光学信息记录介质的制造方法

摘要

本发明提供一种光学信息记录介质的制造方法，其可以在基板的两面上设置引导凹槽之后形成记录层等的时候，抑制引导凹槽的污染或损伤。光学信息记录介质的制造方法为准备在单面上形成有第1引导凹槽15A的基板材料10A，在基板材料10A的未形成第1引导凹槽15A的面与印模50之间配置能量固化树脂材料，并使能量固化树脂材料固化从而形成第2引导凹槽15B。然后，在保留印模50作为第2引导凹槽15B的保护部件的状态下保持带有印模50的基板10，并且在第1引导凹槽15A一侧设置至少一层记录层21和覆盖层。然后，将印模50剥离从而使第2引导凹槽15B露出，并在第2引导凹槽15B一侧设置至少一层的记录层21和覆盖层。

权利要求

1.一种光学信息记录介质的制造方法，该光学信息记录介质具有在两面上形成有追踪用的引导凹槽的基板、分别设置在该基板的两侧的至少一层的记录层、和设置在所述记录层的外侧的覆盖层，其特征在于，具有以下工序：通过注塑成型来形成基板材料的第1工序，其中所述基板材料在单面上形成有第1引导凹槽；

在所述基板材料的未形成所述第1引导凹槽的面和形成有与第2引导凹槽对应的图案的印模之间配置能量固化树脂材料，并通过照射能量线透过所述基板材料使所述能量固化树脂材料固化以形成第2引导凹槽，由此形成所述基板的第2工序；

在保留所述印模作为所述第2引导凹槽的保护部件的状态下保持带有所述印模的基板，并且在所述第1引导凹槽一侧设置至少一层的所述记录层和所述覆盖层的第3工序；

将所述印模剥离从而使所述第2引导凹槽露出的第4工序；以及

在所述第2引导凹槽一侧设置至少一层的所述记录层和所述覆盖层的第5工序。

2.根据权利要求1所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序以及所述第5工序中，通过粘贴依次具有记录层、中间层、记录层以及有粘性的中间层的多层结构片材，从而设置多个所述记录层。

3.根据权利要求1所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，在所述第1引导凹槽上形成具有平坦表面的第1隔离层并使所述第1引导凹槽封闭，以及在所述第5工序中，在所述第2引导凹槽上形成具有平坦表面的第2隔离层并使所述第2引导凹槽封闭。

4.根据权利要求3所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，通过旋涂能量线固化树脂材料，再通过照射能量线，形成了所述第1隔离层和所述第2隔离层。

5.根据权利要求1所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，在所述第1引导凹槽上形成第1反射层，以及在所述第5工序中，在所述第2引导凹槽上形成第2反射层。

6.根据权利要求5所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，在所述第1反射层上形成具有平坦表面的第1隔离层并使所述第1引导凹槽和所述第1反射层封闭，以及在所述第5工序中，在所述第2反射层上形成具有平坦表面的第2隔离层并使所述第2引导凹槽和所述第2反射层封闭。

7.根据权利要求6所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，通过旋涂能量线固化树脂材料，再通过照射能量线，形成了所述第1隔离层和所述第2隔离层。

8.根据权利要求5所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，通过溅射形成所述第1反射层和所述第2反射层。

9.根据权利要求1所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，在所述基板的第1侧上形成多个记录层和多个中间层，所述第1引导凹槽追踪所述第1侧上的所述多个记录层，在所述第5工序中，在所述基板的第2侧上形成多个记录层和多个中间层，所述第2引导凹槽追踪所述第2侧上的所述多个记录层。

10.根据权利要求3所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，在所述基板的第1侧上形成多个记录层和多个中间层，所述第1引导凹槽追踪所述第1侧上的所述多个记录层，在所述第5工序中，在所述基板的第2侧上形成多个记录层和多个中间层，所述第2引导凹槽追踪所述第2侧上的所述多个记录层。

11.根据权利要求10所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，所述第3工序和所述第5工序包括将多层结构片材粘贴在所述第1隔离层的所述平坦表面上，所述第5工序包括将多层结构片材粘贴在所述第2隔离层的所述平坦表面上，其中所述多层结构片材依次包括第1记录层、中间层、第2记录层以及有粘性的中间层。

12.根据权利要求11所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，将所述第1记录层、所述第2记录层以及所述中间层形成为平坦的层。

13.根据权利要求6所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，在所述第3工序中，在所述基板的第1侧上形成多个记录层和多个中间层，所述第1引导凹槽追踪所述第1侧上的所述多个记录层，在所述第5工序中，在所述基板的第2侧上形成多个记录层和多个中间层，所述第2引导凹槽追踪所述第2侧上的所述多个记录层。

14.根据权利要求13所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，所述第3工序和所述第5工序包括将多层结构片材粘贴在所述第1隔离层的所述平坦表面上，所述多层结构片材依次包括第1记录层、中间层、第2记录层以及有粘性的中间层。

