凹槽底部抛光装置及方法

摘要

本发明提供了一种凹槽底部抛光装置及方法，所述凹槽底部抛光装置包括：清洁头部；和装在所述清洁头部上的抛光片，所述抛光片的宽度小于所述凹槽宽度。使用时，所述清洁头部置于所述凹槽内，且所述抛光片与所述凹槽的底部相接触，基于所述抛光片的宽度小于所述凹槽宽度，从而避免采用抛光片对凹槽底部进行抛光时，抛光片容易和凹槽侧壁发生磨擦而致使凹槽侧壁局部受损且被拓宽的问题，进而减少造成凹槽不同部位宽度差异的缺陷，并降低在密封条嵌入凹槽后凹槽局部宽度差异而导致的密封条各部位表面平整度的差异，进而减小了密封条以及出现局部脱落的概率。

权利要求

1.一种凹槽底部抛光装置，用于对凹槽底部进行抛光处理，其特征在于，包括：清洁头部，用于在抛光处理过程中置于所述凹槽内，所述清洁头部采用弹性材料制成；

装在所述清洁头部上的抛光片，所述抛光片的宽度小于或等于所述凹槽的宽度，用于对凹槽底部进行抛光。

2.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述清洁头部呈柱状结构，所述抛光片贴在所述柱状结构的侧壁。

3.如权利要求2所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述清洁头部为圆柱状或是立方柱状。

4.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述清洁头部的材料为棉花或是橡胶。

5.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述清洁头部的尺寸大于或等于所述凹槽尺寸，且能够嵌于所述凹槽内。

6.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述抛光片为砂纸。

7.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述凹槽为圆环形凹槽。

8.如权利要求1所述的凹槽底部抛光装置，其特征在于，所述抛光片为平整的平面；

或是沿着凹槽的宽度方向，所述抛光片与凹槽底部的接触面呈中间凸起的环形结构。

9.一种凹槽底部抛光的方法，其特征在于，包括：提供如权利要求1～8任一项权利要求所述的凹槽底部抛光装置；

将所述清洁头部嵌于所述凹槽内，且将使得所述抛光片表面与凹槽底部贴合的同时不与所述凹槽侧壁接触；

沿着所述凹槽延伸方向移动所述清洁头部，使得所述抛光片与凹槽底部产生摩擦，以对所述凹槽底部进行抛光。

说明书

凹槽底部抛光装置及方法

技术领域

[0001] 本发明涉及溅射靶材制造领域，尤其是涉及一种凹槽底部抛光装置及方法。

背景技术

[0002] 磁控溅射镀膜工艺中所使用的靶材组件由靶材和背板构成。使用过程中，将背板固定在溅射装置上，并以各种高能量离子轰击靶材正面，溅射出中性靶原子或分子，所述中性靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜。

[0003] 在磁控溅射镀膜过程中，磁控溅射镀膜工艺在10-9Pa的高真空环境下进行，且靶材处于高达300℃至500℃的高压电场和磁场中。为了避免靶材在高真空、高温条件下致使靶材的温度会急剧升高，在磁控溅射镀膜过程中，需要通过诸如向背板喷射高压冷却水等方法，以及时传导并迅速消散靶材的热量，以避免靶材变形、使用寿命减短以及影响基片镀膜质量等问题。

[0004] 为此，参考图1所示，在背板10的背面会设置一密封的凹槽11，并在凹槽11内安装密封条(图中未显示)。从而在使用时，将背板10安装在溅射装置后，密封条贴合在溅射装置上，实现背板10上凹槽11内部空间和凹槽11外围空间密封。进而避免向背板10凹槽11内中间部分喷射高压冷却水时，冷却水水由背板10背面淌入靶材，从而影响磁控溅射工艺进行。

[0005] 其中，在凹槽11形成过程中，在背板10背面开设凹槽11后，需要对凹槽11的底部采用砂纸抛光工艺，去除凹槽11底部凸起颗粒等缺陷，以提高凹槽11底面的平整度，从而提高密封条嵌入所述凹槽后的稳定性，以及密封条表面的平整度，以提高使用时密封条的密封性。

[0006] 然而，在实践过程中，在经凹槽11底部砂纸抛光工艺后，即使提高凹槽11底面的平整度，密封条嵌入凹槽11后，仍然会出现表面平整度缺陷，而且还会出现凹槽11中密封条局部脱落等缺陷。

