狭缝式模具涂布装置

摘要

本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效抑制真空室内的压力振荡，因而能够确保基膜上的涂布稳定性，从而降低缺陷产品的比例。

权利要求

1.一种狭缝式模具涂布装置，包括：

狭缝式模具，该狭缝式模具配置为向基膜供应涂布液；

真空室，该真空室安装在所述狭缝式模具的前端，并且在该真空室与所述基膜之间形成有间隙；以及压力振荡减低箱，该压力振荡减低箱连接至所述真空室，其中，连接至真空泵的第一管道与所述真空室的一侧相连接，其中，连接至所述压力振荡减低箱的第二管道与所述第一管道的一侧相连接，压力表安装在第一管道的一侧以检查真空室的内部压力，该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式1：[公式1]

V1≤V2

其中，V1表示所述真空室的体积，V2表示所述压力振荡减低箱的体积，该狭缝式模具涂布装置满足下面的公式2：[公式2]

V1+V2≥A(P2-P1)DW

其中，V1表示所述真空室的体积(m3)，V2表示所述压力振荡减低箱的体积(m3)，A为1m3/N至20m3/N，P1表示该真空室中的压力(N/m2)，P2表示大气压力(N/m2)，D表示在该真空室处形成的间隙的宽度(m)，W表示在对所述基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)。

2.根据权利要求1所述的狭缝式模具涂布装置，其中，所述基膜为通过辊供应的基膜。

说明书

狭缝式模具涂布装置

技术领域

[0001] 本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，涉及一种狭缝式模具涂布装置，该装置在进行狭缝式模具涂布时，能够通过降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。

背景技术

[0002] 通常而言，作为在基膜上形成涂层的方法，狭缝式模具涂布法已经得到了使用。

[0003] 图1为示意性示出在狭缝式模具涂布法中使用的常规狭缝式模具涂布的构造示意图。

[0004] 如图1中所示，使用狭缝式模具3，在卷绕于辊1上的基膜2的表面上进行涂布。通过狭缝式模具3，在基膜2的表面上形成涂层4。在这种情况下，使真空室5贴附于狭缝式模具3的前端，真空室5通过形成局部真空环境而用于提高涂布的稳定性。

[0005] 然而，为了形成涂层，真空室5与基膜2没有紧密地接触，因此应当具有特定的间隙D。由于进气流穿过间隙D的流动，因此在真空室5中发生高速流动，该高速流动引起湍流，使得真空室5中的压力并不恒定而是振荡的。所以，如果真空室内的压力振荡，则基膜的涂布较不稳定，因而产品的质量较差。

[0006] 因此，迫切需要开发出能够从根本上解决此问题的狭缝式模具涂布装置。

[0007] 以下专利文件1和2公开了狭缝式模具涂布装置。

[0008] [现有技术文件]

[0009] [专利文件]

[0010] 专利文件1：韩国未审查专利申请公开No.2012-0108484

[0011] 专利文件2：韩国未审查专利申请公开No.2011-0098578

发明内容

[0012] 技术问题

[0013] 本申请旨在提供一种狭缝式模具涂布装置，更具体而言，提供一种狭缝式模具涂布装置，该装置能够通过有效降低真空室内的压力振荡来确保基膜的涂布稳定性。

[0014] 技术方案

[0015] 本申请涉及一种狭缝式模具涂布装置。

[0016] 图2为示意性示出根据本申请的狭缝式模具涂布装置的构造示意图。下面，将参照图2详细地描述本申请。

[0017] 在示例性的实施方案中，狭缝式模具涂布装置可以包括：狭缝式模具14，其配置为向基膜12供应涂布液；真空室20，其安装在狭缝式模具14的前端，并且在真空室20与基膜12之间形成有间隙D；以及压力振荡减低箱30，其连接至真空室20。

[0018] 像图2那样，基膜12可以在被卷绕于辊10上的情况下进行供应。

[0019] 对于所述基膜的材料没有特别限制，只要通过涂布液能在该基膜上形成涂层即可。例如，所述基膜可以为丙烯酰基膜或通常用作压敏粘合膜或光学膜的塑料膜。

[0020] 狭缝式模具14可以设置为接近辊10。狭缝式模具14可以向基膜12的表面供应涂布液，并且可以在基膜12上形成具有多种图案的涂层16。

[0021] 真空室20可以安装在狭缝式模具14的前端。真空室20是在涂布狭缝式模具14时，安装来通过向狭缝式模具提供真空环境而提高基膜12上的涂布稳定性的装置。