15.根据权利要求14所述的光学信息记录介质的制造方法，其特征在于，将所述第1记录层、所述第2记录层以及所述中间层形成为平坦的层。

说明书

光学信息记录介质的制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及这样的光学信息记录介质的制造方法，该光学信息记录介质具有两面上形成有追踪用的引导凹槽的基板和在该基板的两侧分别设置的至少一层的记录层。

背景技术

[0002] 传统上，在基板的两侧设置有记录层的光学信息记录介质中，为了在记录时和再现时良好地进行追踪，有时在基板的两面上设置追踪用的引导凹槽。例如，参照特开2004-220634号公报和特开平4-372741号公报。

发明内容

[0003] 然而，像这些文献中记载的那样，在基板的两面上设置引导凹槽以后，当在该基板的一侧形成记录层等的时候，另一面的引导凹槽可能污染、或者损伤。若发生这样的污染或损伤，则会成为记录层或中间层等其他层产生缺陷或变形的原因。

[0004] 因此，本发明的目的在于，当在基板的两面上设置引导凹槽之后来形成记录层等的时候，抑制引导凹槽的污染或损伤，并提高光学信息记录介质的品质。

[0005] 用以解决前述问题的本发明为这样的光学信息记录介质的制造方法，该光学信息记录介质具有两面上形成有追踪用的引导凹槽的基板、在该基板的两侧分别设置的至少一层的记录层、和设置在记录层的外侧的覆盖层。该制造方法具有：准备在单面上形成有第1引导凹槽的基板材料的第1工序；在基板材料的未形成第1引导凹槽的面、和形成有与第2引导凹槽对应的图案的印模之间配置能量固化树脂材料，使该能量固化树脂材料固化从而形成第2引导凹槽的第2工序；在保留印模作为第2引导凹槽的保护部件的状态下保持带有印模的基板，并且在第1引导凹槽一侧设置至少一层的记录层和覆盖层的第3工序；将印模剥离从而使第2引导凹槽露出的第4工序；以及在第2引导凹槽一侧设置至少一层的记录层和覆盖层的第5工序。

[0006] 根据这样的制造方法，由于在第3工序中第2引导凹槽被还充当保护部件的印模覆盖并保护，因此即便在保持带有印模的基板的同时进行在第1引导凹槽一侧设置至少一层的记录层和覆盖层的作业，也不会在第2引导凹槽上附着污染物或者发生损伤。由此，能够抑制第2引导凹槽的污染或损伤，并提高光学信息记录介质的品质。

[0007] 根据本发明，能够抑制当在基板的两面上设置引导凹槽之后来形成记录层等时引导凹槽的污染或损伤，并能够提高光学信息记录介质的品质。

[0008] 在上述制造方法中，优选的是，第1工序通过注塑成型来制备在单面上形成有第1引导凹槽的基板材料。

[0009] 根据这样的制造方法，可以同时制造基板材料本身和第1引导凹槽，并且与通过其它工序进行第1引导凹槽的形成的情况相比，可减少工序并提高生产效率。

[0010] 在上述制造方法中，在第3工序以及第5工序中，可分别在基板的两侧设置多层记录层。

[0011] 这时，在第3工序以及上述第5工序中，通过粘贴依次具有记录层、中间层、记录层以及有粘性的中间层的多层结构片材，可以设置多个所述记录层。

[0012] 像这样，通过粘贴多层结构片材来设置记录层的话，能以良好的效率制造光学信息记录介质。

[0013] 附图简要说明

[0014] [图1]为示出以本发明的制造方法制造的光学信息记录介质的例子的截面图。

[0015] [图2]为说明多层结构片材的制造方法的截面图(a)～(d)。

[0016] [图3]为说明一个实施方案的制造方法的图，并且为示出直至制造带有印模的基板的工序的截面图(a)～(d)。

[0017] [图4]为说明一个实施方案的制造方法的图，并且为示出直至在表面设置多个记录层的工序的截面图(a)～(c)。

[0018] [图5]为说明一个实施方案的制造方法的图，并且为在表面设置覆盖层的工序的截面图(a)、和在表面设置硬涂层的工序的截面图(b)。

[0019] [图6]为说明一个实施方案的制造方法的图，并且为剥离了印模的状态的截面图。

具体实施方式

[0020] 下面，参照附图对本发明涉及的光学信息记录介质的制造方法的一个实施方案进行说明。在以下的说明中，首先对以本发明的制造方法制造的光学信息记录介质的例子进行说明，其后，对该制造方法进行说明。

