激光晶化装置

摘要

本发明公开一种激光晶化装置。根据本发明的一个实施例的激光晶化装置包括：激光发生器，发生入射激光光束；光学系统，对所述入射激光光束进行光转换而制造射出激光光束；以及工作台，搭载有对象基板，该对象基板形成有被所述射出激光光束照射而被激光晶化的对象薄膜，所述光学系统包括：脉冲扩展及上下翻转模块，增加所述入射激光光束的脉冲持续时间的同时上下翻转入射激光光束的脉冲形状。

权利要求

1.一种激光晶化装置，包括：

激光发生器，发生入射激光光束；

光学系统，对所述入射激光光束进行光转换而制造射出激光光束；以及工作台，搭载有对象基板，该对象基板形成有被所述射出激光光束照射而被激光晶化的对象薄膜，所述光学系统包括：

脉冲扩展及上下翻转模块，增加所述入射激光光束的脉冲持续时间的同时上下翻转所述入射激光光束的脉冲形状，所述脉冲扩展及上下翻转模块包括：

分束器，反射一部分光束而制造反射光束且使所述光束的剩余部分光束透过而制造透过光束；

第一镜子及第二镜子，使所述透过光束的全部透过光束依次反射而再入射到所述分束器，将作为在所述分束器反射的所述反射光束的第一射出光束、所述透过光束沿依次在所述第一镜子及第二镜子上反射而再入射到所述分束器的环路路径行进之后射出的第二射出光束混合，从而制造射出激光光束，所述透过光束在所述环路路径上行进且上下翻转。

2.如权利要求1所述的激光晶化装置，其中，

所述分束器对所述入射激光光束的50％进行反射而制造反射光束，并使所述入射激光光束的剩余的50％透过而制造透过光束。

3.如权利要求2所述的激光晶化装置，其中，

所述第一镜子使透过所述分束器的透过光束反射而再入射到所述第二镜子，所述第二镜子使在所述第一镜子反射的透过光束反射而再入射到所述分束器。

4.如权利要求3所述的激光晶化装置，其中，再入射到所述分束器的透过光束的50％透过所述分束器而成为所述第二射出光束，再入射到所述分束器的透过光束的剩余的50％在所述分束器反射而再次沿所述环路路径行进。

5.如权利要求2所述的激光晶化装置，其中，所述环路路径无限重复而将多个所述第二射出光束依次射出。

6.如权利要求1所述的激光晶化装置，其中，还包括：脉冲扩展及左右翻转模块，增加所述入射激光光束的脉冲持续时间的同时左右翻转所述入射激光光束的脉冲形状。

说明书

激光晶化装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种激光晶化装置，尤其涉及一种将非晶硅层晶化为多晶硅层的激光晶化装置。

背景技术

[0002] 通常，非晶硅(Amorphous Silicon)存在作为电荷载体的电子的迁移率低的缺点。另一方面，对于在基板上不可能实现由非晶硅制造的薄膜晶体管(TFT：Thin Film Transistor)的驱动电路，多晶硅(Polycrystal Silicon)可以将其实现在基板上。因此，由多晶硅制造的薄膜晶体管直接形成在基板上，所以无需进行多个端子与驱动集成电路(Driver IC)之间的连接，从而可提高生产性和可靠性，而且可减小显示装置的厚度。

[0003] 作为在低温条件下制造这种多晶硅薄膜晶体管的方法有固相晶化法(SPC：Solid Phase Crystallization)、金属诱导晶化法(MIC：Metal Induced Crystallization)、金属诱导横向晶化法(MILC：Metal Induced Lateral Crystallization)、准分子激光热处理法(ELA：Excimer Laser Annealing)等。尤其，在有机发光显示装置(OLED：Organic Light Emitting Diode display)或液晶显示装置(LCD：Liquid Crystal Display)的制造工艺中，使用利用具有高能量的激光光束来进行晶化的准分子激光热处理法(ELA)。

[0004] 这种准分子激光热处理法(ELA)的激光晶化装置中所使用的激光发生器是脉冲型激光发生器，发射(shot)之间的强度(intensity)的均匀度非常重要。利用脉冲扩展模块(PEX：Pulse EXtender module)来增加激光光束的脉冲持续时间(脉宽：pulse duration time)，由此可改善激光光束的脉冲间散布。然而，虽然可以利用脉冲扩展模块(PEX)来改善激光光束的脉冲间散布，但难以改善一个激光光束内部的多个位置间的强度偏差，即光束内部位置间强度散布。

