一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料

摘要

本发明公开了一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料，其原料组分及其质量百分比含量为10％～40％陶瓷结合剂，60％～90％SiC粉末；所述陶瓷结合剂的原料组分及其质量百分比含量为25％～50％SiO2，3％～10％Al2O3，20％～40％B2O3，5％～15％Li2O，4％～10％CaO，5％～10％Na2O。先将陶瓷结合剂原料于高温熔块炉中加热至1300℃，经过充分熔炼、水淬、烘干、研磨、过筛，配料并压制成型后于840℃一步烧结，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料。本发明的材料强度在55?75Mpa之间，介电性能稳定可调制，在8.2?12.4GHz频带范围内，反射率在0至?5.2dB范围内变化，满足了结构功能一体化的应用要求，可以应用在多层微波吸收材料领域。本发明低温烧成，制备成本低，操作工序简单，具有巨大的经济和社会效益。

权利要求

1.一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料，由陶瓷结合剂和碳化硅粉末组成，其特征在于，其原料组分及其质量百分比含量为：10％～40％陶瓷结合剂，60％～

90％SiC粉末；

所述陶瓷结合剂为B2O3-Al2O3-SiO2系陶瓷结合剂，其原料及其质量百分比含量为：25％～50％SiO2，3％～10％Al2O3，20％～40％B2O3，5％～15％Li2O，4％～10％CaO，5％～10％Na2O。

上述碳化硅陶瓷复合微波吸收材料的制备方法如下：

(1)将25％～50％SiO2，3％～10％Al2O3，20％～40％B2O3，5％～15％Li2O，4％～10％CaO，5％～10％Na2O按比例混合，然后放入高温熔块炉中加热至1300℃，保温2h进行充分熔炼，水淬，在100℃烘箱中干燥24h后进行研磨，过200目筛，制得陶瓷结合剂；

(2)将步骤(1)制得的陶瓷结合剂按10％～40％与60％～90％的SiC粉末混合均匀；

(3)将步骤(2)混合均匀的粉料按照料︰球︰无水乙醇＝3︰10︰7的质量比混合，然后湿磨

5h，在100℃烘箱干燥24h后压制成型为生坯；

(4)将步骤(3)的生坯在如下温度制度下进行一步烧结：

以3℃/min的升温速率升温至500℃，保温1h，继续以3℃/min的升温速率升温至840℃，保温2h，自然冷却至室温，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料；

(5)将步骤(4)的制品打磨至所需尺寸，对其进行性能测试。

2.根据权利要求1所述的一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料，其特征在于，所述SiC粉末为3.5～10.0μm的β-SiC粉末。

3.根据权利要求1所述的一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料，其特征在于，所述步骤(3)的湿磨机的转速为600RPM。

说明书

一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料

技术领域

[0001] 本发明属于一种以成分为特征的陶瓷组合物，特别涉及一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料。

背景技术

[0002] 随着电子工业的发展，雷达，电子干扰机等军用设备和个人通讯器材等民用设备的应用愈加广泛，电磁辐射问题也随之而来。军用隐身技术，精密仪器工作等特定场合要求无电磁辐射的环境。吸波材料和电磁屏蔽材料是应对电磁辐射问题的关键材料。

[0003] 电磁波在传播过程中受媒质和媒质交界面的作用，产生反射、散射、折射、绕射和吸收等现象。传统电磁屏蔽材料能对电磁波产生反射，保护材料内部不受电磁干扰，吸波材料能对射入表面的电磁波产生吸收，与传统的电磁屏蔽材料相比对电磁干扰的消除更加彻底，不对外界环境造成二次电磁污染。

