抓取机构

摘要

本发明是为了提供一种抓取机构，用以抓取一待抓取对象，该抓取机构包括:一夹持装置，以一横向夹持方式固持该待抓取对象；一施压装置，向下施压至一该待抓取对象之上端表面，该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持，该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合。

权利要求

1.一种抓取机构，其特征在于，用以抓取一待抓取对象，该抓取机构包括:

一夹持装置，以一横向夹持方式固持该待抓取对象，该夹持装置包括一对棒状臂部和多个爪部，该对臂部设于该些臂部之间的一间隙，该些臂部各自围绕一转杆转动，该转杆系为各该臂部其端部之外的一部分臂部，各该爪部系连接至该对臂部中之一对应臂部的一端部，该端部系靠近该待抓取对象，而该些爪部系紧靠接触该待抓取对象；

一卡合部，其系藉由插置至该对臂部之间的一插置部来切换该对臂部之一倾斜状态，该卡合部自相对靠近该待抓取对象的该臂部之端部延伸至该转杆；以及一施压装置，向下施压至一该待抓取对象之上端表面，该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持，该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合,以及依据该卡合部插置于该臂部之该插置部的一插置量，该卡合部使该对该臂部之该倾斜状态切换于一第一状态与一第二状态之间，该第一状态系连接至该对该臂部之该些爪部之间的间隙大于该待抓取对象之一宽度，而该第二状态系连接至该对臂部之该些爪部之间的间隙实质上等于该待抓取对象之该宽度，以及该抓取机构在该接收空间上解除该待抓取对象之一抓取操作，使得该施压装置向下推动该待抓取对象。

2.根据权利要求1所述的抓取机构，其特征在于，

该夹持装置包括只有三个爪部，该三个爪部中的两个爪部是连接该对臂部中的其中一个臂部,该三个爪部中的另外一个爪部是连接该对臂部中的另外一个臂部,该三个爪部之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持，一虚拟圆圈之一中心位置系位于该待抓取对象沿该垂直方向之该中心轴，该虚拟圆圈实质上系沿该三个爪部的一部分来形成，系紧靠接触该待抓取对象，且环绕该三个爪部。

3.根据权利要求1或2的抓取机构，其特征在于，其中一部分之该施压装置系紧靠接触该待抓取对象，等同于一部分之该待抓取对象紧靠接触该施压装置。

4.一种测定设备，用以分析一样本，该测定设备包括:

一输送装置，用以输送一待抓取对象；

根据权利要求1-3之任一的一抓取机构，该抓取机构系安装在该输送装置；

一检测部，用以检测连接至该抓取机构的该卡合部的一结合部之位移量，以检测该抓取机构的该对臂部之一倾斜状态；以及一控制部，用以依据该检测部之输出，测定该卡合部之插置量以及该些爪部相互之间的间隙是否在一预定状态，以阻止该输送装置的移动或执行差错控制，使得一讯息输出装置发出检测错误的指示讯息。

说明书

抓取机构

技术领域

[0001] 本发明涉及一种抓取机构。

背景技术

[0002] 测定设备和测定方法一般可从含有多种物质的样品(样本)中分离和鉴定作为测定对象的预定物质(以下称为目标物质)，并进行分析。作为用来实施此种测定的测定设备，提出一输送部来输送一反应容器，从一特定的容置位置输送到一目标位置。此外，该输送部包括一用以抓取该反应容器之抓取机构所构成。

[0003] 已知之抓取机构，如下所示。

[0004] 例如，专利申请1揭露一机构，其包括一固持件、一杆部、一杆固持部以及一导引部。固持件用以固持反应容器。杆部具有一端部，在反应容器之上端开口卡合于固持件。杆固持部则可弹性地支持杆部，以让杆部可滑动。导引部系围绕杆部，可藉由沿一轴向滑动杆部来解除与输送件之结合。此结构设计系让反应容器可藉由插置杆部至反应容器之上端开口来被抓取。之后，导引部会将反应容器压至杆部之插置处，以移除反应容器。

[0005] 此外，专利申请2揭露一包括一对抓取臂以及一凹槽的机构。此对抓取臂系以一横向夹持方式固持反应容器，且凹槽系形成于每一抓取臂并嵌套反应容器之颈部。这样的结构设计系减少此对抓取臂间之间隙以抓取反应容器，且嵌套反应容器之颈部。之后，反应容器会藉由增加此对抓取臂间之间隙来解除凹槽对反应容器的嵌套，进而被移除。

[0006] 先前技术:

[0007] 专利申请1:日本专利号JP2003-83992

[0008] 专利申请2:国际专利号WO2007/039524

发明内容

[0009] 本发明之目的系解决上述习知技艺之问题。

[0010] 本发明系提供一用以抓取一待抓取对象之抓取机构。该抓取机构包括:一夹持装置，以一横向夹持方式固持该待抓取对象；一施压装置，向下施压至一该待抓取对象之上端表面，该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持，该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合。

附图说明

[0011] 图1绘示本实施例之测定设备的上视图；

[0012] 图2是图1之A区域的放大示意图；

[0013] 图3绘示一组抓取机构周围之示意图，其中图3(a)绘示比色管T被固持于一夹持部的示意图，图3(b)绘示比色管T分离自夹持部的示意图；

[0014] 图4绘示一抓取机构周围的侧视图；

[0015] 图5绘示一组夹持部固持比色管的示意图，其中图5(a)是一上视图，图5(b)是一侧视图，而图5(c)是图5(b)于另一视角的侧视图；

[0016] 图6绘示一组抓取机构抓取比色管T时周围状态的示意图，其中图6(a)是一上视图，而图6(b)是一前剖视图；

[0017] 图7绘示一组抓取机构释放比色管T时周围状态的示意图，其中图7(a)是一上视图，而图7(b)是一前剖视图；

[0018] 图8绘示一组抓取机构封闭比色管T时周围状态的示意图，其中图8(a)是一上视图，而图8(b)是一前剖视图；

[0019] 图9是一抓取机构变化的前视图；及

[0020] 图10是一组抓取机构变化的上视图。

具体实施方式

[0021] 以下参照附图，详细说明该发明的之抓取机构的各实施方式。但是，本发明并未限定于这些实施方式。本实施例之该抓取机构可应用于任何领域。例如，在医疗领域中，本实施例之该抓取机构可适用于旨在从含有多种目标物质的样品中分离或鉴定所期望的物质并进行分析的自动免疫测定设备。以下实施方式中，会说明将本发明用于旨在利用对标识物质使用酶的EIA(Enzyme Immunoassay，酶免疫测定法)测定法分析血液等样品的自动免疫测定设备的情况。此外，此这种测定设备分为在测定后清洗反应容器以重复用于下一次测定的装置以及在测定后废弃一次性反应容器(以下称为比色管)的装置，本发明可适用于其中的任一种装置，但以下会说明将本发明用于后者的装置的情况。

