一种湿刻蚀装置

摘要

本发明提供一种湿刻蚀装置，包括一化学槽、一电阻式压力传感器、一芯片、一单片机和一显示器，其中，所述芯片通过电线与所述电阻式压力传感器连接，所述芯片与所述单片机通过电线连接，所述单片机与所述显示器通过电线连接，所述电阻式压力传感器、芯片与单片机均与电源连接。该装置不受刻蚀药液粘黏性的影响准确地监测出刻蚀药液的液位。

权利要求

1.一种湿刻蚀装置，其特征在于，包括：

一化学槽，用于盛放药液，所述药液用于对半导体器件进行刻蚀；

一电阻式压力传感器，安装于所述化学槽的底部，用于测定所述药液的压强，并将所述压强转化成电压信号发送到芯片进行数据量化处理；

一芯片，用于接收所述电压信号并对其进行数据量化处理，同时将所述数据量化处理的结果发送到单片机进行分析处理；

一单片机，用于接收所述数据量化处理的结果，并对其进行数据处理，同时对所述化学槽的药液的液位进行判定，并确定显示器要显示的所述液位的最高值；

显示器，用于对所述液位的最高值进行显示；

其中，所述芯片通过电线与所述电阻式压力传感器连接，所述芯片与所述单片机通过电线连接，所述单片机与所述显示器通过电线连接，所述电阻式压力传感器、芯片与单片机均与电源连接；

所述电阻式压力传感器的个数为两个，且均处于同一高度，通过两个所述电阻式压力传感器测得的两组数据进行对比分析，以提高所述湿刻蚀装置的准确性和稳定性。

2.根据权利要求1所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述电阻式压力传感器安装于所述化学槽底部的侧边。

3.根据权利要求1所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述电阻式压力传感器表面设有保护膜层。

4.根据权利要求3所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述保护膜层由耐腐蚀材料制成。

5.根据权利要求1所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述电阻式压力传感器的外部设有保护箱，所述保护箱底部的侧面设有小孔。

6.根据权利要求5所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述保护箱的制作材料为聚氯乙烯。

7.根据权利要求5所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述保护箱固定在所述化学槽的底部。

8.根据权利要求1所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述芯片与所述电阻式压力传感器的连接电线设有保护管，且所述连接电线浸入所述药液部分由所述保护管密封起来。

9.根据权利要求8所述的湿刻蚀装置，其特征在于，所述保护管由耐腐蚀材料制成。

说明书

一种湿刻蚀装置

【技术领域】

[0001] 本发明涉及液晶显示屏技术领域，特别涉及一种湿刻蚀装置。【背景技术】

[0002] 在液晶显示器的制作工艺里，湿刻蚀工艺是其中比较重要的一种刻蚀工艺。在湿刻蚀设备自动运行的状态下，需要对化学槽的刻蚀药液的液位进行实时监测，以便根据需
要对刻蚀药液进行排放或者补给。目前，在湿刻蚀工艺领域，对于刻蚀药液的液位进行监测
的方法是，通过多组磁感应浮标式感应器完成对刻蚀药液的液位的监测，其中每组磁感应
浮标式感应器对应一组液位指标。一般情况下，重要的液位指标有六组，从上到下依次为液
位过高警报液位(HH)，药液自动供给停止的高液位(H)，小量补给停止的液位(MH)，小量补
给开始的液位(ML)，低液位报警液位(L),药液箱排空标示液位(LL)。这样，六组液位指标就
需要六组磁感应浮标式感应器。不仅如此，在现实应用中，刻蚀药液属于黏度比较高的液
体，磁感应浮标式感应器在粘稠度比较高的药液中容易被粘住，导致检测结果不精确，或者
发出错误的液位信号。
【发明内容】

[0003] 本发明的目的在于提供一种湿刻蚀装置，该装置不受刻蚀药液粘黏性的影响准确地监测出刻蚀药液的液位。

[0004] 本发明的技术方案如下：

[0005] 一种湿刻蚀装置，包括：

[0006] 一化学槽，用于盛放药液，所述药液用于对半导体器件进行刻蚀；

[0007] 一电阻式压力传感器，安装于所述化学槽的底部，用于测定所述药液的压强，并将所述压强转化成电压信号发送到芯片进行数据量化处理；

[0008] 一芯片，用于接收所述电压信号并对其进行数据量化处理，同时将所述数据量化处理的结果发送到单片机进行分析处理；

[0009] 一单片机，用于接收所述数据量化处理的结果，并对其进行数据处理，同时对所述化学槽的药液的液位进行判定，并确定显示器要显示的所述液位的最高值；

[0010] 显示器，用于对所述液位的最高值进行显示；

[0011] 其中，所述芯片通过电线与所述电阻式压力传感器连接，所述芯片与所述单片机通过电线连接，所述单片机与所述显示器通过电线连接，所述电阻式压力传感器、芯片与单
片机均与电源连接。

[0012] 优选地，所述电阻式压力传感器安装于所述化学槽底部的侧边。

[0013] 优选地，所述电阻式压力传感器的个数为两个。

[0014] 优选地，所述电阻式压力传感器表面设有保护膜层。

[0015] 优选地，所述保护膜层由耐腐蚀材料制成。

[0016] 优选地，所述电阻式压力传感器的外部设有保护箱，所述保护箱底部的侧面设有小孔。

[0017] 优选地，所述保护箱的制作材料为聚氯乙烯。

[0018] 优选地，所述保护箱固定在所述化学槽的底部。

[0019] 优选地，所述芯片与所述电阻式压力传感器的连接电线设有保护管，且所述连接电线浸入所述药液部分由所述保护管密封起来。

[0020] 优选地，所述保护管由耐腐蚀材料制成。

[0021] 本发明的有益效果：

[0022] 本发明的一种湿刻蚀装置，通过安装在化学槽底部的电阻式压力传感器完成药液的压力数据采集，再通过药液压力的变化间接测定药液的液位变化，只需要一个电阻式压
力传感器即可完成多组药液液位的测定，并且电阻式压力传感器的测定效果不受药液粘黏
性的影响。
【附图说明】