[0005] 此外，对于脉冲型激光发生器产生的主激光光束和辅助激光光束，可利用光束混合模块(beam mixer module)来每一个按照50％进行混合，由此可均匀地混合主激光光束和辅助激光光束。然而，虽然可以利用光束混合模块提高激光光束的均匀度，但难以改善激光光束的脉冲间散布。

发明内容

[0006] 本发明是为了解决前述背景技术的问题而提出的，其目的在于提供一种能够改善激光光束的光束内部位置间强度散布的激光晶化装置。

[0007] 根据本发明的一个实施例的激光晶化装置可包括：激光发生器，发生入射激光光束；光学系统，对所述入射激光光束进行光转换而制造射出激光光束；以及工作台，搭载有对象基板，该对象基板形成有被所述射出激光光束照射而被激光晶化的对象薄膜，所述光学系统可包括：脉冲扩展及上下翻转模块，增加所述入射激光光束的脉冲持续时间的同时上下翻转所述入射激光光束的脉冲形状。

[0008] 所述脉冲扩展及上下翻转模块包括：分束器，反射一部分光束且使所述光束的剩余部分光束透过；镜子，反射所述光束的全部光束，并且可利用所述分束器和所述镜子制造多个射出光束，并可将多个射出光束混合而制造所述射出激光光束。

[0009] 所述分束器对所述入射激光光束的50％进行反射而制造反射光束，并使所述入射激光光束的剩余的50％透过而制造透过光束，所述镜子使所述反射光束再入射到所述分束器，并且，可以将作为透过所述分束器的透过光束的第一射出光束、所述反射光束沿环路路径行进之后射出的多个第二射出光束混合而制造所述射出激光光束。

[0010] 所述镜子可包括第一镜子、第二镜子以及第三镜子。

[0011] 所述环路路径可以是所述反射光束依次在所述第一镜子、第二镜子以及第三镜子上反射而再入射到所述分束器的路径。

[0012] 所述反射光束可以在所述环路路径上行进且上下翻转。

[0013] 所述第一镜子可使在所述分束器反射的反射光束反射而再入射到所述第二镜子，且所述第二镜子可使在所述第一镜子反射的反射光束反射而再入射到所述第三镜子，且所述第三镜子可使在所述第二镜子反射的反射光束反射而再入射到所述分束器。

[0014] 再入射到所述分束器的反射光束的50％在所述分束器反射而成为第二射出光束，再入射到所述分束器的反射光束的剩余的50％可透过所述分束器而再次沿所述环路路径行进。

[0015] 所述环路路径可无限重复而将所述多个第二射出光束依次射出。

[0016] 所述分束器对所述入射激光光束的50％进行反射而制造反射光束，并使所述入射激光光束的剩余的50％透过而制造透过光束，所述镜子使所述透过光束再入射到所述分束器，并且可以将作为在所述分束器反射的反射光束的第一射出光束、所述透过光束沿环路路径行进之后射出的多个第二射出光束混合而制造所述射出激光光束。

[0017] 所述镜子可包括第一镜子及第二镜子。

[0018] 所述环路路径可以是所述透过光束依次在所述第一镜子及第二镜子上反射而再入射到所述分束器的路径。

[0019] 所述透过光束可以在所述环路路径上行进且上下翻转。

[0020] 所述第一镜子可以使透过所述分束器的透过光束反射而再入射到所述第二镜子，所述第二镜子可以使在所述第一镜子反射的透过光束反射而再入射到所述分束器。

[0021] 再入射到所述分束器的透过光束的50％透过所述分束器而成为第二射出光束，再入射到所述分束器的透过光束的剩余的50％可以在所述分束器反射而再次沿所述环路路径行进。

[0022] 所述环路路径可无限重复而将所述多个第二射出光束依次射出。

[0023] 所述激光晶化装置还可包括：脉冲扩展及左右翻转模块，增加所述入射激光光束的脉冲持续时间的同时左右翻转所述入射激光光束的脉冲形状。

[0024] 根据本发明的一个实施例，通过设置包括分束器和镜子的光学系统来产生多个射出光束，并且混合多个射出光束而制造射出激光光束，从而可在射出激光光束中补偿入射激光光束的光束内部位置间强度散布。

[0025] 此外，通过增加脉冲持续时间来增大多晶硅层的晶粒大小，从而可扩大工艺余裕(process margin)。因此，可以在射出激光光束中改善入射激光光束的脉冲间散布。