[0022] (结构)

[0023] 首先，说明测定设备的整体构成。图1绘示本实施例之测定设备的上视图。在以下描述中，图1之X方向系对应测定设备之横向方向。图1之Y方向系对应测定设备之前后方向。图1之Z方向(一垂直图1纸面之方向)系对应测定设备之一上下方向。此外，在图1中，下文所述之壳体2系省略盖体部分，以简化附图。

[0024] 如图1所述，测定设备1是一自动免疫测定设备，其包括一测定机构3，其位于壳体2之一基底表面2a上。通过测定机构3将比色管依次输送到预定的多个位置，通过在这些位置分别进行各种预定操作来实施测定，并在测定后废弃比色管。另外，除了特别记载的构成以外，测定设备1可采用已知的自动免疫测定设备的构成。其中，比色管T即是对应权利要求中之“待抓取对象”。

[0025] 此外，测定机构3还包括一比色管供应部4，一注射头供应部5，一试剂保存部6，一样品保存部7，一基质保存部8，一比色管废弃部9，一第一比色管输送部10，一第二比色管输送部11，一样品输送部12，一第一试剂注入部13，一第二试剂注入部14以及一反应槽15。

[0026] 比色管供应部4是收容并配设未使用的多个比色管的收容排列装置，且例如，可构成为送料器。注射头供应部5是收容排列用来吸入样品的一次性注射头的注射头收容排列装置，例如是使用一注射头固定架来收容排列。试剂保存部6是在圆形排列状态下收容了多个装有试剂的容器(此处为磁性颗粒液瓶、标识体液瓶、预处理液瓶、检体稀释液瓶等，皆省略图示)的试剂收容装置，例如是使用一试剂冷却盒。样品保存部7是在圆形排列状态下收容了多个装有样品的容器的样品保存装置，例如是使用一已知的样品试剂冷却盒。基质保存部8是保存基质液之保存装置，例如是已知的基质液保存槽。比色管废弃部9是用以接收废弃比色管T的空间部，配置在被第二比色管输送部11输送之比色管T下方。比色管废弃部9系对应权利要求中之“接收空间”。

[0027] 第一比色管输送部10是将收容在比色管供应部4的比色管输送到下述反应槽15之第一反应线20的比色管输送装置。第二比色管输送部11是将比色管T从反应槽15之第一反应线20输送到下述第二反应线30的比色管输送装置，且输送比色管T从下述第二反应线30到比色管废弃部9。在第一比色管输送部10与第二比色管输送部11的配设中，第一比色管输送部10例如适配置在比色管供应部4与下述反应槽15附近。此外，第二比色管输送部11配置在下述反应槽15以及比色管废弃部9附近。第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11将于下文做详细说明。第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11系对应于权利要求之“输送装置”。

[0028] 样品输送部12系用以取得注射头供应部5之注射头的一样品输送装置，是经由吸取注射头供应部5的固定架来输送样品，并卸下所吸取的样品至配设在下述第一反应线20之比色管T。第一试剂注入部13是用以从一配设于试剂保存部6之容器注入一试剂至配设于下述第一反应线20之比色管T的试剂注入装置。第二试剂注入部14是用以自配设于试剂保存部6之一容器注入一试剂至配设于下述第二反应线30之比色管T的试剂注入装置。样品输送部12，第一试剂注入部13以及第二试剂注入部14可构成为使用步进马达等的已知的机械臂以及在使用步进马达等的已知的机械臂上组合着使用阀门的吸入机构。此外，第一试剂注入部13以及第二试剂注入部14系配设于试剂保存部6以及反应槽15附近。

[0029] 反应槽15是输送多个比色管T的输送线，在其内周设有第一反应线20，同时在其外周设有第二反应线30。第一反应线20以及第二反应线30的处理系依据目标物质的型式来变化。例如，第一反应线20是预处理如对样品进行稀释使样品与磁性颗粒反应的生产线。第二反应线30是将样品和磁性颗粒反应后的反应物与标识抗体进行反应的生产线，亦是检测标识抗体与基质的酶反应以及因化学发光从酶反应的生成物中产生的光的光量的生产线。第一反应线20以及第二反应线30形成互为同心圆状配置的圆环状体。在圆环状体上形成用来收容比色管的多个孔部，可使比色管T从上方自由装卸，能够藉由一使用脉冲马达等之已知的驱动装置(未绘于附图中)以相同或不同的输送速度(旋转速度)使圆环状体旋转。

[0030] 此外，第二反应线30包括有一集磁部31，一清洗液排出吸入部32，多个搅拌部(未绘于附图中)，以及一基质注入部(未绘于附图中)。集磁部31会应用外部磁体的磁力对比色管T的内部磁性颗粒进行集磁。清洗液排出吸入部32会通过阀门将供应自未图示的清洗液槽的清洗液排出到比色管T，并通过阀门吸入所排出的清洗液，从而清洗比色管T的内部的磁性颗粒。多个搅拌部在比色管T的中心轴周围通过马达使比色管自转，或者通过振动器使比色管振动，从而使比色管的内部的磁性颗粒分散。基质注入部会通过未绘于附图中之阀门供应自基质保存部8的基质液注入到比色管T中，并且会在注入基质液后，与搅拌部同样地搅拌比色管。此外，在磁性颗粒以及基质于第二反应线30相互反应一预定时间之后，比色管T会被输送至一安装在第二反应线30附近之一测定部33。测定部33由酶反应之生成测定化学发光产生之微量光，特别的是，使用一光电倍增管(photomultipliertube)计算光子量。

[0031] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明)

[0032] 于此，将依据本实施例对第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11做详细说明。图2是图1之A区域的放大示意图。图3绘示一组抓取机构周围之示意图。图3(a)绘示比色管T被固持于一夹持部50的示意图。图3(b)绘示比色管T分离自夹持部50的示意图。图4绘示一抓取机构周围的侧视图。图5绘示一组夹持部50固持比色管T的示意图。图5(a)是一上视图，图5(b)是一侧视图，而图5(c)是图5(b)于另一视角的侧视图。图5(a)-图5(c)中，系忽略施压部60之绘示以简化该附图。此外，第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11实质上系相同的结构。因此，仅第二比色管输送部11的结构将于下述说明。第二比色管输送部11例如是配置在一步使用步进马达等的已知的机械臂或是其他类似结构。此外，第二比色管输送部11的多种成分材质例如是是钢材或其他类似物。

[0033] 特别地，如图2至5(a)-5(c)所示，第二比色管输送部11包括一支持部40、夹持部50、施压部60、一卡合部70、一卡合驱动部80、一水平枢接驱动部(未绘于附图中)、一升降驱动部(未绘于附图中)以及检测部90a、90b。夹持部50、施压部60以及卡合部70对应权利要求中之“抓取机构”。