[0004] 碳化硅具有高温吸波性能高，介电性能可通过掺杂改性调节等优点，可实现轻质，薄层，宽频带吸收。纯的碳化硅在微波频段的吸波性能表现并不突出。为了提高碳化硅材料的吸波性能，需要对碳化硅进行处理，总的来说有掺杂改性和形成含碳化硅复合材料两类方法。目前对陶瓷结合剂的研究主要是在结构材料领域，对其功能特性的研究不多。陶瓷结合剂烧成后为非晶态，非晶态的陶瓷的复介电常数通常实部虚部都较低，电磁波容易进入材料内部，与碳化硅可以形成透波/吸波复合材料，有利于得到高性能的吸波材料。与其他方法制备碳化硅复合材料相比，利用陶瓷结合剂结合碳化硅的方法得到材料的成型性能好，机械强度高，满足结构功能一体化要求，在多层微波吸收材料应用上有较大潜力。在制备方面，采用一步烧成法，工艺相对简单，可以大规模生产。

发明内容

[0005] 本发明的目的，是利用经济简易的一步烧成方法提供一种能够满足结构功能一体化应用的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料，并使其介电性能稳定可调制。

[0006] 本发明通过如下技术方案予以实现：

[0007] 一种结构功能一体化的碳化硅陶瓷复合微波吸收材料，由陶瓷结合剂和碳化硅粉末组成，其特征在于，其原料组分及其质量百分比含量为：10％～40％陶瓷结合剂，60％～90％SiC粉末；

[0008] 所述陶瓷结合剂为B2O3-Al2O3-SiO2系陶瓷结合剂，其原料及其质量百分比含量为：25％～50％SiO2，3％～10％Al2O3，20％～40％B2O3，5％～15％Li2O，4％～10％CaO，5％～
10％Na2O。

[0009] 上述碳化硅陶瓷复合微波吸收材料的制备方法如下：

[0010] (1)将25％～50％SiO2，3％～10％Al2O3，20％～40％B2O3，5％～15％Li2O，4％～10％CaO，5％～10％Na2O按比例混合，然后放入高温熔块炉中加热至1300℃，保温2h进行充分熔炼，水淬，在100℃烘箱中干燥24h后进行研磨，过200目筛，制得陶瓷结合剂；

[0011] (2)将步骤(1)制得的陶瓷结合剂按10％～40％与60％～90％的SiC粉末混合均匀；

[0012] (3)将步骤(2)混合均匀的粉料按照料︰球︰无水乙醇＝3︰10︰7的质量比混合，然后湿磨5h，在100℃烘箱干燥24h后压制成型为生坯；

[0013] (4)将步骤(3)的生坯在如下温度制度下进行一步烧结：

[0014] 以3℃/min的升温速率升温至500℃，保温1h，继续以3℃/min的升温速率升温至840℃，保温2h，自然冷却至室温，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料；

[0015] (5)将步骤(4)的制品打磨至所需尺寸，对其进行性能测试。

[0016] 所述SiC粉末为3.5～10.0μm的β-SiC粉末。

[0017] 所述步骤(3)的湿磨机的转速为600RPM。

[0018] 本发明提供了一种微波吸收用的碳化硅陶瓷复合材料，材料强度在55-75Mpa之间，介电性能稳定可调制，在8.2-12.4GHz频带范围内，反射率在0至-5.2dB范围内变化，满足了结构功能一体化的应用要求，可以应用在多层微波吸收材料领域。本发明采用常规原料和低温一步烧成法，制备成本低，原料容易获得，操作工序简单，具有巨大的经济和社会效益。

具体实施方式

[0019] 本发明均采用市售分析纯原料，下面结合具体实施例对本发明作进一步说明。

[0020] 实施例1

[0021] 按重量百分比称量陶瓷结合剂原料：50％SiO2，10％Al2O3，20％B2O3，5％Li2O，10％CaO，5％Na2O，进行混合。

[0022] 将混合后的原料放入高温熔块炉中加热至1300℃，保温2h进行充分熔炼，水淬，再于100℃烘箱中干燥24h后进行研磨，过200目筛，制得陶瓷结合剂。

[0023] 按重量百分比称量10％陶瓷结合剂与90％粒径为3.5μm的β-SiC粉末，进行混合。

[0024] 将上述原料按照料︰球︰无水乙醇＝3︰10︰7的质量比混合，然后加入70ml无水乙醇，于600RPM转速下湿磨5h，在100℃烘箱干燥24h后压制成型为生坯。