[0021] 如图1所示，光学信息记录介质1在基板10的两面上形成有作为追踪用的引导凹槽的第1引导凹槽15A以及第2引导凹槽15B，并且在该基板10的两侧分别设置多个记录层21，同时在该多个记录层21的外侧设置作为保护层的覆盖层30A、30B。具体而言，在基板10的两面上分别设置反射层11A、11B和隔离层12A、12B，并在隔离层12A、12B的外侧设置多个记录层21、以及在这些记录层21之间设置的中间层22(压敏粘合剂层22A、紫外线固化树脂层22B)。并且，在多个记录层21的外侧，隔着压敏粘合剂层33设置覆盖层30A、30B，并且为了防止覆盖层30A、30B的损伤，在覆盖层30A、30B的外侧设置有硬涂层32A、32B。

[0022] <基板>

[0023] 基板10由基板材料10A和在该基板材料10A的图1中的下侧设置的引导层10B形成。

[0024] 基板材料10A为用于支持记录层21和中间层22的支持体，并且对形状、材质、厚度等没有特别限定。作为一个例子，基板材料10A由聚碳酸酯的圆盘等形成。基板材料10A在图1中的上侧的面上具有第1引导凹槽15A。第1引导凹槽15A以(例如)螺旋状设置，并且在存在于图1中的上侧的记录层21中记录信息时、或者在从记录层21读取信息时，用于光拾取装置的追踪。需要说明的是，在以下说明中，将设置了第1引导凹槽15A的图1的上侧称为“表面侧”，将设置了第2引导凹槽15B的下侧称为“里面侧”。

[0025] 引导层10B由作为能量固化树脂的一个例子的紫外线固化树脂形成，并且在与基板材料10A相对侧的面上形成有第2引导凹槽15B。第2引导凹槽15B在位于里面侧的记录层21中记录信息时、或者从记录层21读取信息时，用于光拾取装置的追踪。需要说明的是，第1引导凹槽15A以及第2引导凹槽15B的凹槽的宽度或深度没有特别限定。

[0026] <反射层>

[0027] 反射层11A、11B分别设置在第1引导凹槽15A以及第2引导凹槽15B的表面。反射层11A、11B由(例如)银或铝等的金属等形成。在不损害第1引导凹槽15A以及第2引导凹槽15B的形状的范围内，对反射层11A、11B的厚度没有特别限定。需要说明的是，反射层11A、11B的有无是可选的。

[0028] <隔离层>

[0029] 隔离层12A、12B分别设置在反射层11A、11B的外侧的表面。隔离层12A、12B是在反射层11A、11B与记录层21之间留出间隔的层，从而降低由来自反射层11A、11B的反射光相对于来自记录界面的反射光所引起的干涉，在本实施方案中，作为一个例子，隔离层12A、12B由紫外线固化树脂形成。隔离层12A、12B的有无是可选的，例如，也可以在反射层11A、11B之上直接设置记录层21。

[0030] <记录层>

[0031] 记录层21在其彼此之间隔着中间层22从而设置多个，在本实施方案中，作为一个例子，在基板10的表面侧和里面侧分别设置10层。

[0032] 记录层21是由以光学方式记录信息的感光材料形成的层，在本发明中，对从其记录原理到材料、厚度、层结构等没有特别限定。例如，记录层21为经过记录光的照射，通过折射率、光吸收率或者形状等的改变从而形成点状的记录记号。在本实施方案中，作为一个例子，记录层21为经过记录光的照射从而使形状发生变化的构成。因此，记录层21形成为具有高分子粘合剂、和在该高分子粘合剂中分散的染料。若对记录层21照射记录光，则高分子粘合剂由于染料吸收记录光而产生的热而变形，并且在记录层21与压敏粘合剂层22A的界面处形成朝向该压敏粘合剂层22A的凸起形状，由此记录记号(信息)得以记录。更具体而言，记录记号的中央为从记录层21朝向压敏粘合剂层22A的凸起形状，在该凸起形状的周围是从压敏粘合剂层22A向记录层21的凹陷形状(以记录层21为基准观察)。需要说明的是，在本说明书中，将记录时发生形状变化从而形成记录记号的界面称为“记录界面”。

[0033] 记录层21较厚地形成，并且一层记录层21形成为50nm～5μm、优选为100nm～3μm、更优选为200nm～2μm。对记录层21的厚度的上限没有特别限定，但由于尽可能多地设置记录层21的层数，因此，记录层21的厚度优选为5μm以下。需要说明的是，在本实施方案中，作为一个例子，记录层21为1μm的厚度。

[0034] 在表面侧以及里面侧，分别设置1～100层左右的记录层21。为了增大光学信息记录介质1的记忆容量，记录层21优选较多，例如，优选为10层以上。另外，在采用本实施方案的记录原理的情况下，记录层21可使用在使记录界面变形的记录前后，折射率不发生实质的变化的材料。