[0007] 为此，如何提高密封条装入凹槽11后的稳定性，以提高密封条后续使用过程中的密封性，是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

[0008] 本发明解决的问题是提供一种凹槽底部抛光装置及方法，以提高密封条装入凹槽后的稳定性，进而提高密封条后续使用过程中的密封性。

[0009] 为解决上述问题，本发明提供一种凹槽底部抛光装置，用于对凹槽底部进行抛光处理，其包括：

[0010] 清洁头部，用于在抛光处理过程中置于所述凹槽内；

[0011] 装在所述清洁头部上的抛光片，所述抛光片的宽度小于或等于所述凹槽的宽度，用于对凹槽底部进行抛光。

[0012] 可选地，所述清洁头部呈柱状结构，所述抛光片贴在所述柱状结构的侧壁。

[0013] 可选地，所述抛光片为圆柱状或是立方柱状。

[0014] 可选地，所述清洁头部采用弹性材料制成。

[0015] 可选地，所述清洁头部的材料为棉花或是橡胶。

[0016] 可选地，所述清洁头部的尺寸大于或等于所述凹槽尺寸，且能够嵌于所述凹槽内。

[0017] 可选地，所述抛光片为砂纸。

[0018] 可选地，所述凹槽为圆环形凹槽。

[0019] 可选地，所述抛光片为平整的平面；

[0020] 或是沿着凹槽的宽度方向，所述抛光片与凹槽底部的接触面呈中间凸起的环形结构。

[0021] 本发明还提供了一种凹槽底部抛光的方法，包括：

[0022] 提供上述的凹槽底部抛光装置；

[0023] 将所述清洁头部嵌于所述凹槽内，且将使得所述抛光片表面与凹槽底部贴合的同时不与所述凹槽侧壁接触；

[0024] 沿着所述凹槽延伸方向移动所述清洁头部，使得所述抛光片与凹槽底部产生摩擦，以对所述凹槽底部进行抛光。

[0025] 与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

[0026] 抛光装置的清洁头部所安装的抛光片的宽度小于所述凹槽宽度，从而避免采用抛光片对凹槽底部进行抛光时，抛光片容易和凹槽侧壁发生磨擦而致使凹槽侧壁局部受损且被拓宽的问题，从而减少造成凹槽不同部位宽度差异的缺陷；并降低密封条嵌入凹槽后凹槽局部宽度差异而导致的密封条各部位表面平整度的差异，进而减小了密封条出现局部脱落的概率。

[0027] 进一步地，清洁头部采用弹性材料制成，且清洁头部的尺寸大于或等于所述凹槽尺寸，且能够嵌于所述凹槽内。使用时，所述清洁头部嵌入所述凹槽后，清洁头部两侧抵住凹槽侧壁，从而加强所述抛光片定位，避免抛光片与凹槽侧壁接触而造成凹槽侧壁损伤；同时加强抛光片定位的稳定性，便于使用者发力，提高了对抛光凹槽底部进行抛光的便捷性。

附图说明

[0028] 图1现有的靶材组件的背板背面的结构示意图；

[0029] 图2为本发明凹槽底部抛光装置一实施例的立体结构示意图；

[0030] 图3为图2中凹槽底部抛光装置一实施例的使用时结构示意图；

[0031] 图4为图2中的凹槽底部抛光装置的抛光片的结构示意图；

[0032] 图5为本发明凹槽底部抛光装置另一实施例的结构示意图；

[0033] 图6为图5中凹槽底部抛光装置的抛光片的结构示意图。

具体实施方式

[0034] 如背景技术所述，现有在靶材组件的背板背面形成凹槽后，会对凹槽底部采用砂纸进行抛光处理，以提高凹槽底面平整度。但在密封条嵌入抛光处理的凹槽后，仍然会出现背板表面平整度不好的缺陷，甚至还会出现密封条局部脱落等缺陷。分析其原因：现有的砂纸抛光工艺中，在对凹槽底部进行抛光同时，砂纸同样会触碰到凹槽侧壁。砂纸对凹槽侧壁磨擦容易拓宽凹槽的宽度，从而致使凹槽侧壁各部分宽度不一。密封条嵌入凹槽后由于凹槽不同位置处宽度的差异，凹槽对密封条挤压力度不同，从而造成了密封条各部分表面平整度的差异，而且若凹槽局部宽度过大，对密封条挤压力度不够，容易致使密封条脱落。