附图说明

[0026] 图1为根据本发明的一个实施例的激光晶化装置的概略图。

[0027] 图2为图1的光学系统的具体说明图。

[0028] 图3为示出通过图2的光学系统制造的第一射出光束的行进路径的图；图4为示出通过图2的光学系统制造的第二射出光束行进的第一环路(loop)路径的图；图5为示出通过图2的光学系统制造的第三射出光束行进的第二环路路径的图。

[0029] 图6为示出基于通过图2的光学系统射出的射出激光光束的脉冲持续时间的强度的变化的曲线图。

[0030] 图7为根据本发明的另一实施例的激光晶化装置的光学系统的具体的说明图。

[0031] 图8为示出通过图7的光学系统制造的第一射出光束的行进路径的图；图9为示出通过图7的光学系统制造的第二射出光束行进的第一环路(loop)路径的图；图10为示出通过图7的光学系统制造的第三射出光束行进的第二环路路径的图。

[0032] 图11为根据本发明的又一实施例的激光晶化装置的光学系统的具体的说明图。

[0033] 符号说明：

[0034] 1、2：入射激光光束 1′、2′：射出激光光束

[0035] 10：激光发生器 20：光学系统

[0036] 21：脉冲扩展及上下翻转模块

[0037] 22、脉冲扩展及左右翻转模块

[0038] 30：工作台 40、60：分束器

[0039] 50、70：镜子

具体实施方式

[0040] 以下，参考附图详细说明本发明的各个实施例，以使本发明所属技术领域中具有通常的知识的技术人员容易实施。本发明可以以多种不同形态实现，并不局限于在此说明的实施例。

[0041] 为了清楚地说明本发明而省略了与说明无关的部分，在整个说明书中对相同或类似的构成要素赋予相同的附图符号。

[0042] 此外，为了便于说明而任意地示出了附图中所示的各个构成的大小及厚度，本发明并不一定要局限于图示的情形。

[0043] 那么，参照图1至图5详细说明根据本发明的一个实施例的激光晶化装置。

[0044] 图1为根据本发明的一个实施例的激光晶化装置的概略图。图2为图1的光学系统的具体说明图。

[0045] 如图1所示，根据本发明的一个实施例的激光晶化装置包括：激光发生器10，发生入射激光光束1；光学系统20，对入射激光光束1进行光转换而制造射出激光光束1′；以及工作台30，搭载有对象基板100，该对象基板100形成有被射出激光光束1′照射而被激光晶化的对象薄膜110。

[0046] 由激光发生器10发生的入射激光光束1是诱导对象薄膜110发生相变异(phase variation)的准分子激光束等，其变为射出激光光束1′而使形成于对象基板100的对象薄膜110晶化。对象薄膜110可以是非晶硅层，其可通过低压化学蒸镀法、常压化学蒸镀法、PECVD法(plasma enhanced chemical vapor deposition；等离子体增强化学气相蒸镀法)、溅射法、真空蒸镀法(vacuum evaporation)等方法来形成。

[0047] 如图2所示，光学系统20包括脉冲扩展及上下翻转模块21，该脉冲扩展及上下翻转模块21增加入射激光光束1的脉冲持续时间的同时上下翻转入射激光光束1的脉冲形状。

[0048] 脉冲扩展及上下翻转模块21包括：分束器(splitter)40，反射一部分光束且使剩余部分的光束透过；镜子(mirror)50，反射全部光束。利用分束器40和镜子50将入射激光光束1制造成多个射出光束1A、1B、1C，并将多个射出光束1A、1B、1C混合而制造射出激光光束1′。

[0049] 分束器40对入射激光光束1的50％进行反射而制造反射光束12，并使入射激光光束1的剩余的50％透过而制造第一透过光束11。

[0050] 镜子50使反射光束12沿第一环路路径13行进而再入射到分束器40，镜子50可包括相互隔开的第一镜子51、第二镜子52、第三镜子53。

[0051] 此外，分束器40对经过第一环路路径13再入射的反射光束12的50％进行反射而制造第二射出光束1B，且使反射光束12的50％透过而制造第二透过光束14，并利用镜子50使第二透过光束14沿第二环路路径15行进。

[0052] 将作为透过分束器40的第一透过光束11的第一射出光束1A、反射光束12沿第一环路路径13行进之后射出的第二射出光束1B、第二透过光束14沿第二环路路径15行进之后射出的第三射出光束1C混合而制造射出激光光束1′。