[0035] 记录层21相对于记录光的吸收率(单光子吸收率)优选为每1层为10％以下。另外，该吸收率更优选为2％以下，还更优选为1％以下。例如，以到达最内侧的记录层21的记录光的强度为所照射的记录光的强度的50％以上为条件的话，为了获得10层的记录层，记录层每1层的吸收率需要为7％以下，而为了获得15层的记录层，记录层每1层的吸收率需要为4％以下，为了获得25层的记录层，记录层每1层的吸收率需要为2％以下。

[0036] 对记录层21的形成方法没有特别限定，可以使用将染料材料和高分子粘合剂溶解于溶剂中的液体并通过旋涂或刮刀涂布等来形成。作为此时的溶剂，可以使用二氯甲烷、氯仿、甲基乙基酮(MEK)、丙酮、甲基异丁基酮(MIBK)、甲苯和己烷等。

[0037] 作为用于记录层21的高分子粘合剂，可使用聚醋酸乙烯酯(PVAc)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚甲基丙烯酸乙酯、聚甲基丙烯酸丁酯、聚甲基丙烯酸苄酯、聚甲基丙烯酸异丁酯、聚甲基丙烯酸环己酯、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯醇(PVA)、聚苯甲酸乙烯酯、聚新戊酸乙烯酯、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯等。

[0038] 作为用于记录层21的、吸收上述记录光的染料，可使用(例如)常规被用作热模式型记录材料的染料(单光子吸收染料)。例如，可使用酞菁类化合物、偶氮化合物、偶氮金属络合物和次甲基染料(花青类化合物、Oxonol类化合物、苯乙烯基染料和部花青染料)。另外，在具有多层记录层的记录介质中，为了在记录再现时将对相邻记录层的影响降至最低，作为吸收上述记录光的染料，优选包含多光子吸收染料，多光子吸收染料优选为(例如)在读出光的波长处没有线性吸收带的双光子吸收化合物。记录层中优选包含1～80质量％的这些染料。更优选为5～60质量％，还更优选为10～40质量％。

[0039] 作为双光子吸收化合物，只要是在读出光的波长处没有线性吸收带的双光子吸收化合物即可，没有特别限定，例如，可列举具有如下通式(1)所示结构的化合物。

[0040] 通式(1)

[0041]

[0042] (在通式(1)中，X和Y表示Hammett对位取代基常数(σp值)均为零以上的值的取代基，X和Y可彼此相同或不同；n表示1至4的整数；R表示取代基，R可彼此相同或不同；m表示0至4的整数。)

[0043] 在通式(1)中，X和Y为Hammett方程中的σp值取正值的基团，即，所谓的吸电子基团，优选的是，可列举(例如)：三氟甲基、杂环基、卤原子、氰基、硝基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、氨基甲酰基、酰基、酰氧基、烷氧羰基等，更优选为三氟甲基、氰基、酰基、酰氧基或烷氧羰基，并且最优选为氰基和苯甲酰基。这些取代基中，除了对溶剂赋予溶解性等以外，还为了各种目的，烷基磺酰基、芳基磺酰基、氨磺酰基、氨基甲酰基、酰基、酰氧基及烷氧羰基也可以进一步具有取代基，作为取代基，优选可举出：烷基、烷氧基、烷氧基烷基、芳氧基等。

[0044] n优选为2或3，最优选为2。如果n为5或更大，那么线性吸收会出现在长波侧，从而使得利用比700nm更短的波长范围的记录光无法进行非共振双光子吸收记录。

[0045] R表示取代基，作为该取代基没有特别的限定，具体而言，可以列举烷基、烷氧基、烷氧基烷基和芳氧基等。

[0046] 对于具有通式(1)所示结构的化合物的具体例子没有特别的限定，可使用由以下化学结构式D-1至D-21所表示的化合物。

[0047]

[0048] <中间层>

[0049] 中间层22配置在多个记录层21之间。换言之，中间层22和记录层21交替配置。以不使多个记录层21之间发生层间串扰(相邻的记录层21间的信号混合)的方式，设置中间层22使得记录层21彼此间空出一定量的间隔。因此，中间层22的厚度为2μm以上。在能够防止层间串扰的限度内，中间层22越薄越好，例如，优选为20μm以下。作为例子，在本实施方案中，压敏粘合剂层22A和紫外线固化树脂层22B的厚度分别为10μm。即，在本实施方案中，压敏粘合剂层22A和紫外线固化树脂层22B厚度相同。像这样，通过使压敏粘合剂层22A和紫外线固化树脂层22B为相同的厚度，记录界面的节距变为12μm、10μm、12μm、10μm……这样的并非恒定的节距。由此，可以减小再现时来自记录界面的反射光即再现光和再现过程中与记录界面相邻的记录界面中的读出光的反射光之间的干涉对再现光产生的影响。