[0034] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明-支持部)[0035] 支持部40是用以支持夹持部50、施压部60、卡合部70以及卡合驱动部80之支持装置。支持部40是具有一实质纵向凹状截面形状的长板件。支持部40配置在壳体2其基底表面2a之基座40a。更特别的是，支持部40系连接到一转杆40b，转杆40b系贴附于具有螺纹结构或是其他类似结构之基座40a，使得支持部40在纵向方向上是大致水平的。

[0036] 此外，支持部40具有开口41a以及41b、转杆固定部42a以及42b、一卡合驱动部之固定部43以及一检测部之固定部44。

[0037] 该开口41是一通孔，穿过下述夹持部50之一臂部51a所贯穿的支持部40。开口41b是一通孔，穿过下述夹持部50之一臂部51b所贯穿支持部40。开口41a、41b系形成于支持部40之一纵向端，其系相对支持部40靠近基座40a之一端。更特别的是，在支持部40之一凹状底部上，开口41a、41b系沿一支持部40之横向方向实质并排配设。

[0038] 转杆固定部42a、42b系用以固定转杆53，以使转杆53可以转动，其中转杆53系用以支持下述夹持部50其臂部51a、51b。转杆固定部42a、42b系一般的柱状装置，且配设于支持部40之一纵向端，其系邻近支持部40靠近基座40a之一端。更特别的是，如图4所述，转杆固定部42a、42b系朝向支持部40之凹状底部往下凸出，且实质上沿支持部40之纵向方向并列地相互远离。转杆固定部42a、42b具有多个开口42c，以供下述夹持部50之臂部51a、51b其各自的转杆53插置。

[0039] 卡合驱动部之固定部43用以固定卡合驱动部80之装置。卡合驱动部之固定部43实质上是一板件。此外，卡合驱动部之固定部43是位在支持部40之一侧，其系邻近基座40a。更特别的是，卡合驱动部之固定部43实质上沿支持部40之横向方向相对支持部40之该凹状底部向上凸出。卡合驱动部之固定部43具有一开口43a，系供卡合驱动部80插置。

[0040] 检测部之固定部44是用以固定检测部90a、90b之装置。检测部之固定部44实质上是一板件。此外，检测部之固定部44是位于卡合驱动部之固定部43以及转杆固定部42a、42b之间。更特别的是，检测部之固定部44实质上沿支持部40之纵向方向相对支持部40之凹状底部向上凸出。

[0041] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明-夹持部)[0042] 夹持部50系包括多个以一横向夹持的方式来固持比色管之夹持装置。夹持部50例如是由树脂材料形成，且邻近支持部40之一纵向端，其系相对邻近基座40a之支持部40之一端。此外，夹持部50包括臂部51a、51b与爪部52a至52c(如臂部51a、51b不必相互区分，臂部51a、51b即称为“臂部51”，如爪部52a至52c不必相互区分，爪部52a至52c即称为“爪部52”)。
夹持部50可以使用任何形成方法。例如，臂部51a以及爪部52a可以相互整合，臂部51b以及爪部52b、52c亦可以相互整合。

[0043] 臂部51a、51b实质上可以是棒状装置，且分别穿过支持部40之开口41a、41b。如图4所述，一开口55是会形成于臂部51a、51b，且臂部51a、51b会透过转杆53插置于开口55来旋转地连接支持部40之转杆固定部42a、42b。在此实施例中，此开口之位置系可选择性地形成。例如，开口55可形成于臂部51a、51b之上部。然而，在本实施例中，开口55实质上是形成在各臂部51a、51b的中心位置，以供卡合部70插置至位于臂部51a、51b上部之开口55，进而控制臂部51a、51b之倾斜状况。

[0044] 此外，每一臂部51a、51b具有一第一偏压部54。当比色管T远离夹持部50时，第一偏压部54并不会偏压臂部51a(或臂部51b)(如图3(b)所示)。当比色管T被夹持部50以一夹持方式固持时，第一偏压部54朝向臂部51b偏压臂部51a(或朝向臂部51a偏压臂部51b)(例如图3(a)所示)。第一偏压部54例如具有一弹性件(例如一螺旋弹簧)(此亦可应用于下述施压部60之一第二偏压部63以及一下述结合部7之一第三偏压部74。此外，第一偏压部54是位于支持部40以及臂部51a之间(或位于支持部40以及臂部51b之间)，且被固定至具有一夹具或类似对象之支持部40以及臂部51a(或支持部40以及臂部51b))。

[0045] 爪部52a至52c系用以紧靠接触比色管T。爪部52a至52c实质上是由一板件来形成。爪部52a是连接至臂部51a之下端部。爪部52b、52c是连接臂部51b之一下端部。

[0046] 爪部52a至52c之配置系可选择性的。例如，爪部52a至52c可以较佳配置以使藉由紧靠接触比色管T来确认比色管T的中心。特别的是，爪部52a至52c的配设让比色管T系被夹持部50以一夹持方式固持，虚拟圆圈之一中心位置是位在比色管T中沿着Z方向的中心轴，虚拟圆圈实质上是沿每一爪部52a至52c的部分紧靠接触比色管T，且环绕如图5(a)-5(c)之爪部52a至52c。换言之，一虚拟圆圈是设定来与比色管T在Z方向的中心轴同心，且爪部52a至52c之三个设置点系与虚拟圆圈之外周紧靠接触，且彼此相距一间隔。此外，爪部52a至52c之形状系具可选择性的。例如，爪部52a至52c之顶部形状实质上是在虚拟圆圈之外周延伸之圆弧，且形状上近似一勾状，以便如图3(a)以及3(b)所示来固持比色管T之颈部。

[0047] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明-施压部)[0048] 施压部60是用以对被夹持部50以一夹持方式夹持之比色管T的上端表面向下施压的施压装置。施压部60是位于夹持部50之臂部51a、51b之间，且包括一顶部61、一导引部62以及一第二偏压部63。

[0049] 顶部61是紧靠接触比色管T之上端表面的装置。顶部61是一个大致为圆柱形的装置，且例如是一树脂材料。此外，顶部61之中心轴是实质上沿Z方向延伸。在此实施例中，顶部61之形状是具可选择性的。例如，顶部61之外缘形状与比色管T之一上端表面的外缘形状相似，以降低来自比色管T之施压。顶部61系对应该权利要求中之一“部分该施压装置系紧靠接触该待抓取对象”。此外，比色管T之上端表面系对应该权利要求中一“部分该待抓取对象紧靠接触该施压装置。

[0050] 导引部62是实质上沿Z方向导引顶部61之导引装置。导引部62实质上是一长杆状装置，且插置于顶部61，而导引部62之一纵向方向实质上是沿Z方向延伸。导引部62其上端部是固定至具有夹具或类似对象之支持部40。另一方面，一檔止部64是设于导引部62之下端部以防止顶部61自导引部62掉落。

