送向提升辊侧的熔融锡的液滴。

[0025] 在本发明中，能够使所述玻璃带的下表面与熔融锡的液面分离的位置的氧浓度为3ppm以下。

[0026] 在熔融锡的液滴出现二次润湿的情况下，存在氧浓度的影响，在氧浓度高于一定程度时，到二次润湿出现为止的时间缩短。通过将氧浓度抑制在3ppm以下能够使二次润湿的发生时间足够长，因此能够抑制在玻璃带的下表面与熔融锡的液面分离的位置处自熔融锡分离出锡的液滴。

[0027] 本发明的玻璃带的制造装置包括：浮法槽，在该浮法槽中将熔融玻璃供给至熔融锡的液面而形成玻璃带；渣箱部，其设置在所述浮法槽的下游侧，包括用于自所述熔融锡拉起玻璃带并对该玻璃带进行输送的提升辊，该玻璃带的制造装置的特征在于，所述渣箱部构成为包括壳体主体、水平配置在该壳体主体的内侧的一个以上的提升辊以及用于支承该提升辊的底部的底座，所述壳体主体的内部空间由所述提升辊和该提升辊的下方的底座分隔成多个区域，在最靠近所述浮法槽的出口部的所述提升辊和所述渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间配置有使所述区域成为密闭空间的遮蔽构件，该浮法玻璃的制造装置连接有用于向设有所述遮蔽构件的密闭空间供给非活性气体的气体供给部件。

[0028] 对于最靠近玻璃带与熔融锡的液面分离的位置的提升辊，利用遮蔽构件使比该提升辊靠熔融锡侧的空间成为密闭空间并使该密闭空间充满非氧化性气体，从而抑制氧进入玻璃带与熔融锡的液面分离的区域。由此，抑制在玻璃带与熔融锡的液面分离时附着于玻璃带的下表面侧的熔融锡的液滴，而抑制被输送向提升辊侧的熔融锡的液滴。

[0029] 在本发明中，能够在所述渣箱部的最靠近所述浮法槽的侧壁的内侧设置所述遮蔽构件，该遮蔽构件与所述提升辊的周面接触，而将所述渣箱部与所述提升辊之间封闭。

[0030] 所述遮蔽构件与提升辊接触且容许提升辊旋转，并且使提升辊与渣箱部的侧壁之间的区域成为密闭空间。因此，在不妨碍提升辊的动作的前提下构成密闭空间，来防止熔融锡的液滴附着于玻璃带。

[0031] 在本发明中，能够在所述提升辊与该提升辊的下方的底座之间夹设有密封块，该密封块与所述提升辊抵接，容许该提升辊旋转，并且将该提升辊与所述底座之间封闭。

[0032] 通过设置密封块，能够容许提升辊在底座上旋转并且将底座与提升辊之间气密地分隔开。因此，能够防止氧混入密闭空间。

[0033] 在本发明中，能够为这样的结构：所述遮蔽构件由碳构成，形成为长度与所述提升辊在所述玻璃带的宽度方向上的长度相同，所述遮蔽构件被配置为、所述遮蔽构件的一面与所述提升辊的周面的一部分接触且在所述玻璃带的宽度方向上的全长范围内接触。

[0034] 遮蔽构件由碳构成，由此耐热性优良，从而能够作为配置在供高温的玻璃带经过的区域附近的遮蔽构件而不受因热量发生变形等的影响地将密闭空间封闭。

[0035] 在本发明中，能够为这样的结构：在沿着所述提升辊移动的玻璃带的两侧设置有第2遮蔽构件。

[0036] 通过在玻璃带的两侧设置第2遮蔽构件，能够降低玻璃带的下表面与熔融锡的液面分离的一侧的氧浓度，能够抑制附着于玻璃带的下表面侧并被输送向提升辊侧的熔融锡的液滴。

[0037] 发明的效果

[0038] 采用本发明，将最靠近浮法槽的提升辊和渣箱部的与该提升辊相邻相对的侧壁之间做成密闭空间，使该密闭空间充满非活性气体并且利用提升辊自浮法槽的熔融锡拉起玻璃带并对该玻璃带进行输送。由此，在玻璃带自熔融锡的液面分离出的部分难以附着熔融锡的液滴，因此能够制造没有出现起因于熔融锡的附着的缺陷的高品质的玻璃。