[0022] 对于真空室20的内部压力没有特别限制，只要真空室20的内部压力合适地保持低于大气压力，并且因引入空气引起的压力振荡的振幅为100Pa以下即可。

[0023] 真空室20的体积与压力振荡减低箱30的体积之间的关系(将在后面讨论)可以满足下面的公式1。

[0024] [公式1]

[0025] V1≤V2

[0026] 在公式1中，V1表示所述真空室的体积，V2表示所述压力振荡减低箱的体积。

[0027] 对于所述真空室的体积V1没有特别限制，只要其满足上面的公式1即可。例如，该真空室的体积V1可以为0.1m3以上、0.2m3以上、0.3m3以上、0.4m3以上或0.5m3以上。对于真空室20的体积上限没有特别限制，只要真空室20的体积小于压力振荡减低箱30的体积即可3 3 3
(将在后面讨论)，例如，其可以为约0.9m、0.8m或0.7m。

[0028] 在真空室20与基膜12之间可以形成间隙D。由此之故，流入真空室20中的空气会引起湍流。由于真空室20的体积较小，因而在真空室20中发生的这种扰动导致压力振荡。因此，如果真空室20的体积较大，则对于相同程度扰动的压力振荡的振幅会较小。然而，如果真空室20的体积大于前述范围，则将会发生一些机械问题。因此，本申请旨在通过安装具有与真空室20分离的、比真空室20更大的体积的压力振荡减低箱30来解决此问题。

[0029] 第一管道22与真空室20的底部相连接。压力表24安装在第一管道22的一侧以检查真空室20的内部压力。第一管道22的一端连接至真空泵，从而可以对真空室20的内部压力进行调节。

[0030] 压力振荡减低箱30可以连接至真空室20。

[0031] 在示例性的实施方案中，只要压力振荡减低箱30与真空室20相连接，并设置为能够与真空室20一起向狭缝式模具14提供真空环境，则本申请所属领域的普通技术人员可以在所附权利要求中描述的本申请范围内做出各种修改和变化。

[0032] 在示例性的实施方案中，压力振荡减低箱30可以与第二管道26相连接，该第二管道26连接至第一管道22的一侧。虽然图2显示压力振荡减低箱30连接至第二管道26，但本申请并非必须局限于此实施方案。如图3所示，与压力振荡减低箱30相连接的第二管道26可以直接连接至真空室20中与第一管道22相连接的一侧不同的一侧。

[0033] 像这样，如果压力振荡减低箱30通过第二管道26直接与第一管道22或真空室20相连接，则可以获得使真空室20的体积大幅度增大的效果。如果真空室20的体积增大，则可以显著地降低压力振荡，从而能够使扰动最小化，并且可以确保涂布稳定性。

[0034] 为了有效降低根据本申请的包括压力振荡减低箱30的狭缝式模具涂布装置中的压力振荡，压力振荡减低箱30的体积应当大于真空室20的体积。例如，压力振荡减低箱30的体积可以为真空室20体积的10倍以上、15倍以上或20倍以上，但本申请并不局限于此。

[0035] 在示例性的实施方案中，真空室和压力振荡减低箱的体积可以满足下面的公式2。

[0036] [公式2]

[0037] V1+V2≥A(P2-P1)DW

[0038] 在公式2中，V1表示真空室的体积(m3)，V2表示压力振荡减低箱的体积(m3)，A为1至20m3/N，P1表示真空室的内部压力(N/m2)，P2为大气压力(N/m2)，D为在真空室处形成的间隙的宽度(m)，W表示在对基膜进行涂布后形成的涂层的水平长度(m)。

[0039] 并且，在上面的公式2中，真空室的体积V1和压力振荡减低箱的体积V2的单位可以为cm3而非m3，但优选为m3。对于真空室的压力P1的下限没有特别限制，只要该真空室的压力P1低于大气压力即可，例如，其可以为10,000Pa以下、5,000Pa以下、2,500Pa以下、1,000Pa以下或900Pa以下，并且可以合适地形成在约100Pa至1,000Pa的范围内。