[0023] 图1为本发明的一种湿刻蚀装置的组成框架示意图；

[0024] 图2为本发明的一种湿刻蚀装置的工作流程示意图；【具体实施方式】

[0025] 以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以
限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。

[0026] 实施例1

[0027] 如图1所示，为本发明的一种湿刻蚀装置的组成框架示意图。如图2所示，本发明的一种湿刻蚀装置的工作流程示意图。从图1中可以看出，本发明的一种湿刻蚀装置，包括一
化学槽1、一电阻式压力传感器3、一芯片7、一单片机8和一显示器9，其中，所述芯片7通过电线与所述电阻式压力传感器3连接，所述芯片7与所述单片机8通过电线连接，所述单片机8
与所述显示器9通过电线连接，所述电阻式压力传感器3、芯片7与单片机8均与电源连接。

[0028] 下面，对本发明的一种湿刻蚀装置的各部分进行介绍：

[0029] 本发明的化学槽1用于盛放药液2，所述药液2用于对半导体器件进行刻蚀。化学槽1的横截面形状可以是方形或者圆形，本实施例优选为方形，因为方形摆放比较方便，而且
有利于后面的电阻式压力传感器3的保护箱4的移动。

[0030] 本发明的电阻式压力传感器3安装于所述化学槽1的底部，优选地，所述电阻式压力传感器3安装于所述化学槽1底部的侧边，用于测定所述药液2的压强，并将所述压强转化
成电压信号发送到芯片7进行数据量化处理。在本实施例中，为了防止药液2流动(主要是补
充药液2时药液2的翻动)对电阻式压力传感器3造成损伤及错误感应，以致使电阻式压力传
感器3的测定结果不准确，专门给电阻式压力传感器3设置有聚氯乙烯保护箱4，并且所述电
阻式压力传感器3表面还设有保护膜层(图中未标示)来避免其受到所述药液2的侵蚀，所述
保护膜层由耐腐蚀材料制成。另外，为了使在所述聚氯乙烯保护箱4内的电阻式压力传感器
3与外面的化学槽1的药液2保持连通，本发明在所述聚氯乙烯保护箱4底部的侧面设有小孔
5，这样不管化学槽1的药液2的液位多低，所述电阻式压力传感器3处的压强都能与所述化
学槽1的其它地方的压强保持一致。

[0031] 本实施例还优选所述聚氯乙烯保护箱4固定于所述化学槽1的底部，更好地保护电阻式压力传感器3，使其不受药液2内循环流动的损伤。

[0032] 另外，由于芯片7和电阻式压力传感器3的连接电线处于药液2之中，为了保护连接电线，本实施例还优选所述芯片7与所述电阻式压力传感器3的连接电线设有保护管6，所述
保护管6由耐腐蚀材料制成，且所述连接电线浸入所述药液2部分由所述保护管6密封起来。

[0033] 本发明的芯片7用于接收所述电阻式压力传感器3发送的电压信号，并对电压信号进行数据量化处理，同时将所述数据量化处理的结果发送到单片机8进行分析处理。本实施
例优选所述芯片7为HX711芯片7，HX711芯片7接收到电阻式压力传感器3发送来的电压信号
后，将电压信号进行放大，然后将放大后的模拟电压信号转换成可编程的数字信号，即用数
字信号的值来表示模拟电压信号的大小。

[0034] 本发明的单片机8用于接收所述HX711芯片7发送的数据量化处理的结果，并对其进行数据处理，同时对所述化学槽1的药液2的液位进行判定，并确定显示器9要显示的所述
液位的最高值。本实施例优选所述单片机8为STC89C52单片机8，STC89C52单片机8根据化学
槽1的实际横截面积和药液2的密度等因素，将接收到的数字信号经过压强公式p＝ρgh进行
计算，转换为药液2的液位的高度值，并将这个高度值与事先在单片机8上设定好的液位阶
梯值进行比较判定，得出当前药液2的液位水平。最后将所述高度值和液位水平进行临时存
储，并把得到的结果发送至可编程逻辑器件(PLC)进行分析，由PLC作出进一步的动作指令，
如补充或减少药液2等。

[0035] 本发明的显示器9用于对所述液位的最高值进行显示。为了让显示效果更好，本实施例优选所述显示器9为12864液晶显示器9。

[0036] 本实施例优选所述湿刻蚀装置还包括计算机，所述单片机8与计算机连接，所述计算机用来对所述单片机8的所述数据处理的结果进行PLC分析，并根据PLC分析结果对化学
槽1进行补充药液2或者减少药液2。

[0037] 实施例2

[0038] 本实施例与实施例1大致相同，所不同的是，本实施例的所述电阻式压力传感器3的个数为两个。为了得出更准确的测量结果，本实施例在化学槽1底部侧边安装了两个电阻
式压力传感器3，这样就可以得到两组测量数据，如果两组数据相差很小就说明测量结果正
常，可以将它们的平均值作为测量值。如果两组数据相差很大，则说明其中至少一个电阻式
压力传感器3出了问题，这时就要对电阻式压力传感器3进行检查和修理。

[0039] 本实施例在化学槽1安装两个电阻式压力传感器3的另外一个原因是，一旦其中一个电阻式压力传感器3坏了，另一个还可以继续正常工作，保证了测量工作的继续。

[0040] 综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润
饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。