[0053] 以下，利用图3至图5对脉冲扩展及上下翻转模块的具体操作进行详细说明。

[0054] 图3为示出通过图2的光学系统制造的第一射出光束的行进路径的图，图4为示出通过图2的光学系统制造的第二射出光束行进的第一环路路径的图，图5为示出通过图2的光学系统制造的第三射出光束行进的第二环路路径的图。

[0055] 首先，如图3所示，透过分束器40的入射激光光束1的50％成为第一透过光束11而形成第一射出光束1A。此时，在入射激光光束1和第一射出光束1A之间不发生上下翻转。即，当入射激光光束1具有右侧上端的强度较强的脉冲形状时，第一射出光束1A也将具有右侧上端的强度较强的脉冲形状。

[0056] 然后，如图4所示，从分束器40反射的入射激光光束1的50％成为反射光束12而在依次反射于第一镜子51、第二镜子52、第三镜子53的第一环路路径13上行进，并再入射到分束器40。而且，反射光束12的50％在分束器40得到反射而形成第二射出光束1B。此时，相比于入射激光光束1，第二射出光束1B被上下翻转。即，当入射激光光束1具有右侧上端的强度较强的脉冲形状时，第二射出光束1B将具有右侧下端的强度较强的脉冲形状。

[0057] 然后，如图5所示，再入射到分束器40的反射光束12的50％透过而成为第二透过光束14，第二透过光束14依次在第一镜子51、第二镜子52、第三镜子53上得到反射而沿第二环路路径15行进，并再入射到分束器40。而且，第二透过光束14的50％在分束器40得到反射而形成第三射出光束1C。此时，相比于第二射出光束1B，第三射出光束1C被上下翻转，因而将具有与入射激光光束1相同的脉冲形状。即，当入射激光光束1具有右侧上端的强度较强的脉冲形状时，第三射出光束1C将具有右侧上端的强度较强的脉冲形状。

[0058] 因此，如图2所示，右侧上端的强度较强的脉冲形状的第一射出光束1A和右侧下端的强度较强的脉冲形状的第二射出光束1B以及右侧上端的强度较强的脉冲形状的第三射出光束1C混合而制造射出激光光束1′。这种射出激光光束1′具有强度均匀的脉冲形状(Pulse Shape)。

[0059] 如此，通过设置包括分束器40和镜子50的脉冲扩展及上下翻转模块21来制造彼此上下翻转的多个射出光束1A、1B、1C，并且混合多个射出光束1A、1B、1C而制造射出激光光束1′，从而可在射出激光光束1′中补偿入射激光光束1的光束内部位置间强度散布。此外，第二透过光束14的50％在分束器40上再次被透过，因而将再次在环路路径上行进。如此，在环路路径上无限重复而依次射出第四射出光束、第五射出光束等多个射出光束。

[0060] 图6为示出基于通过图2的光学系统射出的射出激光光束的脉冲持续时间的强度的变化的曲线图。

[0061] 在一个实施例中，在入射激光光束1通过脉冲扩展及上下翻转模块21且入射激光光束1的路径长度达到2m的情况下，激光延迟时间(laser delay time)变为6.6ns。因此，入射激光光束1经过脉冲扩展及上下翻转模块21而在6.6ns之后射出第一射出光束1A，且射出第一射出光束1A之后的6.6ns之后射出第二射出光束1B，且射出第二射出光束1B之后的6.6ns之后射出第三射出光束1C，因此，从结果而言，混合这些射出光束的射出激光光束1′总共增加19.8ns的脉冲持续时间。

[0062] 如此，利用脉冲扩展及上下翻转模块21来增加入射激光光束1的路径长度而增加脉冲持续时间，据此可增大多晶硅层的晶粒大小。据此，可扩大工艺余裕(process margin)而在射出激光光束1′中改善入射激光光束1的脉冲间散布。

[0063] 此外，可通过调节第一镜子至第三镜子51、52、53之间的距离、第一镜子51与分束器40之间的距离、第三镜子53与分束器40之间的距离来调节脉冲持续时间。