[0039] 为了将提升辊与渣箱部的侧壁之间做成密闭空间，而在渣箱部的侧壁设置遮蔽构件，从而能够实现将渣箱部的侧壁与提升辊之间封闭。

附图说明

[0040] 图1是表示本发明的第一实施方式的浮法玻璃制造装置的整体结构的概略图。

[0041] 图2是表示设于该制造装置的第1提升辊及其周围的构造的结构图。

[0042] 图3是表示设于该制造装置的多个提升辊的结构图。

[0043] 图4是用于解析在自设于该制造装置的熔融金属拉起玻璃带时熔融金属的液滴附着的条件的说明图。

[0044] 图5表示到熔融锡的液滴出现二次润湿为止的时间(潜伏时间)与氧浓度之间的关系，图5的(A)是表示氧浓度与到发生二次润湿为止的时间之间的关系的图表，图5的(B)是表示氧浓度与熔融锡的液滴的关联状态的说明图。

[0045] 图6是表示在进行该制造装置的证实试验的情况下的第1提升辊及其周围的构造的结构图。

[0046] 图7是表示通过该制造装置的证实试验得到的提升辊旁边的区域的压力与氮气流量之间的关系的图表。

[0047] 图8是表示通过该制造装置的证实试验得到的玻璃带下方区域的气体浓度与提升辊旁边的区域的氮气流量之间的关系的图表。

[0048] 图9是表示以往的浮法玻璃制造装置的一例的结构图。

具体实施方式

[0049] 以下，参照附图说明本发明的浮法玻璃的制造装置的一实施方式，但本发明并不限定于以下要说明的实施方式。

[0050] 如图1所示，本实施方式的浮法玻璃的制造装置1构成为这样的装置：使供给至浮法槽2的熔融玻璃G沿着装满于浮法槽2的熔融锡3的表面流动而成形带板状的玻璃带5，利用设于渣箱部6的提升辊7将该玻璃带5拉出。在本实施方式的装置中，玻璃带5在被自渣箱部6的出口部取出后利用输送辊9拉入退火炉10而被冷却，之后对玻璃带5进行清洗，在清洗之后将玻璃带5切割成规定尺寸而得到目标大小的浮法玻璃。

[0051] 自未图示的熔化炉经由供给通路11输送来的熔融玻璃G经由设于供给通路11的末端部的唇部12供给至浮法槽2的入口部2a。在唇部12的上游侧的供给通路11设有用于调节熔融玻璃G的流动的调节件(ツイール)13。所述供给通路11、浮法槽2均是通过组装多块耐火砖等耐热材而构成的，在图1中简略地进行了图示。

[0052] 如图1所示，浮法槽2包括装满有熔融锡3的熔融金属浴槽2A和设置于该熔融金属浴槽2A的上部的上部构造体2B，是浮法槽2的内部与外部气氛之间被极力阻断的结构。

[0053] 在浮法槽2的入口部2a形成有前楣(前面壁)15，前楣15的上部连接于顶壁16。在浮法槽2的下游端侧以与顶壁16连接的方式设有后端壁17，在后端壁17的靠近熔融锡3的液面的位置形成有玻璃带5的出口部18。在浮法槽2中，由前楣15、顶壁16和后端壁17构成上部构造体2B。

[0054] 另外，上部构造体2B包括未图示的管，自该管供给包括氢和氮的还原性混合气体，将浮法槽2的内部空间始终保持为大气压以上的还原性气氛。浮法槽2内部的还原性气氛中的若干气体还自供玻璃带5拉出的出口部18向渣箱部6侧流出。

