处理装置、处理方法及电子设备的制造方法

摘要

有关实施方式的处理装置具备：第1供给部，向多个被处理物的表面供给第1流动体；第2供给部，向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给含有升华性物质的流动体；气体供给部，向被供给了含有上述升华性物质的流动体的上述多个被处理物的表面供给气体；以及升华部，使形成在上述多个被处理物的各自的表面上的含有升华性物质的层升华。上述气体供给部通过控制上述多个被处理物的各自的表面上的上述气体的流速，来控制形成在上述多个被处理物的各自的表面上的含有上述升华性物质的层的厚度。

权利要求

1.一种处理装置，其特征在于，

具备：

第1供给部，向多个被处理物的表面供给第1流动体；

第2供给部，向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给含有升华性物质的流动体；

气体供给部，向被供给了含有上述升华性物质的流动体的上述多个被处理物的表面供给气体；以及升华部，使形成在上述多个被处理物的各自的表面的含有升华性物质的层升华；

上述气体供给部通过控制上述多个被处理物的各自的表面的上述气体的流速，来控制形成在上述多个被处理物的各自的表面的含有上述升华性物质的层的厚度。

2.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，上述气体供给部进行控制，以使上述多个被处理物的各自的表面的上述气体的流速为

10m/s以上且40m/s以下。

3.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，上述气体供给部通过控制朝向上述多个被处理物供给的上述气体的流速及上述气体的流量的至少某个，来控制上述多个被处理物的各自的表面的上述气体的流速。

4.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，还具备向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给与含有上述升华性物质的流动体的亲和性高的第2流动体的第3供给部；

上述第2供给部向被供给了上述第2流动体的上述多个被处理物的表面供给含有上述升华性物质的流动体。

5.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，上述第1流动体是超纯水。

6.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，含有上述升华性物质的流动体是含有上述升华性物质的溶液、或熔化的上述升华性物质。

7.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，上述升华性物质的熔点是室温以上，在大气压以下的环境中升华。

8.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，上述升华性物质包括从由作为氟硅酸铵的(NH4)2SiF6、1，2，3－苯并三唑、2－甲基萘、对二氯苯及甲基萘构成的组中选择的至少1种。

9.如权利要求6所述的处理装置，其特征在于，含有上述升华性物质的溶液包括上述升华性物质和溶剂；

上述溶剂包括从由纯水、脂肪族烃、芳香族烃、酯、醇及醚构成的组中选择的至少1种。

10.如权利要求4所述的处理装置，其特征在于，上述第2流动体是异丙醇。

11.如权利要求1所述的处理装置，其特征在于，上述被处理物在表面具有线和间隔的图案，上述线的间距尺寸是40nm以下。

12.一种处理方法，其特征在于，

具备：

第1供给工序，向多个被处理物的表面供给第1流动体；

第2供给工序，向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给含有升华性物质的流动体；

气体供给工序，向被供给了含有上述升华性物质的流动体的上述多个被处理物的表面供给气体；以及使形成在上述多个被处理物的各自的表面的含有升华性物质的层升华的工序；

在上述气体供给工序中，通过控制上述多个被处理物的各自的表面的上述气体的流速，来控制形成在上述多个被处理物的各自的表面的含有上述升华性物质的层的厚度。

13.如权利要求12所述的处理方法，其特征在于，在上述气体供给工序中进行控制，以使上述多个被处理物的各自的表面上的上述气体的流速为10m/s以上且40m/s以下。

14.如权利要求12所述的处理方法，其特征在于，在上述气体供给工序中，通过控制朝向上述多个被处理物供给的上述气体的流速及上述气体的流量的至少某个，来控制上述多个被处理物的各自的表面的上述气体的流速。

15.如权利要求12所述的处理方法，其特征在于，还具备向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给与含有上述升华性物质的流动体的亲和性高的第2流动体的第3供给工序；

在上述第2供给工序中，向被供给了上述第2流动体的上述多个被处理物的表面供给含有上述升华性物质的流动体。

16.如权利要求12所述的处理方法，其特征在于，含有上述升华性物质的流动体是含有上述升华性物质的溶液、或熔化的上述升华性物质。

17.如权利要求12所述的处理方法，其特征在于，上述升华性物质至少包括从由作为氟硅酸铵的(NH4)2SiF6、1，2，3－苯并三唑、2－甲基萘、对二氯苯及甲基萘构成的组中选择的至少1种。