[0064] 另外，在所述一个实施例中镜子包括第一镜子、第二镜子以及第三镜子，然而也可以有利用两个相面对的第一镜子及第二镜子的另一实施例。

[0065] 以下，参照图7至图10，对根据本发明的另一实施例的激光晶化装置进行详细说明。

[0066] 与图1至图5所示的一个实施例相比，另一实施例除了光学系统之外，其他实质上相同，因而省略重复的说明。

[0067] 图7为根据本发明的另一实施例的激光晶化装置的光学系统的具体的说明图。

[0068] 如图7所示，光学系统20包括脉冲扩展及上下翻转模块21，该脉冲扩展及上下翻转模块21增加入射激光光束1的脉冲持续时间的同时上下翻转入射激光光束1的脉冲形状。

[0069] 脉冲扩展及上下翻转模块21包括：分束器(splitter)40，反射一部分光束且使剩余部分的光束透过；镜子50，反射全部光束。利用分束器40和镜子50将入射激光光束1制造成多个射出光束1A、1B、1C，并将多个射出光束1A、1B、1C混合而制造射出激光光束1′。

[0070] 分束器40对入射激光光束1的50％进行反射而制造第一反射光束111，并使入射激光光束1的剩余的50％透过而制造透过光束112。

[0071] 镜子50使透过光束112沿第一环路路径113行进而再入射到分束器40，镜子50可包括相互隔开的第一镜子51、第二镜子52。

[0072] 此外，分束器40使经过第一环路路径113再入射的透过光束112的50％透过而制造第二射出光束1B，且使透过光束112的50％反射而制造第二反射光束114，并利用镜子50使第二反射光束114沿第二环路路径115行进。

[0073] 将作为在分束器40上反射的第一反射光束111的第一射出光束1A、透过光束112沿第一环路路径113行进之后射出的第二射出光束1B、第二反射光束114沿第二环路路径115行进之后射出的第三射出光束1C混合而制造射出激光光束1′。

[0074] 以下，利用图8至图10对脉冲扩展及上下翻转模块的具体操作进行详细说明。

[0075] 图8为示出通过图7的光学系统制造的第一射出光束的行进路径的图；图9为示出通过图7的光学系统制造的第二射出光束行进的第一环路(loop)路径的图；图10为示出通过图7的光学系统制造的第三射出光束行进的第二环路路径的图。

[0076] 首先，如图8所示，在分束器40上反射的入射激光光束1的50％成为第一反射光束111而形成第一射出光束1A。此时，在入射激光光束1和第一射出光束1A之间不发生上下翻转。即，当入射激光光束1具有右侧上端的强度较强的脉冲形状时，第一射出光束1A也将具有右侧上端的强度较强的脉冲形状。

[0077] 然后，如图9所示，透过分束器40的入射激光光束1的50％成为透过光束112而在依次反射于第一镜子51、第二镜子52的第一环路路径113上行进，并再入射到分束器40。而且，透过光束112的50％透过分束器40而形成第二射出光束1B。此时，相比于入射激光光束1，第二射出光束1B被上下翻转。即，当入射激光光束1具有右侧上端的强度较强的脉冲形状时，第二射出光束1B将具有右侧下端的强度较强的脉冲形状。

[0078] 然后，如图10所示，再入射到分束器40的透过光束112的50％被反射而成为第二反射光束114，第二反射光束114依次在第一镜子51、第二镜子52上得到反射而沿第二环路路径115行进，并再入射到分束器40。而且，第二反射光束114的50％透过分束器40而形成第三射出光束1C。此时，相比于第二射出光束1B，第三射出光束1C被上下翻转，因而将具有与入射激光光束1相同的脉冲形状。即，当入射激光光束1具有右侧上端的强度较强的脉冲形状时，第三射出光束1C将具有右侧上端的强度较强的脉冲形状。

[0079] 因此，如图7所示，右侧上端的强度较强的脉冲形状的第一射出光束1A和右侧下端的强度较强的脉冲形状的第二射出光束1B以及右侧上端的强度较强的脉冲形状的第三射出光束1C混合而制造射出激光光束1′。这种射出激光光束1′具有强度均匀的脉冲形状(Pulse Shape)。

[0080] 如此，通过设置包括分束器40和镜子50的脉冲扩展及上下翻转模块21来制造彼此上下翻转的多个射出光束1A、1B、1C，并且混合多个射出光束1A、1B、1C而制造射出激光光束1′，从而可在射出激光光束1′中补偿入射激光光束1的光束内部位置间强度散布。此外，利用脉冲扩展及上下翻转模块21来增加入射激光光束1的路径长度而增加脉冲持续时间，据此可增大多晶硅层的晶粒大小。据此，可扩大工艺余裕(process margin)而在射出激光光束1′中改善入射激光光束1的脉冲间散布。此外，可通过调节第一镜子51与第二镜子52之间的距离、第一镜子51与分束器40之间的距离、第二镜子52与分束器40之间的距离来调节脉冲持续时间。