[0051] 第二偏压部63是用以向下偏压顶部61之偏压装置。第二偏压部63是与导引部62同心配置，进而环绕导引部62之外缘。

[0052] 上述施压部60之配设是具可选择性的。例如，施压部60可进行较佳的配置，以使比色管T在抓取方向上较为稳定。特别的是，施压部60之设置，同比色管T，被以一夹持方式被夹持部50夹持，比色管T在Z方向之的中心轴系同施压部60在Z方向之中心轴(特别的是，同顶部61在Z方向之中心轴、导引部62在Z方向之中心轴与第二偏压部63在Z方向之中心轴)。

[0053] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明-卡合部)[0054] 卡合部70可藉由被插置到臂部51a、51b之间的部分来切换臂部51a、51b之倾斜状态，臂部51a、51b之间的部分系包括自臂部51a、51b靠近比色管T之端部延伸到转杆53的部分(以下称作臂部51a、51b之插置部)。卡合部70实质上是一长板件。此外，卡合部70是位在臂部51a、51b其上端部附近。更特别的是，配置于卡合部70之纵向方向之卡合部70实质上是沿支持部40之纵向方向延伸，且卡合部70之侧面实质上是水平延伸。

[0055] 在这方面，卡合部70的形状是可使臂部51a、51b之倾斜状态被切换，例如是依据卡合部70于臂部51a、51b之插置部的插置量。特别的是，靠近臂部51a、51b之卡合部70的一端部是具锐角形状，以使臂部51a、51b其上端部之间的间隙随着卡合部70之插置量来增加。在这方面，因为臂部51a、51b在纵向方向以其中心藉由上述转杆53来旋转地支持，臂部51a、51b其上端部之间的间隙在相对方向上改变会使位在臂部51a、51b下部之爪部52间的间隙改变。换言之，增加卡合部70之插置量会减少爪部52间之间隙，而减少卡合部70之插置量则会增加爪部52之间的间隙。因此，爪部52之间的间隙可依据卡合部70之插置量被调整。

[0056] 在此实施例中，针对卡合部70之宽度说明，例如，卡合部70之最小宽度可被设定来使受臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙大于比色管T之宽度。此外，卡合部70之最大宽度可设定为一数值来使受臂部51a、51b支持之爪部52之间的间隙小于比色管T之宽度。此外，介于卡合部70之最小宽度以及最大宽度之间的中间宽度可被设定为受臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙，其实质上等于比色管T之宽度。臂部51a、51b之形状是具可选择性的。例如，针对每一臂部51a、51b的端部表面，此端部表面紧靠接触卡合部70的一部分是是倾斜状，以方便卡合部70可插置至臂部51a、51b。

[0057] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明-卡合驱动部、水平枢接驱动部以及升降驱动部)

[0058] 卡合驱动部80是卡合驱动装置，其系经由结合部71来调整插置到夹持部50其臂部51a、51b之插置部的卡合部70之插置量。卡合驱动部80系具有已知电磁阀或类似对象。此外，卡合驱动部80是靠近支持部40之基座40a。更特别的是，卡合驱动部80之配置可让卡合驱动部80插置至卡合驱动部之固定部43的开口43a。卡合驱动部80是固定至具有螺纹结构或类似结构的卡合驱动部之固定部43。水平枢接驱动部以及升降驱动部系配置于上述卡合驱动部80附近。水平枢接驱动部枢接支持部40，而围绕转杆40b。升降驱动部经由转杆40b提升和降低支持部40。水平枢接驱动部以及升降驱动部例如具有已知之马达。

[0059] 此外，卡合驱动部80是具有结合部71以及一轨道部72。

[0060] 结合部71具有一长板件，且实质上沿支持部40之纵向方向配置。结合部71之一纵向端是连接至卡合部70。结合部71之另一纵向端是连接至卡合驱动部80。此外，结合部71具有一第三偏压部74。第三偏压部74是提供偏压之偏压装置，在下述默认状态，结合部71使得卡合部70是插置至臂部51a、51b之插置部。特别的是，第三偏压部74之一纵向端是固定至自结合部71突出之一突出部71a。第三偏压部74之另一纵向端是固定至支持部40之一偏压部之固定部45。第三偏压部74以此方向偏压卡合部70，其中卡合部70是插置于臂部51a、51b之间。因此，如测定设备1因停电而断电时，抓取机构会抓取比色管T防止比色管T掉落。

[0061] 轨道部72是一具有纵向凹状截面形状之长形装置，且固定至支持部40之凹状底部。在这方面，轨道部72会沿此结合部71与一滑块73被固定至结合部71之一下表面，且此滑块73会沿轨道部72滑动，结合部71系沿支持部40之纵向方向移动。轨道部72具有一轴承(未绘于附图中)，让滑块73之滑动更为顺畅。

[0062] (结构-第一比色管输送部以及第二比色管输送部之详细说明-检测部)[0063] 检测部90a、90b是用以检测结合部71之位移量的检测装置，以检测夹持部50其臂部51a、51b之倾斜状态。检测部90a、90b系配设于结合部71附近，且固定至检测部之固定部44。

[0064] 此外，检测部90a、90b具有已知之距离传感器(例如，光学距离量测传感器)。更特别的是，检测部90a、90b系配设有具U形侧表面之叉形传感器。配置于每一检测部90a、90b内之光学装置(未绘于附图中)其光学路径会被一在结合部71朝上立起之遮光板91遮挡，以使结合部71之位置可被检测出。亦即，检测部90a对遮光板91之检测状态以及检测部90b对遮光板之检测状态可作为一组合，例如形成下述三个检测状态。第一检测状态是检测部90a检测到遮光板91之状态(“检测部90a之检测为ON”)，而检测部90b没有检测到遮光板91(“检测部90b之检测为OFF”)。在第一检测状态，卡合部70是插置量是最小化，意指爪部52a以及爪部52b、52c之间的距离系最大化。第二检测状态检测部90a检测到遮光板91(“检测部90a之检测为ON”)之状态，而检测部90b亦检测到遮光板91(“检测部90b之检测为ON”)。在第二检测状态，卡合部70之插置量落于最小值以及最大值之间，意指爪部52a至52c相互之间的间隙落于最小值以及最大值之间。第三检测状态是检测部90a没有检测到遮光板91(“检测部90a之检测为OFF”)，而检测部90b检测到遮光板91(“检测部90b之检测为ON”)之状态。在第三检测状态，卡合部70之插置量是系最大化，意指爪部52a与爪部52b以及52c之间的距离系最小化。因此，测定设备1之一控制部(未绘于附图中)会对应依据检测部90a、90b之输出测定三个检测状态之现状，进而测定卡合部70之插置量以及爪部52a与爪部52b以及52c相互之间的间隙。