18.如权利要求15所述的处理方法，其特征在于，上述第2流动体是异丙醇。

19.如权利要求12所述的处理方法，其特征在于，上述被处理物在表面具有线和间隔的图案，上述线的间距尺寸是40nm以下。

20.一种电子设备的制造方法，其特征在于，使用权利要求12所述的处理方法来进行上述多个被处理物的处理。

说明书

处理装置、处理方法及电子设备的制造方法

[0001] 相关申请的交叉引用

[0002] 本申请基于2014年7月30日提出的日本专利申请第2014－154807号主张优先权，这里引用其全部内容。

技术领域

[0003] 本发明的实施方式涉及处理装置、处理方法及电子设备的制造方法。

背景技术

[0004] 在半导体装置或平板显示器等的电子设备的制造中，进行使用纯水或有机溶剂等的清洗。

[0005] 这里，如果凹凸图案的间隔(线和间隔的图案中的线的间距尺寸)为40nm以下，则有时在清洗工序中使用的纯水或有机溶剂等干燥时产生毛细管力而凹凸图案的凸部坍塌。

[0006] 因此，为了抑制凹凸图案的凸部的坍塌，提出了使用升华性物质的技术。

[0007] 在使用升华性物质的技术中，在清洗后，将溶解的升华性物质或含有升华性物质的溶液涂敷到基板等被处理物的表面上，进行冷却或将溶剂除去而使其凝固，然后，通过在大气压下或减压下加热等，将升华性物质从被处理物的表面除去。

[0008] 在此情况下，如果使用单张旋涂法将含有升华性物质的溶液等涂敷到被处理物的表面上，则能够使含有升华性物质的层的厚度成为适当的值。但是，如果使用单张旋涂法，则有生产性变低的问题。

[0009] 另一方面，如果使用使多个被处理物一次浸渍到含有升华性物质的溶液等中的批处理法，则能够使生产性提高。但是，如果使用批处理法，则难以使含有升华性物质的层的厚度成为适当的值。

[0010] 因此，希望能够使含有升华性物质的层的厚度成为适当的值、并且能够实现生产性的提高的技术的开发。

发明内容

[0011] 技术方案的处理装置具备：第1供给部，向多个被处理物的表面供给第1流动体；第2供给部，向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给含有升华性物质的流动体；气体供给部，向被供给了含有上述升华性物质的流动体的上述多个被处理物的表面供给气体；以及升华部，使形成在上述多个被处理物的各自的表面上的含有升华性物质的层升华。

[0012] 上述气体供给部通过控制上述多个被处理物的各自的表面上的上述气体的流速，来控制形成在上述多个被处理物的各自的表面上的含有上述升华性物质的层的厚度。

附图说明

[0013] 图1是用来例示载体101的示意剖视图。

[0014] 图2是用来例示有关本实施方式的处理装置1的示意图。

[0015] 图3是用来例示含有升华性物质的层103的示意剖视图。

[0016] 图4是用来例示成膜部6的示意图。

[0017] 图5是用来例示被处理物100的表面上的气体的流速与含有升华性物质的层103的厚度t的关系的曲线图。

[0018] 图6是用来例示有关另一实施方式的成膜部6a的示意图。

[0019] 图7是用来例示有关另一实施方式的成膜部6b的示意图。

[0020] 图8是用来例示除去部7的示意剖视图。

具体实施方式

[0021] 实施方式的处理装置具备：第1供给部，向多个被处理物的表面供给第1流动体；第2供给部，向被供给了上述第1流动体的上述多个被处理物的表面供给含有升华性物质的流动体；气体供给部，向被供给了含有上述升华性物质的流动体的上述多个被处理物的表面供给气体；以及升华部，使形成在上述多个被处理物的各自的表面上的含有升华性物质的层升华。