[0050] 在两个相邻的记录层21之间设置压敏粘合剂层22A和紫外线固化树脂层22B中的一者。并且，压敏粘合剂层22A和紫外线固化树脂层22B夹着记录层21交替布置。即，如图1所示，从基板10开始，按压敏粘合剂层22A、记录层21、紫外线固化树脂层22B和记录层21的顺序将这些层重复配置。需要说明的是，在制造时，将记录层21、紫外线固化树脂层22B、记录层21以及压敏粘合剂层22A总计4层准备为多层结构片材20。

[0051] 在采用本实施方案的记录原理的情况下，压敏粘合剂层22A以及紫外线固化树脂层22B使用在记录时以及再现时经激光的照射不发生变化的材料。另外，为了使记录光或读出光、再现光的损失最小化，压敏粘合剂层22A以及紫外线固化树脂层22B优选由实质上不吸收记录光或读出光、再现光的材料、即透明的材料形成。这里的“透明”是指吸收率在1％以下。

[0052] 需要说明的是，压敏粘合剂层22A以及紫外线固化树脂层22B分别为折射率分布大致均一的层。

[0053] 压敏粘合剂层22A和紫外线固化树脂层22B具有彼此不同的折射率。并且，紫外线固化树脂层22B具有与记录层21实质上相同的折射率。具体而言，在将记录层21的折射率设为n1、将紫外线固化树脂层22B的折射率设为n3的情况下，记录层21与紫外线固化树脂层22B在满足((n3-n1)/(n3+n1))2≦0.0003的程度上，即，在紫外线固化树脂层22B和记录层
21的界面(非记录界面)处的反射率为0.0003(0.03％)以下的程度上优选具有相同的折射率。

[0054] 为了使非记录界面处没有反射，记录层21和紫外线固化树脂层22B的折射率越接近越好，记录层21和紫外线固化树脂层22B的折射率差优选为0.05以下，更优选为0.03以下，还更优选为0.01以下，最优选为0。作为一个例子，记录层21的折射率n1为1.565，紫外线固化树脂层22B的折射率n3为1.564，此时，((n3-n1)/(n3+n1))2基本为0。

[0055] 另一方面，压敏粘合剂层22A和记录层21具有不同的折射率。具体而言，压敏粘合剂层22A的折射率和记录层21的折射率之差比记录层21与紫外线固化树脂层22B的折射率之差更大，并且优选为0.11以下。更具体而言，将压敏粘合剂层22A的折射率设为n2的情况下，记录层21和压敏粘合剂层22A优选在满足

[0056] 0.0005≦((n2-n1)/(n2+n1))2≦0.04的程度上不同。

[0057] 通过反射率为0.0005以上，可以使记录界面上的读出光的反射光量增大，在信息再现时，使S/N增大。另外，通过记录界面的反射率为0.04以下，可以将记录界面上的读出光的反射光量抑制在适度大小，在记录时以及再现时，记录光或者读出光可以在没有较大的衰减的情况下到达深层的记录层21。由此，可以通过设置多个记录层21来实现高容量化。

[0058] 作为例子，记录层21的折射率为1.565，压敏粘合剂层22A的折射率n2为1.477。此时，((n2-n1)/(n2+n1))2为0.0008(0.08％)。

[0059] 在本实施方案中，压敏粘合剂层22A具有能够粘贴在其他面上的粘性，并且比记录层21更软。具体而言，例如，压敏粘合剂层22A的玻璃化转变温度比记录层21的玻璃化转变温度更低。这样的构成可以通过适当选择可作为记录层21的材料使用的高分子粘合剂(树脂)、或可作为压敏粘合剂层22A的材料使用的树脂从而获得。

[0060] 像这样，通过设为压敏粘合剂层22A比记录层21更柔软的构成，从而在通过记录光对记录层21加热从而使之膨胀时，压敏粘合剂层22A易于变形，并且可使得记录界面的变形容易进行。

[0061] 作为紫外线固化树脂层22B的材料，优选比压敏粘合剂层22A更硬，即玻璃化转变温度高的热塑性树脂、或者能量固化型树脂。在使用能量固化树脂的情况下，由于易于将材料涂布为适度的厚度，另外能够迅速固化，因此可以使多层结构片材20的制造变得容易。另外，在使用能量固化树脂的情况下，优选采用紫外线固化树脂。像这样，通过用紫外线固化树脂形成紫外线固化树脂层22B，当与容易操作的紫外线接触时，可以简单地制备紫外线固化树脂层22B，因此对制造大面积的多层结构片材20是有利的。

[0062] 在本实施方案中，紫外线固化树脂层22B可以与记录层21具有同等的硬度，或者可以是比记录层21更硬的构成。具体而言，例如，可将紫外线固化树脂层22B的玻璃化转变温度设为记录层21的玻璃化转变温度以上。这样的构成可以通过适当选择可作为记录层21的材料使用的树脂、或者可作为紫外线固化树脂层22B的材料使用的树脂从而获得。