[0081] 此外，第二反射光束114的50％在分束器40上再次被反射，因而之后将再次在环路路径上行进。如此，在环路路径上无限重复而依次射出第四射出光束、第五射出光束等多个射出光束。

[0082] 另外，在所述另一实施例中仅设置了脉冲扩展及上下翻转模块21，然而也可以有还设置脉冲扩展及左右翻转模块的又一实施例。

[0083] 以下，参照图11对根据本发明的又一实施例的激光晶化装置进行详细说明。

[0084] 与图7至图10所示的另一实施例相比，又一实施例除了还设有脉冲扩展及左右翻转模块之外，其他实质上相同，因而省略重复的说明。

[0085] 图11为根据本发明的又一实施例的激光晶化装置的光学系统的具体的说明图。

[0086] 如图11所示，光学系统20包括：脉冲扩展及上下翻转模块21，增加入射激光光束1的脉冲持续时间的同时上下翻转入射激光光束1的脉冲形状；脉冲扩展及左右翻转模块22，增加由脉冲扩展及上下翻转模块21射出的射出激光光束1′的脉冲持续时间的同时左右翻转射出激光光束1′的脉冲形状。

[0087] 通过脉冲扩展及上下翻转模块21射出的射出激光光束1′可补偿入射激光光束1的光束内部位置间强度散布。然而，由于仅能够实现光束的上下翻转，因此有可能产生射出激光光束1′的左右侧间强度的偏差。为了补偿这种射出激光光束1′的左右侧间强度的偏差而设置脉冲扩展及左右翻转模块22。射出激光光束1′在此成为入射激光光束2而入射到脉冲扩展及左右翻转模块22。

[0088] 脉冲扩展及左右翻转模块22包括：分束器60，对一部分光束进行反射并使剩余的一部分光束透过；镜子70，反射全部光束。利用分束器60和镜子70来将入射激光光束2制造成多个射出光束2A、2B、2C，并混合多个射出光束2A、2B、2C而制造射出激光光束2′。

[0089] 分束器60对入射激光光束2的50％进行反射而制造第一反射光束111，并使入射激光光束2的剩余的50％透过而制造透过光束112。

[0090] 镜子70使透过光束112沿第一环路路径113行进而再入射到分束器60，镜子70可包括相互隔开的第一镜子71、第二镜子72。

[0091] 此外，分束器60使经过第一环路路径113再入射的透过光束112的50％透过而制造第二射出光束2B，且使透过光束112的50％得到反射而制造第二反射光束114，并利用镜子71、72使第二反射光束114沿第二环路路径115行进。

[0092] 将作为在分束器60上反射的第一反射光束111的第一射出光束2A、透过光束112沿第一环路路径113行进之后射出的第二射出光束2B、第二反射光束114沿第二环路路径115行进之后射出的第三射出光束2C混合而制造射出激光光束2′。

[0093] 入射激光光束2和第一射出光束2A之间不发生上下翻转，因而当入射激光光束2具有右侧的强度较强的脉冲形状时，第一射出光束2A也将具有右侧强度较强的脉冲形状。并且，与入射激光光束2相比，第二射出光束2B被左右翻转，因而第二射出光束2B将具有左侧的强度较强的脉冲形状。并且，与第二射出光束2B相比，第三射出光束2C被左右翻转，因此具有与入射激光光束2相同的脉冲形状。即，当入射激光光束2具有右侧的强度较强的脉冲形状时，第三射出光束2C将具有右侧的强度较强的脉冲形状。

[0094] 因此，如图11所示，将右侧的强度较强的脉冲形状的第一射出光束2A、左侧的强度较强的脉冲形状的第二射出光束2B、右侧的强度较强的脉冲形状的第三射出光束2C混合而制造射出激光光束2′。这种射出激光光束2′将具有左右上下全部的强度均匀的脉冲形状。

[0095] 根据前述所记载的内容通过优选实施例对本发明进行了说明，但本发明并不局限于此，在不脱离权利要求书所记载的概念和范围的情况下可进行多种修改及变形，对于从事本发明所属技术领域的技术人员而言是容易理解的。