[0022] 上述气体供给部通过控制上述多个被处理物的各自的表面上的上述气体的流速，来控制形成在上述多个被处理物的各自的表面上的含有上述升华性物质的层的厚度。

[0023] 以下，参照附图对实施方式进行例示。另外，在各图中，对于同样的构成要素赋予相同的标号，适当省略详细的说明。

[0024] 首先，对被处理物100及载体101进行例示。

[0025] 被处理物100可以做成在表面上具有微细的凹凸部的结构。

[0026] 被处理物100例如可以做成在表面上形成有凹凸图案的半导体晶片等。

[0027] 在此情况下，凹凸图案例如可以做成线和间隔的图案。线的间距尺寸例如可以设为40nm以下。

[0028] 以下，作为一例而举出被处理物100是半导体晶片的情况为例进行说明。

[0029] 但是，被处理物100并不限定于半导体晶片，只要是在表面上具有微细的凹凸部的结构就可以。

[0030] 图1是用来例示载体101的示意剖视图。

[0031] 载体101将多个被处理物100以隔开规定的间隔竖立的状态收存(参照图2)。

[0032] 此外，如图1所示，载体101呈箱状。

[0033] 在载体101的上端部设有开口部101a。被处理物100的出入经由开口部101a进行。

[0034] 此外，在载体101的上端部设有保持部101b。

[0035] 保持部101b从载体101的上端部朝向外侧突出。

[0036] 在使载体101移动时，由运送部或升降部将保持部101b保持。

[0037] 在载体101的侧面设有开口部101c。

[0038] 在载体101的底面设有开口部101d。

[0039] 对于载体101的材料没有特别限定，但优选的是具有耐药性和耐热性。载体101的材料例如可以为氟树脂或不锈钢等。

[0040] 另外，载体101并不限定于例示的结构。载体101只要是能够将多个被处理物100以隔开规定的间隔竖立的状态收存的结构就可以。

[0041] 接着，例示有关本实施方式的处理装置1。

[0042] 图2是用来例示有关本实施方式的处理装置1的示意图。

[0043] 图3是用来例示含有升华性物质的层103的示意剖视图。

[0044] 如图2所示，在处理装置1中设有壳体2、运入部3、运出部4、药液处理部5、成膜部6、除去部7、运送部8及控制部9。

[0045] 壳体2呈箱状。在壳体2的内部设有运入部3、运出部4、药液处理部5、成膜部6、除去部7及运送部8。

[0046] 此外，在壳体2上设有未图示的开闭门，能够进行向运入部3的载体101的运入或从运出部4的载体101的运出。

[0047] 壳体2具有能够防止微粒从外部侵入之程度的气密构造。

[0048] 另外，也可以设置供给空气等的气体供给装置，使得壳体2的内部的压力比壳体2的外部的压力高。如果使壳体2的内部的压力比壳体2的外部的压力高，则容易防止微粒从外部侵入。

[0049] 运入部3将收存有处理前的多个被处理物100的载体101收存。

[0050] 运出部4将收存有已处理的多个被处理物100的载体101收存。

[0051] 药液处理部5使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到药液中，将被处理物100的表面处理。

[0052] 药液处理部5例如将灰化的残渣、微粒及抗蚀剂掩模等从被处理物100的表面除去。此外，药液处理部5例如也可以为进行形成在被处理物100的表面上的膜的蚀刻的单元。

[0053] 药液可以根据处理的目的而适当选择。药液例如可以为DHF(稀氟酸)、BHF(缓冲氟酸)、SC－1(氢氧化铵、过氧化氢和水的混合液)、SC－2(盐酸、过氧化氢和水的混合液)、APM(氨过氧化氢混合物)、HPM(盐酸过氧化氢混合物)、SPM(硫酸过氧化氢混合物)等。但是，药液并不限定于例示。

[0054] 在药液处理部5中，例如可以设置处理槽5a和升降部5b。

[0055] 在处理槽5a的内部收存有药液。药液例如经由未图示的工厂管线等被向处理槽5a的内部供给。此外，已使用的药液经由未图示的工厂管线等被从处理槽5a的内部排出。

[0056] 升降部5b将载体101的保持部101b保持，使保持的载体101下降，使载体101浸渍到处理槽5a的内部的药液中。

[0057] 此外，升降部5b将载体101的保持部101b保持，使保持的载体101上升，从处理槽5a的内部的药液中将载体101提起。

[0058] 成膜部6从在药液处理部5中被处理后的被处理物100的表面将药液除去，在被除去了药液的被处理物100的表面上形成具有适当的厚度的含有升华性物质的层103。

[0059] 除去部7将形成在被处理物100的表面上的含有升华性物质的层103除去。

[0060] 另外，关于成膜部6及除去部7的详细情况在后面叙述。

[0061] 运送部8将收存有多个被处理物100的载体101运送。

[0062] 在运送部8设有主体部8a、臂部8b、移动部8c及夹盘8d。

[0063] 主体部8a设在移动部8c之上。在主体部8a之上设有臂部8b。在主体部8a设有驱动装置，主体部8a在移动部8c之上移动。此外，通过设在主体部8a上的驱动装置，能够进行臂部8b的伸缩动作及旋转动作、夹盘8d的旋转动作等。