[0065] 这些测定的具体时序是具可选择性的，但此测定可取得每一时间点之抓取机构的位置变化。例如，当第二比色管输送部11自第二反应线30传送比色管T至比色管废弃部9时，测定设备1之控制部(未绘于附图中)在下述时序做出测定。首先，当抓取机构降低至预定的位置时进行测定，以便抓取容置在第二反应线30之孔部之比色管T。然后，当抓取机构提升至一预定的位置时进行测定，以便提高所抓取之比色管T。然后，当抓取机构移动至比色管废弃部9时进行测定，以便传送比色管T至比色管废弃部9。最后，在比色管T置于比色管废弃部9之后，且当抓取机构移动至一预定的位置时进行测定，以便回复抓取机构。另外，即使在进行这些操作时，比色管T在被夹取或释放之后仍会立刻做出测定。

[0066] 在每一时间下会做出对应之测定，测定设备1之控制部(未绘于附图中)会测定卡合部70之插置量以及爪部52a与爪部52b以及52c相互之间的间隙是否在预定状态。当插置量以及相互之间的间隙未在预定状态，控制部会执行的错误控制。因此，测定设备1之保存部(未绘于附图中)会预保存一测定表在抓取机构中，其系关联在对应位置之预定状态(上述三个状态其中之一)。每当抓取机构之位置改变，控制部会测定自检测部90a、90b输出之状态是否符合保存在测定表之关于位置改变之一预定状态。当测定状态符合预定状态，控制部会测定卡合部70之插置量以及爪部52a与爪部52b以及52c相互之间的间隙系处于正常状态，且继续控制而没有任何变化。另一方面，当测定状态没有符合预定状态，控制部会测定卡合部70之插置量以及爪部52a与爪部52b以及52c相互之间的间隙处于异常状态状态，且执行预定的差错控制。差错控制之具体内容是具可选择性的。例如，比色管T可能无法正常输送，导致不稳定之比色管T抓取状态，或是比色管T可能在输送路径中掉落。因此，第一比色管输送部10(或第二比色管输送部11)之操作会停止或由测定设备之讯息输出装置(未绘于附图中)发出检测错误的指示讯息(讯息输出装置例如是显示器之输出装置或是扬声器之声音讯息输出装置)。

[0067] (该第一比色管输送部以及第二比色管输送部之操作)

[0068] 于此，第一比色管输送部10以及第二比色管输送部11之操作如上所述。图6绘示一组抓取机构抓取比色管T时周围状态的示意图。图6(a)是一上视图，而图6(b)是一前剖视图。图7绘示一组抓取机构释放比色管T时周围状态的示意图。图7(a)是一上视图，而图7(b)是一前剖视图。图8绘示一组抓取机构封闭比色管T时周围状态的示意图。图8(a)是一上视图，而图8(b)是一前剖视图。第一比色管输送部10之操作实质上与第二比色管输送部11之操作相同。因此，仅第二比色管输送部11之操作将于下述说明。此外，用以操作第二比色管输送部11之方法是具可选择性的。例如，经由使用者在未绘于附图中之输入设备输入一预定的开始指令，测定设备之控制部会执行一安装在测定设备1之保存部的量测程序来自动地操作第二比色管输送部11。

[0069] 此外，第二比色管输送部11之操作可分为两个操作，一是抓取比色管T之抓取操作，另一是解除第二比色管输送部11抓取比色管T之释放操作(特别是在抓取机构)。在这方面，第二比色管输送部11执行之“抓取操作”例如对应，容置在反应槽15其第一反应线20之孔部之比色管T自第一反应线20输送至第二反应线30之抓取操作以及容置在第二反应线30之孔部之比色管T自第二反应线30输送至比色管废弃部9之抓取操作。此外，第二比色管输送部11执行之“释放操作”例如对应，比色管T自第一反应线20输送至第二反应线30而在第二反应线30解除第二比色管输送部11之抓取比色管T的作业以及比色管T自第二反应线30输送至比色管废弃部9而在比色管废弃部9解除第二比色管输送部11之抓取比色管T的作业。

[0070] 此外，抓取机构在第二比色管输送部11之“抓取操作”或“释放操作”包括三个状态，一是比色管T被抓取之状态，一是比色管T被释放之状态，一是比色管T封闭之状态”。在这方面，比色管T被抓取机构抓取系如图6(a)与6(b)所示之状态。比色管T被抓取机构释放系如图7(a)与7(b)所示之状态，此状态是抓取机构没有抓取比色管T，且被夹持部50之臂部51a、51b所支持之爪部52系相分离，而非比色管T被抓取之状态。比色管T被封闭系如图8(a)与8(b)所示之状态，此状态是抓取机构没有抓取比色管T，且被夹持部50之臂部51a、51b所支持之爪部52系相互靠近，而非比色管T被抓取之状态。如果测定设备1于抓取机构抓取比色管T时停电或发生类似事件而电源关闭，比色管T之封闭状态可以维持，以防止比色管T掉落。因此，在本实施例中，比色管T之封闭状态是一抓取机构之预设状态。

[0071] “预设状态”例如是“抓取操作”之一初始状态与“释放操作”之完成状态。此外，在一特定状态，卡合部70是插置于臂部51a、51b之插置部以使卡合部70进入插置部的插置量最大化，如图8(a)与8(b)所示。此外，臂部51a、51b系倾斜以使被臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙小于比色管T之宽度(在此实施例中，第一偏压部54施加一偏压力)。另外，顶部61是紧靠接触导引部62之檔止部64。

[0072] (第一比色管输送部以及第二比色管输送部之操作-抓取操作)

[0073] 首先，此抓取操作包括将说明之第二比色管输送部11的操作。

[0074] 首先，若比色管T例如是自第二反应线30传送至比色管废弃部9，之后容置在第二反应线30之孔部的比色管T被抓取，测定设备1之控制部即使用水平枢接驱动部来朝向第二反应线30枢接第二比色管输送部11。

[0075] 然后，测定设备1之控制部执行控制来调动抓取机构之状态，抓取机构之状态系从预设状态调动至比色管T被释放之状态。特别的是，测定设备1之控制部使用卡合驱动部80来移动卡合部70，直到遮光板91之遮光作业仅被检测部90a检测出(换言之，卡合部70插置到臂部51a、51b之插置部的插置量是最小的)。

[0076] 因此，如图7(a)与7(b)所示，臂部51a、51b系倾斜以使被臂部51a、51b支持之爪部52之间的间隙大于比色管T之宽度(此倾斜状态是下文所称之“第一状态”。在此实施例中，第一偏压部54无施加偏压力)。此外，顶部61是保持与檔止部64紧靠接触。亦即，抓取机构是在抓取机构已释放比色管T之状态。