[0055] 设在浮法槽2的后端侧的渣箱部6包括下部壳体6A和上部壳体6B，在本实施方式中，在下部壳体6A水平设有3个提升辊7。提升辊7大致由辊主体部和用于支承该辊主体部的轴构成，该辊主体部由例如石英形成。提升辊7的设置个数并不像本实施方式那样限定于3个，只要能够将玻璃带5输送到退火炉10侧，则可以设置任意个数。下部壳体6A在底壁6c上具有靠浮法槽2侧的侧壁6a和靠退火炉10侧的侧壁6b，在该侧壁6a、6b的宽度方向两侧具有竖立设置于该侧壁6a、6b的宽度方向两侧的其他侧壁(未图示)，并且构成为各侧壁的上面侧开口的箱状。

[0056] 在所述提升辊7的下部配置有石墨制的密封块21和壁状的底座22，以用来阻断熔融金属浴槽2A与退火炉10之间的气流。所述密封块21以上表面与提升辊7的辊面相接触的方式设置在底座22上，密封块21与提升辊7的周面之间以一定程度的气密性地分隔开。所述底座22由球墨铸铁等较厚的金属片构成为壁状，以分隔下部壳体6A的内部的方式设置。

[0057] 三组底座22、密封块21和提升辊7的组合沿玻璃带5的输送方向隔开规定间隔地配置在下部壳体6A的内部，因此将下部壳体6A的内部空间分隔成4个区域R1、R2、R3、R4。该4个区域中的最靠近浮法槽2的出口部18的区域R1是由最靠近浮法槽2的出口部18的第1提升辊7、设置在该第1提升辊7的下方的密封块21和底座22以及下部壳体6A的侧壁包围而成的区域。另外，各提升辊7的两端部分以靠近下部壳体6A的未图示的周壁部分的方式配置在该周壁部分附近，因此区域R1、R2、R3、R4呈上面侧开口的箱状的区域。另外，也能够采用各提升辊7直接贯穿下部壳体6A的侧壁的构造，在该情况下，为了尽可能成为密闭构造，能够采用这样的构造：将侧壁与提升辊之间的间隙形成得较小，利用耐热性的布覆盖间隙。

[0058] 在所述区域R1的上部侧设有由支承构件26支承的碳制的遮蔽构件27。该遮蔽构件27形成为：横剖面为倒置梯形的形状，长度与提升辊7在所述玻璃带的宽度方向上的长度相同。遮蔽构件27遍及在被容纳在下部壳体6A的内部的提升辊7的在所述玻璃带的宽度方向上的大致全长范围内，具有这样的效果：将提升辊7同下部壳体6A的与该提升辊7相邻相对的侧壁6a之间封闭而使区域R1成为密闭空间。

[0059] 如图2放大所示那样，遮蔽构件27具有设置在水平配置的耐热金属制的梳状的支承构件26上的底面27a。并且，上述遮蔽构件27包括在该底面27a的宽度方向端缘侧立起的第1侧面27b和第2侧面27c以及形成为与这些侧面连接的顶面27d，上述遮蔽构件27横剖面形成为倒置梯形形状。遮蔽构件27的第1侧面27b自底面27a的一侧缘垂直立起并与下部壳体6A的侧壁6a侧紧密接触。第2侧面27c自底面27a的另一侧缘倾斜且以靠近提升辊7侧的方式延伸，上端部与提升辊7的周面轻微接触。

[0060] 支承构件26固定于被组装于下部壳体6A的侧壁6a的双重壁构造部。该双重壁构造部是通过对下部壳体6A的靠浮法槽2侧的侧壁6a开设制冷剂流路28并配置内部壁29而构成的。梳状的支承构件26借助基部构件30水平安装于该内部壁29，在该支承构件26上如所述那样设置有遮蔽构件27。

[0061] 在提升辊7的下方设置有供给管23，该供给管23用于喷出氮等非活性气体或氢等还原性气体、或者这两者的混合气体等非氧化性气体。在本实施方式中，优选的是，自供给管23喷出的非氧化性气体在被预热为400℃～600℃后喷出。这是为了防止因非氧化性气体的喷出而导致玻璃带5被局部冷却。

[0062] 如图3所示，供给管23分别设于区域R1、R2、R3，各供给管23向渣箱部6的外部侧引出并集合成一根延伸管32，延伸管32与氮气、氢气等非氧化性气体供给源33连接。通过该构造，能够自非氧化性气体供给源33分别向区域R1、R2、R3供给非氧化性气体。另外，在通过供给管23向区域R1供给非氧化性气体的情况下，由于区域R1由遮蔽构件27密闭，因此能够使区域R1正压化。

