一种柔性OLED器件结构及其制备方法

摘要

本发明属于OLED领域，具体涉及一种柔性OLED器件结构及制备方法；所述器件结构包括一侧呈锯齿结构的柔性透明基板；基板锯齿一侧设置透明电极；电极上设置有平整层；平整层上设置有机层；有机层之后依次设置第二电极和封装层。通过这种结构可以有效提高器件的出光效率。

权利要求

1.一种柔性OLED 器件结构，其特征在于，器件结构包括: 一侧呈锯齿结构的柔性透明基板（1）；基板锯齿一侧设置透明电极（2）；电极上设置有平整层（3）；平整层上设置有机层（4）；有机层之后依次设置第二电极（5）和封装层（6）；

所述的透明柔性基板（1）采用矩形锯齿结构；

所述的第二电极（5）为不透明状或透明状；

所述的封装层（6）为薄膜封装层，并采用有机和无机组隔膜交替叠加的方式；

所述的一种柔性OLED 器件结构通过下述的制备方法制备得到：步骤1）：在柔性透明基板（1）上制备透明电极（2）；

步骤2）在步骤1）的透明电极（2）上制备平整层（3）；

步骤3）：在步骤2）的平整层（3）上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，形成有机层（4）；

步骤4）：在步骤3）的有机层（4）上制备第二电极（5）；

步骤5）：在步骤4）制备的第二电极（5）上制备封装层（6），最终获得所需的柔性OLED器件；

所述的步骤1）中的透明电极（2）的制备方式为：采用真空蒸镀或磁共溅射的方式制成；

或采用旋涂的方法制备透明纳米银线透明电极；或采用碳纳米管或石墨烯制备而成；

所述步骤2）中的平整层（3）的制备方法采用旋涂的方法；或采用真空蒸镀的方法制备得到；

所述步骤3）中有机层（4）的制备方法为采用真空蒸镀的方法制成；

所述步骤3）中第二电极（5）的制备方式为采用真空蒸镀或磁共溅射的方法形成电极，在采用磁共溅射制备时，在点电子注入层上蒸镀缓冲层；

所述步骤5）中封装层（6）的制备方式为采用化学气相沉积或溅射的方法。

说明书

一种柔性OLED器件结构及其制备方法

技术领域

[0001] 本发明属于OLED技术领域，涉及一种OLED器件结构及其制备方法，特别是涉及一种柔性OLED的器件结构及其制备方法。

背景技术

[0002] 柔性屏幕，称为OLED。相较于传统屏幕，柔性屏幕优势明显，不仅在体积上更加轻薄，功耗上也低于原有器件，有助于提升设备的续航能力，同时基于其可弯曲、柔韧性佳的特性，其耐用程度也大大高于以往屏幕，降低设备意外损伤的概率。

[0003] 柔性OLED显示屏就是利用OLED技术在柔性塑料或者金属薄膜上制作显示器件，其基本结构为“柔性衬底／ITO阳极／有机功能层，金属阴极”，发光机理与普通玻璃衬底的OLED相似。柔性OLED器件一般是在玻璃或聚合物基板上，由夹在透明阳极、金属阴极和夹在它们之间的两层或更多层有机层构成。

[0004] 随着可穿戴设备的发展，柔性显示的需求日趋增多，但是由于基板的透光率限制，出光效率偏低。因此需要对柔性OLED器件结构进行深入的研究和开发，进一步提高柔性OLED器件结构的性能。

发明内容

[0005] 要解决的技术问题：为了克服上述现有技术的不足，本发明提供了一种柔性OLED的器件结构及制备方法，有效的提高了发光效率。

[0006] 技术方案：本发明公开了一种柔性OLED器件结构，器件结构包括: 一侧呈锯齿结构的柔性透明基板；基板锯齿一侧设置透明电极；电极上设置有平整层；平整层上设置有机层；有机层之后依次设置第二电极和封装层。

[0007] 进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构，所述的透明柔性基板采用矩形锯齿结构。

[0008] 进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构，所述的第二电极为不透明状或透明状。

[0009] 进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构，所述的封装层为薄膜封装层，并采用有机和无机组隔膜交替叠加的方式。

[0010] 一种柔性OLED器件结构的制备方法，包括以下步骤：

[0011] 步骤1）：在柔性透明基板上制备透明电极；

[0012] 步骤2）在步骤1）的透明电极上制备平整层；

[0013] 步骤3）：在步骤2）的平整层上依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，形成有机层；

[0014] 步骤4）：在步骤3）的有机层上制备第二电极；

[0015] 步骤5）：在步骤4）制备的第二电极上制备封装层，最终获得所需的柔性OLED器件。

[0016] 进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，所述的步骤1）中的透明电极的制备方式为：采用真空蒸镀或磁共溅射的方式制成；或采用旋涂的方法制备透明纳米银线透明电极；或采用碳纳米管或石墨烯制备而成。

[0017] 进一步的，所述的一种柔性透明OLED器件结构制备方法，所述步骤2）中的平整层的制备方法采用旋涂的方法；或采用真空蒸镀的方法制备得到。

[0018] 进一步的，所述的一种柔性透明OLED器件结构制备方法，所述步骤3）中有机层的制备方法为采用真空蒸镀的方法制成。

[0019] 进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，所述步骤3）中第二电极的制备方式为采用真空蒸镀或磁共溅射的方法形成电极，在采用磁共溅射制备时，在点电子注入层上蒸镀缓冲层。

[0020] 进一步的，所述的一种柔性OLED器件结构制备方法，所述步骤5）中封装层的制备方式为采用化学气相沉积或溅射的方法。

[0021] 有益效果：本发明的柔性OLED器件结构具有发光效率高的优点，可有效的用于柔性OLED显示屏的制备中，提高显示屏的发光效率。

附图说明

[0022] 图1为柔性OLED的器件结构示意图：其中1为柔性透明基板；2为透明电极；3为平整层；4为有机层；5为第二电极；6为封装层。

具体实施方式

[0023] 下面结合附图对本发明进一步说明。

[0024] 1.参见图1，柔性OLED的器件结构包括：柔性透明基板1，柔性透明基板一侧所设置的第一透明电极2，透明电极之上由平整层3覆盖，平整层上蒸镀有机层4，有机层4上依次设置第二电极5和封装层6。

[0025] 2.柔性OLED器件的制备方法按照以下步骤进行：

[0026] 步骤1）：在透明柔性基底上制备透明电极2。透明电极2采用真空蒸镀或磁共溅射的方式制成；或采用旋涂的方法制备透明纳米银线透明电极；或采用碳纳米管或石墨烯制备而成；

[0027] 步骤2）在步骤1）的透明电极上制备平整层3。平整层3的制备方法可采用旋涂的方法；或采用真空蒸镀的方法；

[0028] 步骤3）：在步骤2）的透明电极2上采用真空蒸镀的方法依次蒸镀空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层，形成有机层3；

[0029] 步骤4）：在步骤3）的有机层3上制备第二电极4。第二电极4可为透明，也可为不透明。根据需要调整电极的厚度即可。

[0030] 步骤5）：在步骤4）制备的第二电极（4）上采用化学气相沉积或溅射的方法制备封装层，最终获得所需的柔性OLED的器件。