掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法

摘要

本发明公开了一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，包括步骤：步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括分步骤：步骤11、在版图上对数据图形划分成多个区域块；步骤12、根据数据图形的各区域块中实际有无图形得到区域块的1位编码；步骤13、综合数据图形的各区域块的1位编码形成数据图形的编码值；步骤二、在版图中进行特征图形的查找，包括分步骤：步骤21、得到所要查找的特征图形的编码值；步骤22、将特征图形和版图中的各所述数据图形的编码值进行比较；步骤23、根据编码值比较结果确定版图中是否存在特征图形。本发明实现对版图中特征图形的查找自动化，避免版图中特征图形的遗漏，能减少人工检查工作量，提高工作效率。

权利要求

1.一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括如下分步骤：

步骤11、在版图上对所述数据图形划分成多个区域块；

步骤12、根据所述数据图形的各所述区域块中实际有无图形得到对应的所述区域块的

1位编码；

步骤13、综合所述数据图形的各所述区域块的1位编码形成对应的所述数据图形的编码值；

步骤二、在所述版图中进行特征图形的查找，包括如下分步骤：步骤21、采用步骤一的方法得到所要查找的所述特征图形的编码值；

步骤22、将所述特征图形的编码值和所述版图中的各所述数据图形的编码值进行比较；

步骤23、如果所述版图中存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则编码值相同的所述数据图形和所述特征图形相匹配；如果所述版图中不存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则所述版图中漏放了所述特征图形。

2.如权利要求1所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤一中所述数据图形通过对所述版图的数据进行数据区块划分得到。

3.如权利要求1所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤11中一个所述数据图形的各区域块组成二维排列结构。

4.如权利要求3所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤12中，当所述区域块中包括有图形时该区域块的1位编码值为1，当所述区域块中没有图形时该区域块的1位编码值为0。

5.如权利要求4所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤13中，所述数据图形的同一列的各行所述区域块的1位编码值按照权重相加形成的该列对应的十进制数，所述数据图形的各列所述对应的十进制数按照列的顺序进行1维排列形成所述数据图形的编码值。

6.如权利要求4所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤二在所述版图中进行特征图形的查找是通过软件方式自动实现。

7.如权利要求1所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：所述特征图形包括对准标记或测试图形。

8.如权利要求3所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤11中，所述数据图形的各列之间的各所述区域块通过等分形成。

9.如权利要求8所述的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于：步骤11中，所述数据图形的各行之间的各所述区域块通过等分形成。

说明书

掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种半导体集成电路制造工艺方法，特别是涉及一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法。

背景技术

[0002] 划片槽结构设计是在掩膜板设计业务中继产品设计数据输入检查之后，EB处理和掩膜版制作之前所进行的设计，其中EB处理为层演算生成用于掩膜版制作的数据。主要是根据掩膜版的尺寸规格按照芯片的尺寸进行切割线的版图排列设计，同时切割线上放置制品工程所需的各种光刻对准和测试用的图形，最后生成掩膜板制作前的最终版图数据。

[0003] 随着掩膜板设计业务中涉及到的工艺不断增多，检查划片槽数据中的对准测试标记是否放置完整以及满足放置要求等工作也随之变得更加复杂和易于出错。每一层光刻都需要其相应的对准图形(mark)，一个新的工艺通常会有共计上百个甚至几百个对准或测试图形，以0.13μm工艺为例：BOX MARK 44个，ROT MARK 8个，WAM 51个，LSA 15个，FIA 32个，PCM 65个，共计215个，其中BOX MARK是在一片硅片(Wafer)曝光完成之后用来检测曝光质量的测试图形，ROT MARK用于第一步光刻工程的对准标记，WAM是一种晶圆的对准标记，LSA是激光步对准标记，FIA是场成像对准标记，PCM是用于检测工艺所需各种特性参数的测试图形，都是半导体集成电路制造使用到的不同种类的对准或测试图形。

[0004] 如图1A所示，是掩膜版设计中特征图形放置错误的版图；版图101中放置有对准标记103，如虚线框102所示，该对准标记103的放置位置并不正确，使得延伸到器件单元区域中的对准标记103会和器件单元重叠。而如图1B所示，是掩膜版设计中特征图形放置正确的版图；虚线框103所示区域中，对准标记103的放置位置正确，对准标记103和器件单元不重叠。