[0063] 另外，在渣箱部6设有未图示的加热器，构成为能够调节玻璃带5的温度。

[0064] 渣箱部6的上部壳体6B构成为钢材制的密封门(シーリングゲート)，设置在下部壳体6A的上侧，并且构成为包括设置在浮法槽2与退火炉10之间的顶壁24以及自该顶壁24垂下的不锈钢制的帘(ドレープ)25。自顶壁24垂下的多个帘25中的内侧的3个帘25配置为沿着3个提升辊7与在该3个提升辊7的上方移动的玻璃带5之间的接触位置的上方。即，这些帘25以遍及在提升辊7在所述玻璃带的宽度方向上的全长范围内的方式配置在提升辊7的中心轴的上方，将上部壳体6B的内部空间分隔成多个空间。

[0065] 在退火炉10水平设置有多个输送辊9，经过渣箱部6移动来的玻璃带5能够利用多个输送辊9输送到退火炉10内。

[0066] 采用利用遮蔽构件27使所述区域R1成为密闭空间并供给非氧化性气体的构造，因此，优选的是，如图2所示那样在区域R1的内部设置压力测量用检测管35，以能够测量区域R1的内部压力。并且，优选的是，在所述遮蔽构件27的上方空间、即由遮蔽构件27、提升辊7以及在这两者的上方通过的玻璃带5划分而成的区域R5设置气氛气体测量用配管36，以能够分析该区域R5的气氛气体。其中，图2中的附图标记37表示设置于区域R2的后述试验用示踪气体导入管。

[0067] 然而，在本实施方式的制造装置1中，为了将区域R1做成密闭空间而设置遮蔽构件27，但也可以在渣箱部6的内侧的供玻璃带5经过的区域的两侧如图3中的双点划线所示那样配置第2遮蔽构件39。第2遮蔽构件39能够由绝热材等构成，能够配置为沿多个提升辊7的端缘侧延伸。利用第2遮蔽构件封闭渣箱部6内部的存在于玻璃带5的两侧的开口，从而能够将渣箱部6的下部壳体6A侧做成更严密的密闭构造。

[0068] 通过设置第2遮蔽构件39，能够进一步提高下部壳体6A侧的密闭构造，由此能够抑制欲进入玻璃带5的下表面侧的氧，从而具有这样的效果：能够抑制出现熔融锡的液滴附着于玻璃带5的下表面的现象。

[0069] 接着，说明使用所述结构的浮法玻璃的制造装置1来制造浮法玻璃的方法。

[0070] 在使用图1～图3所示的结构的制造装置来制造玻璃带5时，自熔融炉向供给通路11供给熔融玻璃G，利用调节件13的拦截量调整在唇部12上流动的熔融玻璃G的流量并向浮法槽2的入口部2a的熔融锡3上供给熔融玻璃G。在浮法槽2内，将在熔融锡3上流动的熔融玻璃G成形为规定宽度、规定厚度的带板状的玻璃带5。利用提升辊7自熔融锡3的液面拉起该玻璃带5并使其向渣箱部6侧移动，接着利用输送辊9将该玻璃带5输送到退火炉10的内部并对玻璃带5进行冷却。在退火炉10内冷却的玻璃带5在被冷却后通过切割工序切割成需要的长度、宽度，由此能够制造目标宽度和目标长度的浮法玻璃。

[0071] 在向所述熔融锡3供给熔融玻璃G来成形玻璃带5的情况下，一边向渣箱部6的各区域R1、R2、R3、R4供给非氧化性气体一边成形玻璃带5。供给该非氧化性气体的区域、尤其是区域R1是最靠近玻璃带5离开熔融锡3的液面而被拉起的位置、所谓的拾取位置的区域，因此认为区域R1的气氛给玻璃带5的状态带来的影响最大。另外，玻璃带5在区域R1的上方与提升辊7接触并被输送，因此认为所述拾取位置的玻璃带5的下表面侧的气氛受区域R1的气氛的影响较大。