[0077] 然后，测定设备1之控制部使用升降驱动部来降低第二比色管输送部11至一位置，此位置是容置在第二反应线之一可被抓取的预定比色管T。在这方面，“可被抓取的预定比色管T的位置”系指顶部61沿导引部62向上移动而紧靠接触比色管T之上端表面且施压部60之第二偏压部63向下偏压比色管T之位置。

[0078] 实质上，测定设备1之控制部执行控制来调动抓取机构之状态，系自比色管T被释放之状态调动至比色管T被抓取之状态。特别的是，测定设备1之控制部使用卡合驱动部80来移动卡合部70，直到遮光板91之遮光作业被检测部90a、90b检测出(换言之，卡合部70插置臂部51a、51b之插置部的插置量落于最小值以及最大值之间)。

[0079] 因此，如图6(a)与6(b)所示，臂部51a、51b系倾斜以使被臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙实质上等于比色管T之宽度(此倾斜状态是下文所称之“第二状态”。在此实施例中，第一偏压部54系施加一偏压力)。此外，由于第二偏压部63之偏压力，顶部61向下压于被夹持于臂部51a、51b之间的比色管T其上端表面。亦即，该抓取机构于此状态是抓取比色管T。在此实施例中，比色管T之沿Z方向之中心轴与施压部60之沿Z方向之中心轴重合，让比色管T在抓取方向上能有效地稳定。此外，环绕爪部52a至52c之虚拟圆圈的中心位置系位于比色管T沿Z方向之中心轴，而因此爪部52a至52c会紧靠接触比色管T而来确认比色管T的中心。另外，顶部61之形状是相似比色管T上端表面之形状，以在比色管T被施压时抑制偏心。

[0080] 然后，测定设备1之控制部系使用升降驱动部来提升第二比色管输送部11至一让比色管T可自第二反应线30被输送的位置。在这方面，“让比色管T可自第二反应线30被输送的位置”意指位于第二反应线30上之比色管T其下端部的位置。因此，第二比色管输送部11之抓取操作完成。

[0081] (第一比色管输送部以及第二比色管输送部之操作-释放操作)

[0082] 于此，释放操作包括下述将说明之第二比色管输送部11之操作。

[0083] 首先，比色管T例如是自第二反应线30输送至比色管废弃部9，之后

[0084] 第二比色管输送部11之比色管T抓取于比色管废弃部9被解除，测定设备1之控制部会使用该水平枢接驱动部来朝向比色管废弃部9枢接第二比色管输送部11。

[0085] 然后，测定设备1之控制部执行控制来调动抓取机构之状态，由比色管T被抓取之状态至比色管T被释放之状态。特别的是，测定设备1之控制部会使用卡合驱动部80来移动卡合部70，直到遮光板91之遮光作业仅被检测部90a检测出。

[0086] 因此，如图7(a)与7(b)所示，臂部51a、51b如第一状态系呈现倾斜。此外，随着臂部51a、51b之倾斜，因第二偏压部63之偏压力，顶部61向下移动至一位置，此位置系顶部61与檔止部64紧靠接触之位置。亦即，抓取机构是在已释放比色管T之状态。在此实施例中，第二比色管输送部11在比色管废弃部9上所执行之释放操作使得顶部61受到第二偏压部63之偏压力而向下推动比色管T。因此，第二比色管输送部11所抓取之比色管T可轻易地被释放。

[0087] 然后，测定设备1之控制部执行控制来调动抓取机构之状态由比色管T被释放之状态至预设状态。特别的是，测定设备1之控制部使用卡合驱动部80来移动卡合部70，直到遮光板91之遮光作业仅被检测部90b检测出(换言之，卡合部70插置至臂部51a、51b之插置部的插置量系最大)。

[0088] 因此，如图8(a)与8(b)所示，臂部51a、51b系倾斜以使被臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙小于比色管T之宽度。此外，顶部61系持续紧靠接触檔止部64。亦即，该抓取机构系在预设状态。然后，第二比色管输送部11之释放操作完成。

[0089] (功效)

[0090] 如上所述，本实施例包括以一横向夹持方式固持比色管T之夹持部50以及向下施压于比色管T其上端表面之施压部60，其中比色管T是以一夹持方式被夹持部50固持。此防止夹持部50以及施压部60进入比色管T内，抑制在比色管T内发生静电和污染情形。此外，可如夹持部50以一夹持方式固持比色管T一样来配设施压部60，比色管T之沿Z方向之中心轴重合施压部60之沿Z方向之中心轴。因此，比色管T在抓取方向上系可有效地来稳定，使第一比色管输送部10(或第二比色管输送部11)适当地输送比色管T。

[0091] 此外，可如夹持部50以一夹持方式固持比色管T一样来配设爪部52a至52c，虚拟圆圈之中心位置位于比色管T之沿Z方向之中心轴，虚拟圆圈之形成实质上系沿夹持部之每一爪部52a至52c的部分来紧靠接触比色管T，且环绕爪部52a至52c。因此，爪部52a至52c紧靠接触比色管T来确认比色管T的中心，进而让比色管T在抓取方向上更加稳定。

[0092] 此外，施压部60其顶部61之形状可相似比色管T其上端表面之形状，以在比色管T被施压时抑制偏心，进而让比色管T在抓取方向上更加稳定。

[0093] 另外，第一比色管输送部10(或第二比色管输送部11)于比色管T上所执行之释放操作使得顶部61受第二偏压部63之偏压力向下推动比色管T。因此，第一比色管输送部10所抓取之比色管T可轻易地被释放。

[0094] 此外，依据卡合部70插置于臂部51a、51b之插置部的插置量，卡合部70会使臂部51a、51b之倾斜状态切换于第一状态与第二状态之间，其中第一状态系被臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙大于比色管T之宽度的状态，第二状态系被臂部51a、51b支持之爪部52间的间隙实质上等于比色管T之宽度的状态。因此，用以切换臂部51a、51b其倾斜状态之切换装置可以以一简单构造来制造，进而改善抓取机构之制作。此外，臂部51a、51b实质上系相对比色管T在该Y方向之中心轴上对称地倾斜。因此，例如，比色管T在抓取方向上系更加稳定。

[0095] [实施例之变化]

[0096] 依据本发明之实施例系已描述。本发明之特定结构与手段可在本发明权利要求其该技术概念之下选择性地变化与改进。这些变化如下所述。

[0097] (要解决的问题和发明的功效)

[0098] 首先，要解决的问题和发明的功效不限于上述内容。本发明可解决未于上述提及的问题且可产生未于上述提及之功效。此外，于部分案例中，仅可解决部分问题，且仅产生部分功效。例如，即使不易如夹持部50以一夹持方式固持比色管T一样来配设施压部60，可应用其他适当技术来让施压部60之配置可实现比色管T在Z方向之中心轴系重合施压部60之Z方向之中心轴，而本发明即可解决该些问题。

[0099] (待抓取物件)