[0063] 为了减小记录层21的折射率n1和紫外线固化树脂层22B的折射率n3之差(优选设为0)，可以调整记录层21以及紫外线固化树脂层22B所用的材料的组成。具体而言，在记录层21的材料中，由于双光子吸收化合物等染料分散在高分子粘合剂中，通过适当选择染料或者高分子粘合剂的折射率、并通过改变其各自的组成比率，从而可以任意地调节折射率n1。另外，由于高分子粘合剂即使具有类似的基本结构，若聚合度不同的话折射率也会变化，因此通过使用聚合度不同的高分子粘合剂、或者调节高分子粘合剂的聚合度，也可以调节折射率n1。此外，还可以通过组合多种高分子粘合剂来调节。另外，还可以通过添加折射率调节剂(无机颗粒等)来调节折射率n1。

[0064] 在调节紫外线固化树脂层22B的折射率n3时，通过调节可作为紫外线固化树脂层22B的材料使用的树脂等聚合物材料的聚合度，可以调节折射率n3。另外，还可以任意地组合可作为中间层22使用的材料从而调节折射率n3、或者添加折射率调节剂(无机颗粒等)来调节。

[0065] <覆盖层>

[0066] 覆盖层30A、30B是为了保护记录层21以及中间层22(压敏粘合剂层22A以及紫外线固化树脂层22B)而设置的层，并且由可透过记录再现光的材料(例如，聚碳酸酯)形成。覆盖层30A、30B以数十μm～数mm的适当的厚度来设置。

[0067] 以上对本实施方案涉及的光学信息记录介质1进行了说明，但光学信息记录介质并不限于上述的实施方案。例如，在上述实施方案中，将记录层21的厚度设为50nm以上，但也可以是小于50nm。另外，在上述实施方案中，举例说明了，作为染料，可使用单光子吸收染料和多光子吸收染料这两者，但也可以仅使用单光子吸收染料，或者可以仅使用多光子(双光子)吸收染料。

[0068] 另外，在上述实施方案中，记录层21包含高分子粘合剂和分散在高分子粘合剂中的染料，但本发明不限于此，记录层21也可以包含键合有染料的高分子。

[0069] 具体而言，记录层21也可以含有具有下述通式(2)所示的结构的高分子。

[0070] 通式(2)

[0071]

[0072] (在通式(2)中，Y表示Hammett对位取代基常数(σp值)均为零以上的值的取代基，X也表示同类的取代基。X和Y可彼此相同或不同；n表示1至4的整数；R1、R2、R3表示取代基，可彼此相同或不同；l表示1以上的整数、m表示0至4的整数)。

[0073] <制造方法>

[0074] 对以上那样的光学信息记录介质1的制造方法进行说明。

[0075] [多层结构片材的制造方法]

[0076] 首先，对多层结构片材20的制造方法进行说明。

[0077] 如图2(a)所示，在剥离片材61之上通过刮刀涂布等涂布紫外线固化树脂，用紫外灯69照射紫外线使之固化，从而形成紫外线固化树脂层22B。然后，如图2(b)所示，在紫外线固化树脂层22B之上通过刮刀涂布等涂布记录材料，使之干燥从而形成记录层21。然后，如图2(c)所示，准备在剥离片材62上涂布了压敏粘合剂层22A的片材，并将压敏粘合剂层22A贴合在记录层21上。此外，如图2(d)所示，在将剥离片材61剥离后，在紫外线固化树脂层22B之上通过刮刀涂布等涂布记录材料，使之干燥从而形成另一层记录层21。由此制造剥离片材62支持的多层结构片材20。

[0078] [光学信息记录介质的制造方法]

[0079] 下面，对利用多层结构片材20制造光学信息记录介质1的方法进行说明。

[0080] 首先，如图3(a)所示，通过注塑成型等，使在表面上具有第1引导凹槽15A的基板材料10A成型(第1工序)。使基板材料10A成型为(例如)在中心空着圆形的孔的圆盘形状。

[0081] 另一方面，如图3(b)所示，准备在另一面上具有将第2引导凹槽15B翻转了的凹凸形状51的印模50。该印模50可通过(例如)使用剥离性优异的树脂通过注塑成型等来成型。

[0082] 然后，如图3(c)所示，向印模50的具有凹凸形状51的面上滴加紫外线固化树脂材料71。然后，如图3(d)所示，通过将基板材料10A的里面侧的平坦面16放置在紫外线固化树脂材料71上并使之旋转，从而在基板材料10A与印模50之间形成紫外线固化树脂材料71的薄层。即，在基板材料10A的没有形成第1引导凹槽15A的平坦面16与印模50之间配置紫外线固化树脂材料71。然后，以紫外灯69照射紫外线从而使紫外线固化树脂材料71固化，从而形成引导层10B。在引导层10B的里面侧的面上形成第2引导凹槽15B(第2工序)。需要说明的是，通过使基板材料10A以及印模50的至少一者由相对于紫外线(能量线)透明的材料构成，可以通过对紫外线固化树脂材料71照射紫外线来进行固化。