[0005] 由于在掩膜版设计中对准标记或测试图形比较多，在掩膜板设计过程中，需要对一些mark进行定位，以便检查是否有漏放，原来主要依赖版图工具中的检索功能，查找mark的单元(cell)名称来核对是否放置了这些图形。然而，这种方法仅检测一些漏放的情形，当产生如图1A所示放置位置不正确时则无法实现判断，因为图1A中确实放置了对准标记103，通过对准标记103的名称对比能够发现在版图中放置了对准标记103；但是由于图1A中的对准标记103存在和其它器件单元交叠的情形，出现这种交叠情形时，对准标记103将不会再起作用，和漏放的效果一样，但是现有方法无法自动检查出这种情形；需要采用人工的方法检查，这显然会增加工作量，降低工作效率，且还会带来人工误差。

发明内容

[0006] 本发明所要解决的技术问题是提供一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，实现对版图中特征图形的查找自动化，避免版图中特征图形的遗漏。

[0007] 为解决上述技术问题，本发明提供的掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法包括如下步骤：

[0008] 步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括如下分步骤：

[0009] 步骤11、在版图上对所述数据图形划分成多个区域块。

[0010] 步骤12、根据所述数据图形的各所述区域块中实际有无图形得到对应的所述区域块的1位编码。

[0011] 步骤13、综合所述数据图形的各所述区域块的1位编码形成对应的所述数据图形的编码值。

[0012] 步骤二、在所述版图中进行特征图形的查找，包括如下分步骤：

[0013] 步骤21、采用步骤一的方法得到所要查找的所述特征图形的编码值。

[0014] 步骤22、将所述特征图形的编码值和所述版图中的各所述数据图形的编码值进行比较。

[0015] 步骤23、如果所述版图中存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则编码值相同的所述数据图形和所述特征图形相匹配；如果所述版图中不存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则所述版图中漏放了所述特征图形。

[0016] 进一步的改进是，步骤一中所述数据图形通过对所述版图的数据进行数据区块划分得到。

[0017] 进一步的改进是，步骤11中一个所述数据图形的各区域块组成二维排列结构。

[0018] 进一步的改进是，步骤12中，当所述区域块中包括有图形时该区域块的1位编码值为1，当所述区域块中没有图形时该区域块的1位编码值为0。

[0019] 进一步的改进是，步骤13中，所述数据图形的同一列的各行所述区域块的1位编码值按照权重相加形成的该列对应的十进制数，所述数据图形的各列所述对应的十进制数按照列的顺序进行1维排列形成所述数据图形的编码值。

[0020] 进一步的改进是，步骤二在所述版图中进行特征图形的查找是通过软件方式自动实现。

[0021] 进一步的改进是，所述特征图形包括对准标记或测试图形。

[0022] 进一步的改进是，步骤11中，所述数据图形的各列之间的各所述区域块通过等分形成。

[0023] 进一步的改进是，步骤11中，所述数据图形的各行之间的各所述区域块通过等分形成。

[0024] 本发明通过对版图中的数据图形进行区域块的划分并编码，从而实现了仅通过对编码值的比较就能在版图中进行自动、快速的特征图形查找，所以本发明能实现特征图形的自动化查找。

[0025] 另外，对图形进行编码后，由于编码值和实际的图形结构相关，当实际图形发生重叠等问题时，编码值会改变，编码值改变后就和需要查找的特征图形的编码值不同，通过比较后就能检查出实际图形发生重叠等问题，所以本发明方法能避免因为单元重叠造成的图形丢失时无法检查出来的情形。

[0026] 由于本发明方法能通过软件进行自动化查找，能够减少人工检查的工作量，提高工作效率。

附图说明

[0027] 下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

[0028] 图1A是掩膜版设计中特征图形放置错误的版图；

[0029] 图1B是掩膜版设计中特征图形放置正确的版图；

[0030] 图2是本发明实施例掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法的流程图；

[0031] 图3A至图3C是本发明实施例方法中对版图的数据图形进行编码过程中的示意图；

[0032] 图4是本发明实施例方法中对版图的数据图形进行编码的版图整体示意图。

具体实施方式

[0033] 如图2所示，是本发明实施例掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法的流程图；如图3A至图3C所示，是本发明实施例方法中对版图的数据图形进行编码过程中的示意图；
如图4所示，是本发明实施例方法中对版图的数据图形进行编码的版图整体示意图。