[0072] 因此，在区域R1设置遮蔽构件27而将区域R1的上部封闭，从而使该区域R1成为密闭空间，并且向该密闭空间供给非氧化性气体，从而构成为区域R1内的气体不向玻璃带5的下表面侧移动，即便有少量气体进入，也是非氧化性气体进入玻璃带5的下表面侧。另外，若向区域R1内喷出非氧化性气体使区域R1内充满非氧化性气体而利用非氧化性气体使区域R1正压化，则氧自渣箱部6的周围进入区域R1的可能性也较小，因此不会使玻璃带5的下表面侧的氧浓度升高。在向区域R1供给非氧化性气体的情况下，优选为大气压+10Pa左右。另外，浮法槽2的内部空间始终被保持为大气压以上的还原性气氛，因此自浮法槽2的出口部18流出构成还原性气氛的氢气和氮气的混合气体。

[0073] 玻璃带5以贯穿所述渣箱部6的内部的方式经过所述渣箱部6的内部，在渣箱部6的内部设有多个提升辊7，因此无法将渣箱部6的内部做成完全的密闭空间。因此，通过如下这样是有效的，即：设置遮蔽构件27而将区域R1做成密闭空间，并且设置供给管23而向区域R1供给非氧化性气体，利用非氧化性气体使区域R1正压化。

[0074] 另外，在本实施方式中，将区域R1称为密闭空间，但提升辊7和与其接触的遮蔽构件27只是相接触，因此使区域R1正压化会自提升辊7与遮蔽构件27之间流出若干气体。另外，提升辊7与密封块21之间也只是相接触，因此使区域R1正压化可能会自提升辊7与遮蔽构件27之间也流出若干气体。另外，自提升辊7的两端侧的与渣箱部6的侧壁相接触的部分也发生若干气体流出。总结以上而言，在本实施方式中，将在自这些部分发生气体流出的程度下封闭区域R1的状态称为密闭空间。

[0075] 将区域R1做成密闭空间，使该密闭空间充满非氧化性气体，使区域R1正压化，从而与以往相比，能够降低玻璃带5离开熔融锡3的液面的部分及其周围的氧浓度。因此，熔融锡的液滴附着于玻璃带5的下表面侧的可能性较小，锡氧化物附着于玻璃带5的下表面侧的可能性也较小。

[0076] 然而，如果不设置遮蔽构件27，则即使仅向区域R1导入还原性气体也无法降低玻璃带5的下表面侧的氧量。例如，在渣箱部6内，在上部壳体6B的内部与下部壳体6A的内部产生温差，因此也产生压力差，由此会有少量的氧自下部壳体6A的周围进入下部壳体6A的内部。在渣箱部6内，温度为600℃左右，即使将氢作为还原性气体导入该氧量的环境，氧也无法被消费掉而一直存在。在该情况下，若在不设置遮蔽构件27的情况下向区域R1导入非氧化性气体且非氧化性气体的导入压升高，则稍微含有氧的非氧化性气体会自区域R1的开口侧向玻璃带5侧流出，因此无法达到减少氧这样的目的。也就是说，若增大非氧化性气体的送风量，则有可能吹起尘埃而将玻璃带5污染。在这一点上，通过设置遮蔽构件27使区域R1为密闭空间并且使区域R1内的压力稍高于大气压使区域R1正压化，对能够削减玻璃带5的下表面侧的氧的意义较大。

[0077] 自供给管23供给向区域R1的非氧化性气体既可以是始终处于流动的供给状态，也可以是通过测量压力而在达到目标的正压状态的时点停止供给并仅在压力降低时再次追加供给等任意供给状态。

[0078] 以下，说明熔融锡附着于玻璃带5的下表面侧的状态以及在氧浓度较低的情况下熔融锡的液滴难以附着的状态。

[0079] 图4表示如下状态：在砖等耐火材34上存在有熔融锡3，并且使较薄的玻璃带5沿着该熔融锡3的液面移动，之后在任意位置向斜上方拉起玻璃带5的情况下，熔融锡3的液滴自熔融锡3的端部分离出来而作为渣3a以附着于玻璃带5的下表面的状态与玻璃带5一起稍微移动。