[0035] 为此，本发明提供了一种凹槽底部抛光装置，以及采用所述抛光装置对于凹槽底部抛光的方法。所述抛光装置包括清洁头部，在所述清洁头部上装有抛光片，且所述抛光片的宽度小于所述凹槽宽度，从而避免采用抛光片对凹槽底部进行抛光时，抛光片容易和凹槽侧壁发生磨擦而致使凹槽侧壁局部受损且被拓宽的问题，从而减小造成凹槽不同位置宽度差异的缺陷，从而可以提高密封条装入凹槽后的稳定性，进而提高密封条后续使用过程中的密封性。

[0036] 为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。

[0037] 实施例1

[0038] 参考图2至图4，示意出了本发明凹槽底部抛光装置一实施例的示意图。

[0039] 参考图2，本实施例提供的凹槽底部抛光装置包括：清洁头部20，和装在清洁头部20上的抛光片21。

[0040] 参考图3，在对靶材背板背部的凹槽13底部14进行抛光过程中，清洁头部20嵌入凹槽13内，且使得所述抛光片21与凹槽13的底部14贴合，用以对所述凹槽13的底部14进行抛光处理，去除所述底部14的凸起颗粒等缺陷，提高凹槽13的底部14的平整度。

[0041] 本实施例中，所述清洁头部20为柱状结构，进一步可选地，所述清洁头部20为圆柱状结构，所述抛光片21贴附在圆柱状结构清洁头部20的侧壁上。

[0042] 在实际抛光过程中，垂直于凹槽13延伸方向的截面上，所述凹槽13的截面底部14可为沿所述凹槽13宽度方向呈中间下凹的弧形结构，所述清洁头部20的圆柱状结构，所述清洁头部20抛光时与所述凹槽13底部的形状相匹配，可以在抛光过程中使所述抛光片21可尽可能地完全覆盖所述凹槽13的底部14，以提高抛光效率。

[0043] 进一步可选地，本实施例中，所述清洁头部20的材料为弹性材料，从而避免所述清洁头部20与凹槽13接触时造成凹槽13损伤，同时还可增加所述清洁头部20移动灵活性。

[0044] 具体地，所述弹性材料可以是棉花或是橡胶等。

[0045] 可选的，所述清洁头部20的尺寸大于或等于所述凹槽13的尺寸，本实施例中，所述圆柱状的清洁头部的直径d1大于或等于所凹槽13的宽度d7，而且所述清洁头部20能够嵌于所述凹槽13内。

[0046] 在抛光过程中，所述清洁头部20嵌入所述凹槽13内，清洁头部20两侧抵住凹槽13的侧壁可以加强所述抛光片21定位，减少所述抛光片21的偏移，避免抛光片21与凹槽13侧壁接触而造成凹槽13侧壁损伤；而且，在加强抛光片21定位的同时提高抛光片21的移动稳定性，便于使用者发力，提高抛光凹槽底部的便捷性。

[0047] 此外，所述清洁头部20采用弹性材料制成，且尺寸大于或等于所述凹槽13的尺寸，从而可起到在对凹槽底部抛光的同时清洗所述凹槽13的侧壁的功效。

[0048] 结合参考图3和图4，本实施例中，所述抛光片21贴附在所述圆柱状的清洁头部20的侧壁，所述抛光片21的结构与所述圆柱状清洁头部结构相匹配。

[0049] 所述抛光片21的具体结构包括：所述抛光片21为矩形结构，且长度方向平行于圆柱状清洁头部21的轴向，所述抛光片21与所述清洁头部20的贴合面沿所述抛光片21的宽度方向(即凹槽13的宽度方向)呈中间下凹的圆弧形结构，从而提高所述抛光条21贴附在清洁头的侧壁上的稳定性；而所述抛光片21与所述凹槽13底部14的接触面呈中间凸起的环形结构，使得所述抛光片21尽可能与所述凹槽13的底部14贴合，提高抛光效果。

[0050] 本实施例中，抛光片21的宽度d3小于所述凹槽13的底部14的宽度d7，从而在抛光过程中，所述抛光片21贴合在所述凹槽13的底部14，同时避免所述抛光片21触及到凹槽13的侧壁，从而减少凹槽13侧壁的损伤，进而避免凹槽1侧壁被拓宽造成凹槽不同部位宽度差异的缺陷，提高了后续使用过程中，密封条装入凹槽13后的稳定性，进而提高密封条后续使用过程中的密封性。