[0064] 在臂部8b的一端设有夹盘8d，能够保持载体101的保持部101b。

[0065] 臂部8b具有多关节构造，能够使夹盘8d向从主体部8a突出的方向或回到主体部8a侧的方向移动。因此，臂部8b能够使臂伸缩而进行保持的载体101的移交或载体101的获取。

[0066] 夹盘8d例如可以为具有机械的保持装置的结构。

[0067] 控制部9控制设置于处理装置1的各部件的动作。

[0068] 控制部9例如控制药液处理部5，向被处理物100的表面供给药液，实施希望的处理。

[0069] 控制部9例如控制成膜部6，向被处理物100的表面供给洗涤液102(相当于第1流动体的一例)、前处理液104(相当于第2流动体的一例)及含有升华性物质的流动体105。

[0070] 此外，控制部9例如控制成膜部6，使处于被处理物100的表面的含有升华性物质的流动体105干燥而形成含有升华性物质的层103。

[0071] 此时，控制部9控制气体供给部65，使得形成的含有升华性物质的层103的厚度t处于适当的范围内。

[0072] 另外，含有升华性物质的层103的厚度t如图3所示，是从凹凸图案100a中的凸部100a1的顶面到含有升华性物质的层103的表面的长度。

[0073] 控制部9例如控制除去部7，使形成在被处理物100的表面的含有升华性物质的层103除去。

[0074] 控制部9例如控制运送部8，使其将收存有多个被处理物100的载体101运送。

[0075] 另外，关于成膜部6及除去部7的作用的详细情况后述。

[0076] 接着，对成膜部6进一步例示。

[0077] 图4是用来例示成膜部6的示意图。

[0078] 如图4所示，在成膜部6设有处理槽60、前处理液供给部63(相当于第3供给部的一例)、流动体供给部64(相当于第2供给部的一例)、气体供给部65、管线部66及升降部67。

[0079] 处理槽60具有内槽62和外槽61。

[0080] 内槽62的上端部被开口。在内槽62的内部收存洗涤液102。此外，在内槽62的内部收存收存着多个被处理物100的载体101。即，能够使收存着多个被处理物100的载体101浸渍到收存于内槽62的内部的洗涤液102之中。

[0081] 外槽61以将内槽62的上端部包围的方式设置。外槽61将从内槽62的上端部溢出的洗涤液102回收。

[0082] 洗涤液102例如可以为超纯水等。

[0083] 前处理液供给部63设在处理槽60的上方。

[0084] 前处理液供给部63向被从处理槽60提起的多个被处理物100的表面供给前处理液104。

[0085] 前处理液104为了使含有升华性物质的层103的形成变容易而供给。

[0086] 例如，通过将处于被处理物100的表面的洗涤液102置换为前处理液104，后述的含有升华性物质的流动体105变得容易附着。

[0087] 因此，前处理液104优选的是，为与含有升华性物质的流动体105的亲和性较高者。

[0088] 前处理液104例如可以为IPA(异丙醇)等。

[0089] 前处理液供给部63例如可以为具备朝向多个被处理物100的表面喷射前处理液104的喷嘴、向喷嘴供给前处理液104的泵、和控制前处理液104的供给和停止、流量等的控制阀的结构。

[0090] 另外，前处理液供给部63并不一定需要，也可以省略。

[0091] 但是，如果设置前处理液供给部63，则能够使含有升华性物质的流动体105的附着、进而含有升华性物质的层103的厚度t的控制变容易。

[0092] 流动体供给部64设在前处理液供给部63的上方。

[0093] 流动体供给部64向被供给了前处理液104的多个被处理物100的表面供给含有升华性物质的流动体105。

[0094] 另外，在没有设置前处理液供给部63的情况下，流动体供给部64向被供给了洗涤液102的多个被处理物100的表面供给含有升华性物质的流动体105。

[0095] 含有升华性物质的流动体105可以为含有升华性物质且具有流动性。

[0096] 含有升华性物质的流动体105例如可以为含有升华性物质的溶液或熔化的升华性物质。

[0097] 流动体供给部64例如可以为具备朝向多个被处理物100的表面喷射含有升华性物质的流动体105的喷嘴、向喷嘴供给含有升华性物质的流动体105的泵、控制含有升华性物质的流动体105的供给和停止、流量等的控制阀等的结构。