[0100] 在上述实施例中，待抓取对象是一管状容器，例如是比色管T。然而，本发明对此并不作限制。例如，该待抓取对象可以是一碟状容器，如培养皿。

[0101] (支持部之结构)

[0102] 在上述实施例中，基于安全的输送过程，支持部40之纵向方向是水平方向(换言之，支持部40是位在平面上)。然而，本发明对此并不作限制。例如，支持部40亦可在支持部40之纵向方向，系垂直方向(换言之，支持部40系笔直配置)。

[0103] (臂部之数量)

[0104] 在上述实施例中，夹持部50是具有二臂部51。然而，本发明对此并不作限制。例如，夹持部50可具有三个或更多臂部51。

[0105] (臂部之结构)

[0106] 在上述实施例中，臂部51系具有第一偏压部54。然而，本发明对此并不作限制。例如，臂部51可具有一已知之电磁阀，而不是第一偏压部54。

[0107] (爪部之数量)

[0108] 在上述实施例中，夹持部50是具有三个爪部52。然而，本发明对此并不作限制。例如，夹持部50可具有二个爪部52或四个或更多爪部52。

[0109] (第一偏压部)

[0110] 在上述实施例中，第一偏压部54是位于支持部40以及臂部51a之间(或是位于支持部40以及臂部51b之间)。然而，在不设置第一偏压部54时，另一个近似之装置可以设置。特别的是，一偏压部可被设置在臂部51a其上端部以及臂部51b其上端部之间以在这两个上端部相互接近之一方向偏压这两个上端部。另外，一偏压部亦可被设置在爪部52a以及爪部52b(或爪部52c)之间，且位于爪部52a以及爪部52b(或爪部52c)相互接近之一方向上。

[0111] (施压部)

[0112] 在上述实施例中，施压部60系包括顶部61、导引部62以及第二偏压部63。然而，本发明对此并不作限制。例如，施压部60可包括一已知之电磁阀。

[0113] (顶部)

[0114] 在上述实施例中，顶部61之外缘形状实质上是相似比色管T其上端表面之外缘形状。然而，顶部61可具有其他外缘形状。例如，只要顶部61之外缘形状可使顶部61其外缘形状之中心轴是重合比色管T其上端表面之外缘形状的重心，由比色管T之施压所造成之偏心系可被抑制，即使当顶部61的外缘形状实质上不与比色管T其上端表面之外缘形状相似。中心轴重合比色管T其上端表面之外缘形状的重心之外缘形状例如包括多边形平面，如一般的椭圆形，三角形，和长方形，或交叉平面形状。

[0115] 此外，在上述实施例中，顶部61系为一圆柱装置。然而，顶部61可让比色管T更容易地且可靠地集中。特别的是，如图9所述，顶部61之内缘形状系小于比色管T之外缘形状，且顶部61之外缘形状是大于比色管T之外缘形状。此外，对顶部61之下端部表面来说，一部分之该下端部表面(特别的是，一部分之该下端部表面自顶部61外缘相对向比色管T外缘延伸)是倾斜地，使得下端部表面之外缘61a朝外且向下相对下端部表面之内缘凸出。此结构让比色管T之外缘可沿顶部61其外缘61a之倾斜朝向顶部61之中心来被导引，进而让比色管T被导引，而顶部61其下端部表面之外缘形状中心是位于比色管T之沿Z方向之中心轴的延伸。因此，比色管T可被更容易地且更可靠地被集中。

[0116] (该卡合部之形状)

[0117] 在上述实施例中，针对卡合部70之形状，靠近臂部51a、51b之卡合部70之端部系具有多个锐角，使得臂部51a、51b其上端部间的间隙增加，其系正比于卡合部70之插置量。然而，本发明对此并不作限制。例如，卡合部70之端部可具有多个锐角(特别的是，此端部可具有一锥面之形状)，如卡合部70之插置量如图10(a)所示增加，即使得臂部51a、51b其上端部间的间隙相较于图6(a)迅速增大。另外，卡合部70之端部可具有多个锐角(特别的是，此端部可具有一呈半圆形平面之形状)，如卡合部70之插置量如图10(b)所示增加，使得臂部51a、51b其上端部间的间隙相较于图6(a)所示逐渐增加。另外，如卡合部70之可以采用任何形状，系让臂部51a、51b其上端部间的间隙依所需之变化率来改变。此外，在上述实施例中，已描述卡合部70之插置量会随着结合部71朝向臂部51a、51b之推动而增加。然而，卡合部70之插置量亦会随着结合部71远离臂部51a、51b之方向拉出而增加。亦即，在平行图6(a)至图
8(a)之纸面的平面上，卡合部70系可相对臂部51a、51b而对称地配置。然后，当结合部71系以远离臂部51a、51b之方向拉出，卡合部70之插置量会增加，且当结合部71系以接近臂部
51a、51b之方向推动，卡合部70之插置量会降低。

[0118] (该卡合驱动部之结构)

[0119] 在上述实施例中，卡合驱动部80系具有已知电磁阀或类似对象。然而，本发明对此并不作限制。例如，卡合驱动部80可具有已知马达(一步进马达、一线性马达或类似对象)或任何其他已知驱动装置。

[0120] 特别的是，当卡合驱动部80具有已知马达，卡合部70其凸出程度可自动地藉由控制该马达的转动量来调整。此自动调整之特定逻辑是具可选择性的。例如，当卡合部70之插置量以及爪部52a与爪部52b以及52c相互之间的间隙并非依据检测部90a、90b之多个输出状态来测定，这些状态可以透过自动反馈卡合部70之插置量来建立。此时，卡合部70之插置量以及爪部52a与爪部52b以及52c相互间的间隙二者间之相对关系依据卡合部70之外缘形状变化(尤其是靠近臂部51a、51b之卡合部70其端部之形状)。因此，例如，用以识别相对关系之变化率数据可预保存在测定设备1之保存部，所以测定设备1之控制部可参照该变化率数据来控制卡合部70之插置量。

[0121] 上述习知技术具有下之改善空间:

[0122] 例如，专利申请1之机构有以下问题。当杆部插置于反应容器之上端开口时，杆部与反应容器之间的摩擦可能会诱使反应容器中会有静电产生，而使得例如是灰尘之异物混入反应容器中的样本。此外，当样品注入至反应容器，样品可能会因静电而无法下降至所述反应容器的底部，而附着在该反应容器的内上侧表面。此外，当附着有杂质之杆部被插置到反应容器中，杂质可能混入在反应容器中的样本(即发生污染)。这些问题都可能会影响反应容器中的样本之测定结果。

[0123] 此外，在专利申请2之机构中，仅该对抓取臂之每一抓取臂之凹槽是嵌套于该反应容器之颈部。因此，由此机构所抓取之反应容器其输送方向可能会不稳定(例如，反应容器可能会倾斜)。因此，例如当反应容器要被容置在位于输送目的之预定凹部时，反应容器可能难以被插置到预定凹部中。