[0051] 可选地，本实施例中，所述凹槽13的宽度d7与所述抛光片21的宽度d3的差值小于或等于0.5mm，即d7-d3≤0.5mm，从而避免抛光过程中所述抛光片21与凹槽13侧壁相接触而造成的凹槽13侧壁损伤，同时还可提高抛光片21覆盖所述凹槽13的底部14的面积，以提高抛光的效率。

[0052] 在靶材制备领域，背板背部的所述凹槽13多为首尾相接的圆环形结构，在对凹槽的底部进行抛光的过程中，清洁头部20的顶部容易触及所述凹槽的侧壁。本实施例中，所述清洁头部20的顶端未贴附抛光片而是仅贴附于所述清洁头部20的侧壁，这样可有效避免抛光过程中抛光片21触及凹槽13侧壁而造成凹槽13被扩宽的缺陷。为此，仅在所述清洁头部20的侧壁贴附所述抛光片21可有效提高抛光的安全性。

[0053] 可选地，本实施例中，所述抛光片21的长为4～6mm(即，所述抛光片沿所述清洁头部20的轴向上的长度)，从而在使用过程中，降低安装抛光片21的清洁头部20面积过大而增加清洁头部20移动难度的问题，还可以减小由此造成的抛光片21容易触及凹槽13侧壁造成缺陷的问题，从而提高抛光片21移动灵活性。

[0054] 具体地，所述抛光片21为砂纸。在所述砂纸表面设有磨砂颗粒，用于增加抛光片21与凹槽13的底部14的摩擦力，以提高抛光效率。当然所述抛光片21还可为其他的材料，只要能实现靶材底部抛光目的的材料均在本发明的保护范围内，且具体材料并不限定本发明的保护范围。

[0055] 值得注意的是，所述抛光装置还可包括与清洁头部20相连并固定在一起的手柄30手持等部件，抛光过程中，可通过手柄30将所述清洁头部20嵌入所述凹槽13中，方便操作。但是本发明对是否设置所述手柄30并不做限制。

[0056] 实施例2

[0057] 参考图5和图6所示，为本发明另一实施例凹槽底部抛光装置的结构示意图。

[0058] 本实施例的凹槽底部抛光装置与实施例1中的凹槽底部抛光装置技术方案的相同之处不再赘述，不同之处在于：

[0059] 本实施例中，所述清洁头部40为立方柱状，所述抛光片41贴附在所述立方柱状的一侧壁表面上，为平整的平面结构。且，所述抛光片41的宽度d5小于凹槽底面的宽度。

[0060] 本实施例中，所述清洁头部40的宽度d2大于凹槽的宽度，使得所述清洁头部嵌入凹槽后，所述清洁头部40的侧壁抵住凹槽侧壁，以加强抛光片41定位。

[0061] 本实施例中，贴附在立方柱状清洁头部40侧壁的所述抛光片41为平面结构，从而便于抛光底部为平面的凹槽。

[0062] 值得注意的是，除上述两个实施例提供的圆柱状以及立方柱状的清洁头部外，本发明的清洁头部还可为多边形立柱或是其他结构，所述清洁头部的结构并不限定本发明的保护范围。

[0063] 本发明还提供了一种以上述凹槽底部抛光装置对诸如靶材组件背板上的凹槽进行抛光的凹槽底部抛光的方法。

[0064] 所述凹槽底部抛光的方法包括：

[0065] 提供本发明所提供的凹槽底部抛光装置；

[0066] 将上述凹槽底部抛光装置的清洁头部嵌于凹槽内，且将使得清洁头部上的抛光片表面与凹槽底部贴合的同时不与所述凹槽侧壁接触；

[0067] 之后，沿着所述凹槽延伸方向移动所述清洁头，使得所述抛光片与凹槽底部产生摩擦，以对所述凹槽底部进行抛光。

[0068] 本实施例提供给的凹槽底部抛光的方法中，采用的抛光装置的清洁头部所安装的抛光片的宽度小于所述凹槽宽度，从而避免抛光时抛光片和凹槽侧壁发生磨擦而致使凹槽侧壁局部受损且被拓宽的问题，进而可以减少凹槽不同部位宽度差异的缺陷；并降低密封条嵌入凹槽后凹槽局部宽度差异而导致的密封条表面平整度的差异，这样可以降低及密封条出现局部脱落的概率，进而提高密封条装入凹槽后的稳定性，以及密封条后续使用过程中的密封性。

[0069] 虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。