[0098] 升华性物质可以为熔点是室温以上、在大气压以下的环境中升华的物质。

[0099] 升华性物质例如可以包含从由氟硅酸铵((NH4)2SiF6)、1，2，3－苯并三唑、2－甲基萘、对二氯苯及甲基萘构成的组中选择的至少1种。

[0100] 在为熔化的升华性物质的情况下，例如只要将升华性物质加热到熔点以上就可以。例如，通过将未图示的含有升华性物质的流动体105的供给部、管线及喷嘴的至少某个加热到升华性物质的熔点以上，能够使升华性物质熔化而将熔化的升华性物质向被处理物100的表面供给。

[0101] 在为含有升华性物质的溶液的情况下，只要使升华性物质溶解到溶剂中就可以。

[0102] 溶剂例如可以包含从由纯水、脂肪族烃、芳族烃、酯、醇及醚构成的组中选择的至少1种。

[0103] 具体而言，可以包含从由纯水、甲醇、乙醇、IPA、丁醇、乙二醇、丙二醇、NMP、DMF、DMA、DMSO、己烷、甲苯、PGMEA(丙二醇单甲醚乙酸酯)、PGME(丙二醇单甲醚)、PGPE(丙二醇单丙醚)、PGEE(丙二醇单乙醚)、GBL、乙酰丙酮、3－戊酮、2－庚酮、乳酸乙酯、环已酮、二丁醚、HFE(氢氟醚)、乙基九氟代异丁基醚、乙基九氟代丁基醚及m－二甲苯六氟化物构成的组中选择的至少1种。

[0104] 气体供给部65设在流动体供给部64的上方。

[0105] 气体供给部65向被供给了含有升华性物质的流动体105的多个被处理物100的表面供给气体，进行含有升华性物质的流动体105的干燥。

[0106] 在此情况下，通过使处于多个被处理物100的各自表面的含有升华性物质的流动体105干燥，形成含有升华性物质的层103。

[0107] 气体供给部65例如可以为具备朝向多个被处理物100的表面喷射气体的喷嘴、向喷嘴供给气体的压力罐、和控制气体的供给和停止、流速、流量等的控制阀等。

[0108] 对于气体的种类没有特别限定，只要难以与被处理物100或升华性物质等反应的种类就可以。

[0109] 气体例如可以为氮气、空气、氩等的惰性气体等。

[0110] 对于气体中含有的水分量没有特别限定，但优选的是水分量尽可能变少。即，气体优选的是干燥气体。

[0111] 此外，气体的温度只要是升华性物质的熔点以下就可以，没有被特别限定，但为了促进含有升华性物质的流动体105的干燥，优选的是室温以上。

[0112] 此外，气体供给部65通过控制气体的流速及流量的至少某个，来控制所形成的含有升华性物质的层103的厚度t。

[0113] 另外，关于含有升华性物质的层103的厚度t的控制的详细情况在后面叙述。

[0114] 管线部66设有供给管线66a(相当于第1供给部的一例)、泄流管线66b1～66b4及切换阀66c。

[0115] 供给管线66a设在内槽62的内部的底面侧。供给管线66a例如连接于未图示的工厂管线等，将从未图示的工厂管线供给的洗涤液102向内槽62的内部导入。供给管线66a例如也可以为具备喷嘴等、向内槽62的内部喷射洗涤液102的结构。

[0116] 泄流管线66b1连接于内槽62的底面。泄流管线66b1例如将处于内槽62的内部的洗涤液102排出。

[0117] 泄流管线66b2连接于内槽62的底面。泄流管线66b2例如将处于内槽62的内部的前处理液104及含有升华性物质的流动体105排出。

[0118] 泄流管线66b3经由切换阀66c连接于外槽61的底面。泄流管线66b3将处于外槽61的内部的洗涤液102排出。

[0119] 泄流管线66b4经由切换阀66c连接于外槽61的底面。泄流管线66b4将处于外槽61的内部的前处理液104及含有升华性物质的流动体105排出。

[0120] 另外，也可以将用来将前处理液104排出的泄流管线和用来将含有升华性物质的流动体105排出的泄流管线分别设置。

[0121] 切换阀66c例如可以为三通阀等。

[0122] 升降部67将载体101的保持部101b保持，使保持的载体101下降，使载体101浸渍到内槽62的内部的洗涤液102中。

[0123] 此外，升降部67将载体101的保持部101b保持，使保持的载体101上升，从内槽62的内部的洗涤液102中将载体101提起。

[0124] 此外，升降部67使载体101进一步上升，使得载体101穿过被前处理液供给部63供给前处理液104的区域、被流动体供给部64供给含有升华性物质的流动体105的区域、和被气体供给部65供给气体的区域。