[0080] 为了避免熔融锡的液滴附着于玻璃带5的下表面，认为若在三相点(玻璃带5离开熔融锡3的点)与玻璃面平行地发挥作用的力的平衡在向熔融锡3侧拉回的方向上发挥作用，则熔融锡的液滴不会被玻璃带5带走。

[0081] 如图4所示，在试着提取出与玻璃带5的下表面平行的方向的力时，在被玻璃带5带走的方向上，γGS(气氛与玻璃的表面能量变化)表面张力变化。在欲向熔融锡侧拉回的方向上，mgsinη(重力的平行方向成分)、γLS(液体锡与气氛之间的表面能量变化)表面张力变化、γLGcosθ(液体锡与气氛之间的表面能量变化)表面张力变化。

[0082] 概括而言，mgsinη+γLGcosθ+γLS＝γGS，决定该平衡式的方向的是作为变动值的γLGcosθ，由于γLG恒定，因此认为θ的值是主导性因素。

[0083] 结果，可知，锡的润湿角(濡れ角)θ(90°～180°)越大，向熔融锡拉回的一侧的力越大，而成为熔融锡的液滴不附着于玻璃带5的倾向。

[0084] 为了确定该熔融锡的液滴是否附着于玻璃带侧的现象，本发明人进行了以下的试验。在以下的试验中，根据本发明人的见解，在熔融锡与玻璃带5的下表面接触的状态下，熔融锡的液滴出现二次润湿这样的现象，随着时间的经过而出现熔融锡的液滴的润湿角发生变化的现象，以下进行说明。

[0085] 以下示出对于本发明人进行的熔融锡的液滴的润湿角的、到二次润湿为止的时间(秒)与氧浓度(ppm)之间的关系。

[0086] 在玻璃的表面不存在氧的状态下，在500℃～900℃的环境中，熔融锡的液滴40的润湿角保持113°不变。在该熔融锡的液滴40周围存在氧时，如图5的(B)所示，在液滴40中开始有氧进入。在开始进入之后，随着时间的经过而液滴中的氧浓度增大，但润湿角θ几乎不发生变化，在某一时刻超过饱和溶解度之后在液滴表面开始生成氧化膜，与此同时表面能量急剧变化，因此发生能够称为二次润湿现象的现象而使润湿角θ2减小。将该现象称为二次润湿现象。

[0087] 通过本发明人的试验可知，若发生该二次润湿现象，则润湿角减小，因此在所述平衡式的方向上，向熔融锡拉回液滴40的一侧的力减小，而出现液滴40附着于移动中的玻璃带5的倾向。

[0088] 在图5的(A)的图表中示出了对到二次润湿为止的时间(潜伏时间)与氧浓度(ppm)之间的关系进行测量而得到的结果。该试验表示对在700℃下改变氧浓度的情况时、各氧浓度的到发生二次润湿为止的时间进行测量而得到的结果。

[0089] 由图5的(A)所示的图表可知，对于到发生二次润湿为止的时间，在氧浓度为30ppm时在接近于0的短时间内发生二次润湿，在氧浓度为10ppm时花费250秒左右，在为5ppm时花费300秒左右，从氧浓度为3ppm时起时间急剧变长，在氧浓度为3ppm时为500秒左右，在为1ppm时为1500秒左右而大幅度地增长。因此，认为发生二次润湿的时间越长，熔融锡的液滴越难以附着在玻璃带的下表面侧。

[0090] 因此，认为如所述那样设置遮蔽构件27使区域R1密闭化并供给非氧化性气体使区域R1正压化是比较重要的。

[0091] 实施例

[0092] 以下，说明本发明的实施例，来进一步说明本申请。

[0093] 使用图1、图2所示的结构的玻璃带的制造装置，如图6所示那样将由最靠近浮法槽2的提升辊7、在该提升辊7上通过的玻璃带5、下部壳体6A的侧壁上部以及遮蔽构件27包围的区域定义为A室。接着，将由最靠近浮法槽2的提升辊7、该提升辊7的下方的密封块21和底座22、下部壳体6A的底壁和侧壁6a以及所述遮蔽构件27包围的区域R1定义为B室。