[0083] 然后，如图4以及图5所示，将印模50作为第2引导凹槽15B的保护部件保留，同时保持带有印模50的基板10，从而在第1引导凹槽15A一侧设置多个记录层21和覆盖层30A(第3工序)。虽然可以通过(例如)将印模50的里面侧的面进行真空吸附从而进行带有印模50的基板的保持，但并不限于此，例如，也可以保持基板10的外周或内周。

[0084] 对第3工序进行具体的说明，首先，如图4(a)所示，通过溅射等在基板10的第1引导凹槽15A上形成反射层11A。然后，如图4(b)所示，通过旋涂等在反射层11A之上涂布紫外线固化树脂材料，用紫外灯69照射紫外线以使之固化，从而形成隔离层12A。

[0085] 然后，将预先准备的多层结构片材20的剥离片材62剥离，如图4(c)所示，将压敏粘合剂层22A置于隔离层12A之上并粘贴。然后，以在已经粘贴的多层结构片材20之上(即，在最外侧的记录层21之上)放置压敏粘合剂层22A的方式粘贴多层结构片材20，将这样的工序重复四次。由此，形成总计10层的记录层21。

[0086] 然后，如图5(a)所示，准备设置了压敏粘合剂层33的覆盖层30A，将压敏粘合剂层33放置于最外层的记录层21上，从而粘贴覆盖层30A。然后，如图5(b)所示，通过旋涂等在覆盖层30A之上形成硬涂层32A。

[0087] 然后，如图6所示，将印模50剥离，从而使第2引导凹槽15B露出(第4工序)。然后，通过将硬涂层32A真空吸附等从而保持工件，按与表面侧相同的方式，在基板10的设置有第2引导凹槽15B的里面侧上形成反射层11B、隔离层12B、多个记录层21以及中间层22、覆盖层30B、硬涂层32B(第5工序)。

[0088] 按以上方式，根据本实施方案的制造方法，可制造光学信息记录介质1。根据该制造方法，在第3工序中，由于第2引导凹槽15B被充当保护部件的印模50覆盖并保护，因此，即便在保持带有印模50的基板10的同时在第1引导凹槽15A一侧形成记录层21或覆盖层30A，也不会在第2引导凹槽15B发生污染物的附着或损伤。因此，可以抑制第2引导凹槽15B的污染或损伤，并且可以抑制由这样的污染或损伤引起的缺陷的发生。即，可以提高光学信息记录介质1的品质。

[0089] 另外，根据该制造方法，由于与基板材料10A通过注塑成型成型为圆盘状的同时形成第1引导凹槽15A，因此减少了工序并提高了生产效率。

[0090] 此外，在该制造方法中，多个记录层21通过粘贴并重叠多层结构片材20从而形成，因此可以以良好的效率制造光学信息记录介质1。特别地，像本实施方案这样，在具有使记录层21和中间层22之间的记录界面变形的构成的光学信息记录介质1中，使中间层22的一部分成为柔软的压敏粘合剂层22A，从而使变形变得容易，可以易于进行记录。

[0091] 以上对本发明的实施方案涉及的光学信息记录介质1的制造方法进行了说明，但本发明的制造方法并不限于上述实施方案，可以适当变形从而实施。

[0092] 例如，也可以是记录层21不是在基板10的两侧分别设置多层，而是设置各1层、总计2层的结构。此时，没必要设置中间层22。

[0093] 另外，在上述实施方案中，在设置里面侧的多个记录层21以及覆盖层30B时，将硬涂层32A真空吸附，但也可以在硬涂层32A之上进一步设置保护层，并保持保护层从而设置里面侧的记录层21以及覆盖层30B。此时，在里面侧的制造结束之后，将保护层剥离从而成为成品。

[0094] <实施例>

[0095] 下面，对本发明的光学信息记录介质的制造方法的实施例进行说明。在该实施例中，按照与上述实施方案中说明的制造方法大致相同的方法来制备光学信息记录盘。

[0096] [印模的制备]

[0097] 在实施例中，通过注塑成型，用聚碳酸酯制备在单面上具有第2引导凹槽反转的凹凸面的印模。为了提高凹凸面的剥离性，通过溅射装置在凹凸面上层叠10nm银合金GD02(コベルコ科研制造)。印模的形状为厚度0.8mm、直径120mm的圆板。

[0098] [紫外线固化树脂材料的制备]