[0125] 接着，对含有升华性物质的层103的厚度t的控制进行说明。

[0126] 作为在被处理物100的表面上形成膜状体的方法，已知有单张旋涂法。

[0127] 如果使用该单张旋涂法将含有升华性物质的溶液等涂敷到被处理物100的表面上，则能够使含有升华性物质的层103的厚度t成为适当的厚度。

[0128] 但是，如果使用单张旋涂法，则生产性变低。

[0129] 在此情况下，如果使用使多个被处理物100一次浸渍到含有升华性物质的溶液等中的批处理法，则能够使生产性提高。

[0130] 但是，如果单单使用批处理法，则难以在以竖立的状态收存着的多个被处理物100的表面上形成具有适当的厚度的含有升华性物质的层103。

[0131] 在此情况下，如果含有升华性物质的层103的厚度t过薄，则有可能发生不匀等而发生不能进行洗涤液102等的除去的区域。

[0132] 如果含有升华性物质的层103的厚度t过厚，则有可能除去部7的除去时间变长或发生残渣。

[0133] 所以，在处理装置1中，设置气体供给部65，使处于被处理物100的表面的含有升华性物质的流动体105干燥，并控制所形成的含有升华性物质的层103的厚度t。

[0134] 根据本发明者们已得到的认识，如以下的(1)式所示，含有升华性物质的层103的厚度t可以通过含有升华性物质的流动体105的浓度、含有升华性物质的流动体105的粘度、和被处理物100的表面上的气体的流速来控制。

[0135] [数学式1]

[0136]

[0137] 在此情况下，如果含有升华性物质的流动体105的组分被确定，则能够预先知道含有升华性物质的流动体105的浓度及含有升华性物质的流动体105的粘度。

[0138] 因此，通过进行实验或模拟，能够求出用来形成具有适当的厚度的含有升华性物质的层103的被处理物100的表面上的气体的流速、以及由气体供给部65供给的气体的流量及流速等。

[0139] 图5是用来例示被处理物100的表面上的气体的流速与含有升华性物质的层103的厚度t的关系的曲线图。

[0140] 在此情况下，含有升华性物质的流动体105的粘度为1.77mPas左右。

[0141] 含有升华性物质的流动体105的浓度为6.4wt％左右。

[0142] 根据图5可知，如果使被处理物100的表面上的气体的流速变化，则能够使含有升华性物质的层103的厚度t变化。

[0143] 此外，被处理物100的表面上的气体的流速可以通过控制气体供给部65中的气体的流速及流量的至少某个来控制。

[0144] 因此，通过控制气体供给部65中的气体的流速及流量的至少某个，能够控制所形成的含有升华性物质的层103的厚度t。

[0145] 所以，由气体供给部65控制多个被处理物100的表面上的气体的流速，使得含有升华性物质的层103的厚度t处于适当的范围。

[0146] 例如如图5所示，如果使得被处理物100的表面上的气体的流速为10m/s以上、40m/s以下，则能够形成具有适当的厚度的含有升华性物质的层103。

[0147] 图6是用来例示有关另一实施方式的成膜部6a的示意图。

[0148] 如图6所示，成膜部6a设有处理槽60、流动体供给部64、气体供给部65、管线部66及升降部67。

[0149] 即，在成膜部6a中，在处理槽60的上方没有设置前处理液供给部63。

[0150] 在成膜部6a的情况下，将前处理液104从供给管线66a向内槽62的内部供给。

[0151] 即，首先，向内槽62的内部供给洗涤液102，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到洗涤液102中。接着，从内槽62的内部将洗涤液102排出。接着，向内槽62的内部供给前处理液104，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到前处理液104中。