[0094] 提升辊7使用φ为250mm、长度为3m的石英制的辊，以使厚度为0.7mm的玻璃带在提升辊7上移动的方式输送玻璃带。遮蔽构件使用底边为20mm、上边为40mm、与提升辊7的表面接触的斜边为30mm的倒置梯形形状的碳制的构件，在自重的作用下斜边与提升辊7的表面抵接的同时利用提升辊7输送玻璃带5并进行以下的试验。

[0095] 使用以上结构的装置，进行第1试验，即：自设置于B室的供给管23将氮气以(0、4、8、16)m3/h的比例分别供给向B室。接着，进行第2试验，即：自设在提升辊7的后方的区域R2的示踪气体的导入管37将作为示踪气体的CO2气体以1.2m3/h的比例供给向区域R2。并且，在各试验条件下，在设有遮蔽构件(遮蔽板)27的情况和没有设置遮蔽构件(遮蔽板)27的情况下分别进行试验。

[0096] 图7表示分别在设有遮蔽板的情况下和省略遮蔽板的情况下，B室的压力随着第1试验而发生的变化。

[0097] 由图7所示的结果可知，在没有设置遮蔽板的情况下，随着氮气流量增大而B室的压力稍微上升，但在超过8m3/h时压力急剧下降。这被认为是，由于没有设置遮蔽板，因此氮气自密封B室的密封块与提升辊之间的接触部分或者提升辊与玻璃带之间的接触部分泄漏，由此生成的较强的气流导致局部出现负压部。相对于此，在设有遮蔽板的情况下，随着氮气流量增大而B室的压力成比例地上升。

[0098] 由以上可知，通过设置遮蔽板，能够将A室和B室分隔开而使B室成为密闭空间。

[0099] 图8表示分别在设有遮蔽板的情况下和省略遮蔽板的情况下，A室的CO2浓度随着第2试验而发生的变化。

[0100] 如图8所示，在没有设置遮蔽板的情况下，随着氮气流量增大而A室内的压力暂时3 3
降低，但在氮气流量超过8m/h时压力急剧上升。这与如图7所示那样在氮气流量超过8m/h时B室的压力急剧降低的结果相关。

[0101] 相对于此，在设有遮蔽板的情况下，在氮气流量增大时，A室的CO2浓度能够逐渐降低，在氮气流量超过8m3/h时A室的CO2浓度大致为0ppm。

[0102] 由此可知，在应用于实际的浮法玻璃的制造装置时，即使与B室相邻的区域存在有空气(氧)，该空气中的氧到达A室的量也非常少。

[0103] 因此，在使用图6所示的构造的制造装置时，能够使玻璃带与熔融锡的液面分离的区域的氧大致为0ppm，因此如之前根据图5说明的那样能够使到熔融锡的液滴的二次润湿出现为止的时间变长。因此，具有这样的特征：熔融锡的液滴附着于玻璃带的下表面的可能性较小，能够制造没有因锡氧化物附着而产生的缺陷的高品质的浮法玻璃。

[0104] 本申请基于2012年10月31日提出申请的日本特许出愿2012－240529，在此作为参照引入其内容。

[0105] 产业上的可利用性

[0106] 本发明的技术通常能够广泛应用于基于浮法的玻璃带的制造技术。

[0107] 附图标记说明

[0108] G、熔融玻璃；R1、R2、R3、R4、R5、区域；1、浮法玻璃的制造装置；2、浮法槽；2A、熔融金属浴槽；2a、入口部；3、熔融锡；5、玻璃带；6、渣箱部；6A、下部壳体；6a、侧壁；6B、上部壳体；6b、侧壁；7、提升辊；9、输送辊；10、退火炉；11、供给通路；12、唇部；13、调节件；15、前楣；17、后端壁；18、出口部；21、密封块；22、底座；23、供给管；25、帘；26、支承构件；27、遮蔽构件；29、内部壁；35、压力测量用检测管；36、气氛气体测量用配管；37、示踪气体导入管；39、第2遮蔽构件。