[0034] 本发明实施例掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法包括如下步骤：

[0035] 步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括如下分步骤：

[0036] 步骤11、在版图上对所述数据图形划分成多个区域块。

[0037] 所述数据图形中包括有各种对准标记或测试图形。如图3A所示，需要放置划片槽201的四个角放置ROT MARK 202，图3A中显示了4个ROT MARK 202。

[0038] 如图3B所示，显示了ROT MARK 202的结构，包括了多个条形结构203，各条形结构203之间具有间隔，多个条形结构203和划片槽中心线201a垂直放置，多个条形结构203的宽度为6μm，间隔也为6μm，条形结构203的长度可以调节。

[0039] 本发明实施例中需要对图3B所示的ROT MARK 202进行编码，请参考图3C所示，在版图上对ROT MARK 202划分成了多个区域块，分块按照其中的多根横虚线204和多根纵虚线205进行。可知，ROT MARK 202的各区域块组成了二维排列结构，其中ROT MARK 202的各列之间的各所述区域块通过等分形成。而ROT MARK 202的各行之间的各所述区域块的高度有一定的差，这是按照多个条形结构203的高度对齐进行划分的。

[0040] 由上可知，本发明实施例中，所述数据图形的各列之间的各所述区域块通过等分形成。所述数据图形的各行之间的各所述区域块能够根据时间图形进行划分，也能通过等分形成。

[0041] 步骤12、根据所述数据图形的各所述区域块中实际有无图形得到对应的所述区域块的1位编码。本发明实施例中，当所述区域块中包括有图形时该区域块的1位编码值为1，当所述区域块中没有图形时该区域块的1位编码值为0。

[0042] 如图3C所示，ROT MARK 202的各区域块中，具有图形的部分编码为1，没有图形的部分编码为0。

[0043] 步骤13、综合所述数据图形的各所述区域块的1位编码形成对应的所述数据图形的编码值。本发明实施例中，所述数据图形的同一列的各行所述区域块的1位编码值按照权重相加形成的该列对应的十进制数，所述数据图形的各列所述对应的十进制数按照列的顺序进行1维排列形成所述数据图形的编码值。

[0044] 如图3C所示，标记206所对应的行的十进制数字即为ROT MARK 202的编码值，各位编码都是对应列的各区域块的编码值按权重相加得到，图3C中标记207所对应的行的编码值的权重大于标记208所对应的行的编码值的权重。

[0045] 如图3A-图3C所示的仅为一个数据图形的编码，一个完整的掩膜版的版图中包括了多个数据图形，所述数据图形需要通过对所述版图的数据进行数据区块划分得到。如图4所示，其中示意处了四个数据图形，分别如标记P1、P2、P3和P4所示，各数据图形都采用了如上方式进行编码。

[0046] 步骤二、在所述版图中进行特征图形的查找，包括如下分步骤：

[0047] 步骤21、采用步骤一的方法得到所要查找的所述特征图形的编码值。

[0048] 本发明实施例中，所述特征图形包括对准标记或测试图形，这些特征图形都需要在掩膜版设计中放置。

[0049] 步骤22、将所述特征图形的编码值和所述版图中的各所述数据图形的编码值进行比较；

[0050] 步骤23、如果所述版图中存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则编码值相同的所述数据图形和所述特征图形相匹配；如果所述版图中不存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则所述版图中漏放了所述特征图形。

[0051] 本发明实施例中，在所述版图中进行特征图形的查找是通过软件方式自动实现。由于本发明对数据图形进行编码后，在版图中查找对应的数据图形仅需采用编码值比较的方法即可实现，这些很容易通过软件实现，实现自动化查找，不仅查找精度高，能够检查出单元重叠造成的图形丢失的问题，还能够减少人工检查的工作量，提高工作效率。

[0052] 以上通过具体实施例对本发明进行了详细的说明，但这些并非构成对本发明的限制。在不脱离本发明原理的情况下，本领域的技术人员还可做出许多变形和改进，这些也应视为本发明的保护范围。