[0152] 这样，向多个被处理物100的表面供给前处理液104。

[0153] 另外，也可以将前处理液供给部63设在内槽62的内部。

[0154] 图7是用来例示有关另一实施方式的成膜部6b的示意图。

[0155] 如图7所示，成膜部6b设有处理槽60、气体供给部65、管线部66及升降部67。

[0156] 即，在成膜部6b中，在处理槽60的上方没有设置前处理液供给部63及流动体供给部64。

[0157] 在成膜部6b的情况下，将前处理液104及含有升华性物质的流动体105从供给管线66a向内槽62的内部供给。

[0158] 即，首先，向内槽62的内部供给洗涤液102，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到洗涤液102中。接着，从内槽62的内部将洗涤液102排出。接着，向内槽62的内部供给前处理液104，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到前处理液104中。接着，从内槽62的内部将前处理液104排出。接着，向内槽62的内部供给含有升华性物质的流动体105，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到含有升华性物质的流动体105中。

[0159] 这样，向多个被处理物100的表面依次供给前处理液104及含有升华性物质的流动体105。

[0160] 另外，也能够将前处理液供给部63及流动体供给部64设在内槽62的内部。

[0161] 接着，对除去部7进一步例示。

[0162] 图8是用来例示除去部7的示意剖视图。

[0163] 如图8所示，除去部7设有容器7a、升华部7b及排气部7c。

[0164] 容器7a呈箱状，具有气密构造。

[0165] 容器7a设有用来将收存有多个被处理物100的载体101运入、运出的开口、和用来进行开口的开放和关闭的门。

[0166] 升华部7b使处于收存在载体101中的多个被处理物100的各自的表面上的含有升华性物质的层103升华而将其除去。

[0167] 对于升华部7b的结构没有特别限定，只要是能够使含有升华性物质的层103升华的结构就可以。

[0168] 升华部7b例如可以是加热装置、光照射装置、电子线照射装置、供给将固体分解的气体的装置等。

[0169] 排气部7c对容器7a的内部进行排气，使容器7a的内部成为比大气压减压的气体环境。

[0170] 排气部7c例如使容器7a的内部的压力成为0.1Pa～20Pa左右。

[0171] 排气部7c例如可以为真空泵等。

[0172] 另外，在含有升华性物质的层103即使在大气压下也能够升华的情况下，也可以将容器7a及排气部7c省略。

[0173] 但是，如果设置容器7a及排气部7c、在减压环境下将含有升华性物质的层103升华，则能够缩短除去时间。

[0174] 接着，对处理装置1的作用以及有关本实施方式的处理方法进行例示。首先，将收存有处理前的多个被处理物100的载体101向运入部3运入。

[0175] 接着，由运送部8将载体101从运入部3向药液处理部5运送。

[0176] 接着，由药液处理部5将被处理物100的表面处理。

[0177] 例如，首先，由升降部5b使载体101浸渍到处理槽5a的内部的药液中。

[0178] 接着，由升降部5b将载体101从处理槽5a的内部的药液中提起。

[0179] 这样，向收存在载体101中的多个被处理物100的表面同时供给药液，实施希望的处理。

[0180] 接着，由运送部8将载体101从药液处理部5向成膜部6运送。

[0181] 接着，由成膜部6将药液从被处理物100的表面除去，在被除去了药液的被处理物100的表面上，形成具有适当的厚度的含有升华性物质的层103。

[0182] 例如，首先，由升降部67使载体101浸渍到内槽62的内部的洗涤液102中。

[0183] 接着，由升降部67将载体101从内槽62的内部的洗涤液102中提起。

[0184] 接着，由升降部67使载体101进一步上升，由前处理液供给部63向多个被处理物100的表面供给前处理液104。

[0185] 接着，由升降部67使载体101进一步上升，由流动体供给部64向多个被处理物100的表面供给含有升华性物质的流动体105。

[0186] 接着，由升降部67使载体101进一步上升，由气体供给部65向多个被处理物100的表面供给气体，在多个被处理物100的各自的表面上形成含有升华性物质的层103。

[0187] 此时，通过控制气体供给部65中的气体的流速及流量的至少某个，控制形成的含有升华性物质的层103的厚度t。

[0188] 另外，如上述那样，也可以在内槽62的内部中，向多个被处理物100的表面供给洗涤液102和前处理液104。

[0189] 例如，首先，向内槽62的内部供给洗涤液102，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到洗涤液102中。接着，从内槽62的内部将洗涤液102排出。接着，向内槽62的内部供给前处理液104，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到前处理液104中。