[0124] 上述实施例系鉴于上述情况来提出一种抓取机构，其可抑制静电以及污染发生在待抓取对象上，例如反应容器中，同时上述实施例可使待抓取对象的输送方向稳定。

[0125] 为解决上述问题以达成上述目的，上述实施例系提出一用以抓取一待抓取对象之抓取机构，此抓取机构包括:一夹持装置，以一横向夹持方式固持该待抓取对象；一施压装置，向下施压至一该待抓取对象之上端表面，该待抓取对象系以一夹持方式被该夹持装置固持,其中该施压装置之设置同该待抓取对象被该夹持装置以一夹持方式固持，该待抓取对象之一中心轴系在一垂直方向与该施压装置之一中心轴在该垂直方向相互重合。

[0126] 依据该实施例，抓取机构包括以一夹持装置以及一施压装置，夹持装置系以横向夹持方式固持待抓取对象，施压装置系向下施压至被该夹持装置以一夹持方式固持之该待抓取对象其上端表面。此可防止夹持装置以及施压装置进入待抓取对象内，抑制在待抓取对象内发生静电和污染情形。此外，可如夹持装置以一夹持方式固持待抓取对象一样来配设施压装置，待抓取对象之沿Z方向之中心轴重合施压装置之沿Z方向之中心轴。因此，待抓取对象在抓取方向上系有效地稳定，让输送装置适当地输送待抓取对象。

[0127] 另一方面，本实施例提供一种抓取机构，其夹持装置包括至少三个爪部，系紧靠接触待抓取对象。该至少三个爪部之设置同待抓取对象被夹持装置以一夹持方式固持，一虚拟圆圈之一中心位置系位于待抓取对象沿垂直方向之中心轴，虚拟圆圈实质上系沿至少三个爪部的一部分来形成，系紧靠接触待抓取对象，且环绕该至少三个爪部。

[0128] 依据该实施例，爪部的配设让待抓取对象系被夹持装置以一夹持方式固持。虚拟圆圈之一中心位置是位在待抓取对象中沿着Z方向的中心轴，虚拟圆圈实质上是沿每一爪部的部分紧靠接触待抓取对象，且环绕爪部。因此，爪部可紧靠接触待抓取对象来确认待抓取对象的中心，进而让待抓取对象在抓取方向上更加稳定。

[0129] 另一方面，本实施例提供一种抓取机构，其中一部分之该施压装置系紧靠接触待抓取对象，等同于一部分之待抓取对象紧靠接触施压装置。

[0130] 依据该实施例，一部分之该施压装置系紧靠接触待抓取对象，等同于一部分之待抓取对象紧靠接触施压装置，其系让待抓取物件被施压时抑制偏心，进而让待抓取对象在抓取方向上更加稳定。

[0131] 另一方面，本实施例提供一种抓取机构，系安装在用以输送该待抓取对象之一输送装置，其中当一接收空间配置在被输送装置输送至一输送区之一部分的待抓取对象下方，且待抓取对象被抓取机构抓取，此接收空间接收自抓取机构掉落之待抓取对象；以及抓取机构在接收空间上解除待抓取对象之一抓取操作，使得施压装置向下推动待抓取对象。

[0132] 依据该实施例，抓取机构在接收空间上解除待抓取对象之一抓取操作，使得施压装置向下推动待抓取对象。因此，抓取机构所抓取待抓取对象可轻易地被释放。

[0133] 另一方面，本实施例提供一种抓取机构，其中该夹持装置包括:一对棒状臂部，设于该些臂部之间的一间隙，该些臂部各自围绕一转杆转动，该转杆系为各该臂部其端部之外的一部分臂部；以及多个爪部，各该爪部系连接至该对臂部中之一对应臂部的一端部，该端部系靠近该待抓取对象，而该些爪部系紧靠接触该待抓取对象,该抓取机构包括一卡合部，其系藉由插置至该对该臂部之间的一插置部来切换该对臂部之一倾斜状态，该卡合部自相对靠近该待抓取对象的该臂部之端部延伸至该转杆，以及依据该卡合部插置于该臂部之该插置部的一插置量，该卡合部使该对该臂部之该倾斜状态切换于一第一状态与一第二状态之间，该第一状态系连接至该对该臂部之该些爪部之间的间隙大于该待抓取对象之一宽度，而该第二状态系连接至该对臂部之该些爪部之间的间隙实质上等于该待抓取对象之该宽度。

[0134] 依据该实施例，系依据该卡合部插置于该臂部之该插置部的一插置量，该卡合部使该对该臂部之该倾斜状态切换于一第一状态与一第二状态之间，该第一状态系连接至该对该臂部之该些爪部之间的间隙大于该待抓取对象之一宽度，而该第二状态系连接至该对臂部之该些爪部之间的间隙实质上等于该待抓取对象之该宽度。因此，用以切换臂部其倾斜状态之切换装置可以以一简单构造来制造，进而改善抓取机构之制作。此外，臂部实质上系相对待抓取对象在该Y方向之中心轴上对称地倾斜。因此，例如，待抓取对象在抓取方向上系更加稳定。

[0135] 附图标记：

[0136] 1         测定设备

[0137] 2        Housing

[0138] 2a       基底表面

[0139] 3        测定机构

[0140] 4        比色管供应部

[0141] 5        注射头供应部

[0142] 6        试剂保存部

[0143] 7        样品保存部

[0144] 8        基质保存部

[0145] 9        比色管废弃部

[0146] 10       第一比色管输送部

[0147] 11       第二比色管输送部

[0148] 12       样品输送部

[0149] 13      第一试剂注入部

[0150] 14       第二试剂注入部

[0151] 15      反应槽

[0152] 20      第一反应线

[0153] 30        第二反应线

[0154] 31        集磁部

[0155] 32       清洗液排出吸入部

[0156] 33        测定部

[0157] 40       支持部

[0158] 40a      基座

[0159] 40b、53    转杆

[0160] 41a、41b，42c，43a、55  开口

[0161] 42a、42b    转杆固定部

[0162] 43      卡合驱动部之固定部

[0163] 44     检测部之固定部

[0164] 45     偏压section固定部

[0165] 50    夹持部

[0166] 51，51a、51b    臂部

[0167] 52，52a-52c    爪部

[0168] 54       第一偏压部

[0169] 60       施压部

[0170] 61      顶部

[0171] 61a      外缘

[0172] 62      导引部

[0173] 63        第二偏压部

[0174] 64       檔止部

[0175] 70        卡合部

[0176] 71       结合部

[0177] 71a      突出部

[0178] 72        轨道部

[0179] 73        滑块

[0180] 74        第三偏压部

[0181] 80        卡合驱动部

[0182] 90a、90b    检测部

[0183] 91        遮光板

[0184] T         比色管