[0099] 将下述材料搅拌并混合5小时，从而制成紫外线固化树脂材料。

[0100] 丙烯酸树脂EA-F5003(大阪ガスケミカル株式会社制造) 79质量份

[0101] 丙烯酸树脂M-310(东亚合成株式会社制造)           21质量份

[0102] 光聚合引发剂IRGACURE184(Ciba AG制造)            3质量份

[0103] [多层结构片材的制备]

[0104] 在剥离膜HY-NS80(東山フィルム株式会社制造)上刮刀涂布紫外线固化树脂材料，用高压UV灯UM-102(ウシオ電機株式会社制造)照射紫外线，从而形成作为中间层的紫外线固化树脂层。使用触针式表面形状测定器DektakXT(株式会社アルバツク制造)测定的紫外线固化树脂层的厚度为10μm。

[0105] 将下属材料混合，搅拌并混合20小时，从而制备记录层涂布液。

[0106] 聚合物粘合剂:聚甲基丙烯酸甲酯(シグマアルドリツチジャパン株式会社制造) 63质量份[0107] 光吸收材料:2,2’,4,4’-四羟基二苯甲酮(シグマアルドリツチジャパン株式会社制造)                                  37质量份[0108] 溶剂:2-丁酮(和光纯药工业株式会社制造)         2200质量份[0109] 将所得的记录层涂布液刮刀涂布在紫外线固化树脂层之上，在100℃的烘箱中干燥3分钟。记录层膜厚为0.4μm。

[0110] 将厚度为10μm的粘接片材DA-3010(日立化成制造)的轻剥离膜剥离，并用层压机RSL-382S(日本オフィスラミネ一タ一株式会社制造)将其贴合在上述记录层上。将与紫外线固化树脂层连接的剥离膜剥离，将记录层涂布液刮刀涂布在紫外线固化树脂层上，在100℃的烘箱中干燥3分钟。记录层膜厚为0.4μm。将所得的多层结构片材(图2(d))切成盘状。

[0111] [覆盖片材的制备]

[0112] 用层压机RSL-382S(日本オフィスラミネ一タ一株式会社制造)将聚碳酸酯膜(帝人化成制造)与粘接片材DA-3010贴合，并切成盘状，从而制备作为覆盖层的覆盖片材。

[0113] [光学信息记录盘的制备]

[0114] 通过注塑成型制备了在单面上设置了成为第1引导凹槽的引导凹槽的厚度0.8mm、直径120mm的聚碳酸酯制造的基板。使凹凸面朝上将印模放置在旋涂机上，滴加紫外线固化树脂材料1g(图3(c))，使基板的没有第1引导凹槽的一侧朝下在其上重叠(图3(d))。将其以5000rpm旋转30秒，从而将紫外线固化树脂材料旋涂，用氙气闪光灯照射1秒从而使紫外线固化树脂材料固化。

[0115] 接着，用溅射装置在基板的第1引导凹槽一侧层叠10nm的银合金GD02，从而形成反射层。向该反射层之上滴加紫外线固化树脂材料1g，以2000rpm、20秒的条件进行旋涂，之后用氙气闪光灯照射1秒从而形成隔离层(图4(b))。

[0116] 然后，将多层结构片材的压敏粘合剂层一侧的重剥离膜剥离，并贴合在隔离层上。将此重复5次(图4(c))。将覆盖片材的粘接片材的重剥离膜剥离，并在其上贴合(图5(a))。
向覆盖层之上滴加硬涂材料SK1100(デクセリアルズ株式会社制造)1g，以3000rpm、10秒的条件进行旋涂，之后用氙气闪光灯照射1秒从而形成硬涂层(图5(b))。

[0117] 将印模剥离(图6)，并按与上述同样的方法在引导层上形成反射层、记录层以及中间层、覆盖层、硬涂层，从而制备光学信息记录盘(图1)。

[0118] 对完成的光学信息记录盘用光学显微镜观察，结果，长度为100μm以上的缺陷为0个。

[0119] <比较例>

[0120] [光学信息记录盘的制备]

[0121] 通过注塑成型制备在单面上设置有作为第1引导凹槽的引导凹槽的厚度0.8mm、直径120mm的聚碳酸酯制造的基板。使凹凸面朝上将印模放置在旋涂机上，滴加紫外线固化树脂材料1g(图3(c))，使基板的没有第1引导凹槽的一侧朝下在其上重叠(图3(d))。将其以5000rpm旋转30秒，从而将紫外线固化树脂材料旋涂，用氙气闪光灯照射1秒从而使紫外线固化树脂材料固化。然后，将印模剥离从而使第二引导凹槽露出。

[0122] 然后，按与实施例相同的方式，在基板的第1引导凹槽一侧形成反射层、隔离层、记录层以及中间层、覆盖层、硬涂层，此后，在第2引导凹槽一侧形成反射层、隔离层、记录层以及中间层、覆盖层、硬涂层。

[0123] 对完成的光学信息记录盘用光学显微镜观察，结果，长度为100μm以上的缺陷为5个。