[0190] 此外，在内槽62的内部中，也可以向多个被处理物100的表面供给洗涤液102、前处理液104和含有升华性物质的流动体105。

[0191] 例如，首先，向内槽62的内部供给洗涤液102，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到洗涤液102中。接着，从内槽62的内部将洗涤液102排出。接着，向内槽62的内部供给前处理液104，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到前处理液104中。接着，从内槽
62的内部将前处理液104排出。接着，向内槽62的内部供给含有升华性物质的流动体105，使收存有多个被处理物100的载体101浸渍到含有升华性物质的流动体105中。

[0192] 接着，由运送部8将载体101从成膜部6向除去部7运送。

[0193] 接着，由除去部7将形成在多个被处理物100的各自的表面上的含有升华性物质的层103除去。

[0194] 例如，首先，由排气部7c使被运入了载体101的容器7a的内部成为被比大气压减压的环境。

[0195] 例如，由排气部7c使容器7a的内部的压力成为0.1Pa～20Pa左右。接着，由升华部7b将含有升华性物质的层103加热等，使处于被处理物100的表面的含有升华性物质的层
103升华而将其除去。

[0196] 例如，由升华部7b将含有升华性物质的层103加热，以使含有升华性物质的层103成为50℃～150℃左右。

[0197] 接着，由运送部8将收存有已处理的多个被处理物100的载体101从除去部7向运出部4运送。

[0198] 接着，将收存有已处理的多个被处理物100的载体101从运出部4向处理装置1的外部运出。

[0199] 如以上说明，有关本实施方式的处理法可以具备以下的工序。

[0200] 向多个被处理物100的表面供给第1流动体(例如洗涤液102)的第1供给工序。

[0201] 向被供给了第1流动体的多个被处理物100的表面供给含有升华性物质的流动体105的第2供给工序。

[0202] 向被供给了含有升华性物质的流动体105的多个被处理物100的表面供给气体的气体供给工序。

[0203] 在该气体供给工序中，通过控制多个被处理物100的各自的表面上的气体的流速，来控制在多个被处理物100的各自的表面上形成的含有升华性物质的层103的厚度。

[0204] 将形成在被处理物100的表面上的含有升华性物质的层103从被处理物100上升华除去的升华除去工序。

[0205] 在升华除去工序中，将被处理物100进行减压或加热、或者进行减压及加热这两者。

[0206] 此外，可以还具备向被供给了第1流动体的多个被处理物100的表面供给与含有升华性物质的流动体105的亲和性高的第2流动体(例如前处理液104)的第3供给工序。

[0207] 在此情况下，在上述第2供给工序中，向被供给了第2流动体的多个被处理物100的表面供给含有升华性物质的流动体105。

[0208] 第2流动体可以为异丙醇。

[0209] 另外，各工序中的内容可以与上述是同样的，所以省略详细的说明。

[0210] 接着，对有关本实施方式的电子设备的制造方法进行例示。

[0211] 作为电子设备的制造方法，例如可以例示半导体装置的制造方法及平板显示器的制造方法等。例如，在半导体装置的制造工序中，有所谓的前工序中的通过成膜、抗蚀剂涂敷、曝光、显影、蚀刻、抗蚀剂除去等在半导体晶片的表面上形成图案的工序、检查工序、清洗工序、热处理工序、杂质导入工序、扩散工序、平坦化工序等。此外，在所谓的后工序中，有切割(dicing)、安装、接合、封装(日语：封入)等组装工序、进行功能及可靠性的检查的检查工序等。

[0212] 在此情况下，例如在清洗工序中可以使用上述处理装置1及处理方法。

[0213] 例如，可以将附着在半导体晶片的表面上的有机物及金属等使用上述处理装置1及处理方法除去。

[0214] 另外，上述处理装置1及处理方法以外者可以采用各工序中的已知的技术，所以省略它们的详细的说明。

[0215] 根据有关本实施方式的电子设备的制造方法，能够实现生产性的提高。

[0216] 以上说明了一些实施方式，但这些只是例示，并不是要限定本发明的范围。事实上，这里给出的实施方式能够以其他各种形式实施，而且在不脱离本发明的主旨的范围内能够对这里给出的实施方式的形式进行各种省略、替换和变更。权利要求书和其等价物涵盖这些落入本发明的范围和精神内的形式或变更。进而，上述实施方式可以相互组合并实施。