[0040] 并且，在上面的公式2中，D表示在真空室处形成的间隙的宽度。当宽度D较小时，流入真空室中的空气较少，因此对于宽度D的下限没有特别限制，但是例如，其可以为1mm以下、0.5mm以下或0.1mm以下，并且可以优选形成在约0.1mm至0.5mm的范围内。W表示在涂布基膜后涂层的水平长度，该长度W可以根据间隙的宽度而改变。例如，长度W可以形成在约1mm至10,000mm的范围内。A为引入来表示真空室体积V1与压力振荡减低箱体积V2之和正比于前述大气压力P2与真空室内压力P1之差和间隙宽度以及涂层水平长度的乘积的常数，从
3 3 3
而合适地显示单位。A的单位可以以m/N或cm/N来表示。当A的单位为m/N时，A可以为0.1至
30、0.5至25、0.5至20或1至20范围内的适当值。

[0041] 对于压力振荡减低箱30的体积没有特别限制，只要该压力振荡减低箱30的体积满足上面的公式2并且大于真空室20的体积即可，例如，压力振荡减低箱30的体积可以为1m3以上、1.2m3以上、1.5m3以上、2.0m3以上，或优选为2.5m3以上。对于压力振荡减低箱30的体积的上限没有特别限制，但是例如，其可以为约10m3、7.5m3或5m3。

[0042] 如以上所讨论，通过将压力振荡减低箱连接至真空室，可以有效降低真空室内的压力振荡。因此，能够确保基膜上的涂布稳定性，并由此可以降低产品的缺陷率。

[0043] 并且，本申请涉及一种膜，在该膜上通过上述狭缝式模具涂布装置来形成涂层。对于所述膜并没有特别限制，只要该膜可以使用通过狭缝式模具涂布法的涂层来涂布和制备即可，例如，其可以为压敏粘合膜或光学膜。

[0044] 由于具有通过上述狭缝式模具涂布装置而形成的涂层的膜在其上形成有均匀的涂层，因此可以降低应用这些膜的产品的缺陷率，从而能够提高产率。

[0045] 有益效果

[0046] 根据本申请的狭缝式模具涂布装置可以用与真空室相连接的压力振荡减低箱来有效降低真空室内的压力振荡。因此，能够确保基膜上的涂布稳定性，从而可以降低产品的缺陷率。

附图说明

[0047] 图1为示意性示出根据常规技术的狭缝式模具涂布装置的构造示意图；

[0048] 图2为示意性示出根据本申请的一个示例性实施方案的狭缝式模具涂布装置的构造示意图；

[0049] 图3为示意性示出根据本申请的另一个示例性实施方案的狭缝式模具涂布装置的构造示意图。

[0050] [主要部件编号说明]

[0051] 10：辊

[0052] 12：基膜

[0053] 14：狭缝式模具

[0054] 16：涂层

[0055] 20：真空室

[0056] 22：第一管道

[0057] 24：压力表

[0058] 26：第二管道

[0059] 30：压力振荡减低箱

具体实施方式

[0060] 下文中，将通过对根据本申请的实施例与未根据本申请的比较例之间的比较来详细地描述本申请。然而，本申请并不局限于下面公开的实施例。

[0061] 实施例

[0062] 使用具有图2所示结构的狭缝式模具涂布装置，该装置的间隙为0.1mm，真空室的体积为0.14m3，压力振荡减低箱的体积为0.14m3，使用溶剂为甲苯且溶质为丙烯酸酯的涂布液，在由丙烯酰基膜制成的基膜的一个表面上形成涂层。

[0063] 比较例

[0064] 在与上述实施例中相同的条件下形成涂层，不同之处在于，使用具有图1所示结构的狭缝式模具涂布装置，不同于在上述实施例中使用的狭缝式模具涂布装置，在该装置中，压力振荡减低箱并未连接至真空室。

[0065] 通过用肉眼观察涂层的不平整性(unevenness)，按照下面的基准对上述实施例和比较例的涂层进行评价。

[0066] <评价基准>

[0067] ○：通过肉眼在丙烯酰基膜的表面上未检查到涂层的不平整性。

[0068] ×：通过肉眼在丙烯酰基膜的表面上明显观察到涂层的不平整性。

[0069] 下表1中给出了对上述实施例和比较例的观察结果。

[0070] [表1]

[0071]  实施例 比较例
涂布不平整性的程度 ○ ×

[0072] 如表1中所示，可以证实，根据本申请的狭缝式模具涂布装置通过将压力振荡减低箱连接至真空室，能够有效降低真空室内的压力振荡，从而确保基膜上的涂布稳定性，并降低产品的缺陷率。