[0025] 将生坯进行一步烧结：以3℃/min的升温速率升温至500℃，保温1h，继续以3℃/min的升温速率升温至840℃，保温2h，自然冷却至室温，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料。

[0026] 打磨制品至所需尺寸，对其进行性能测试。

[0027] 实施例1的强度在55-60MPa之间，介电常数稳定在在9.21-9.42之间，介电损耗稳定在0.027-0.048之间，厚度为2.00mm，在8.2-12.4GHz频带范围内，反射率在0至-2.2dB范围内变化。

[0028] 实施例2

[0029] 按重量百分比称量陶瓷结合剂原料：40％SiO2，5％Al2O3，29％B2O3，10％Li2O，6％CaO，10％Na2O，进行混合。

[0030] 将混合后的原料放入高温熔块炉中加热至1300℃，保温2h进行充分熔炼，水淬，再于100℃烘箱中干燥24h后进行研磨，过200目筛，制得陶瓷结合剂。

[0031] 按重量百分比称量20％陶瓷结合剂与80％粒径为7.0μm的β-SiC粉末，进行混合。

[0032] 将上述原料按照料︰球︰无水乙醇＝3︰10︰7的质量比混合，然后加入70ml无水乙醇，于600RPM转速下湿磨5h，在100℃烘箱干燥24h后压制成型为生坯。

[0033] 将生坯进行一步烧结：以3℃/min的升温速率升温至500℃，保温1h，继续以3℃/min的升温速率升温至840℃，保温2h，自然冷却至室温，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料。

[0034] 打磨制品至所需尺寸，对其进行性能测试。

[0035] 实施例2的强度在70-75MPa之间，介电常数稳定在在9.32-9.51之间，介电损耗稳定在0.031-0.047之间，厚度为2.00mm，在8.2-12.4GHz频带范围内，反射率在0至-2.5dB范围内变化。

[0036] 实施例3

[0037] 按重量百分比称量陶瓷结合剂原料：45％SiO2，4％Al2O3，34％B2O3，6％Li2O，5％CaO，6％Na2O，进行混合。

[0038] 将混合后的原料放入高温熔块炉中加热至1300℃，保温2h进行充分熔炼，水淬，再于100℃烘箱中干燥24h后进行研磨，过200目筛，制得陶瓷结合剂。

[0039] 按重量百分比称量30％陶瓷结合剂与70％粒径为7.0μm的β-SiC粉末，进行混合。

[0040] 将上述原料按照料︰球︰无水乙醇＝3︰10︰7的质量比混合，然后加入70ml无水乙醇，于600RPM转速下湿磨5h，在100℃烘箱干燥24h后压制成型为生坯。

[0041] 将生坯进行一步烧结：以3℃/min的升温速率升温至500℃，保温1h，继续以3℃/min的升温速率升温至840℃，保温2h，自然冷却至室温，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料。

[0042] 打磨制品至所需尺寸，对其进行性能测试。

[0043] 实施例3的强度在60-66MPa之间，介电常数稳定在在7.71-8.18之间，介电损耗稳定在0.033-0.081之间，厚度为2.00mm，在8.2-12.4GHz频带范围内，反射率在0至-3.2dB范围内变化。

[0044] 实施例4

[0045] 按重量百分比称量陶瓷结合剂原料：26％SiO2，7％Al2O3，40％B2O3，12％Li2O，7％CaO，8％Na2O，进行混合。

[0046] 将混合后的原料放入高温熔块炉中加热至1300℃，保温2h进行充分熔炼，水淬，再于100℃烘箱中干燥24h后进行研磨，过200目筛，制得陶瓷结合剂。

[0047] 按重量百分比称量40％陶瓷结合剂与60％粒径为10.0μm的β-SiC粉末，进行混合。

[0048] 将上述原料按照料︰球︰无水乙醇＝3︰10︰7的质量比混合，然后加入70ml无水乙醇，于600RPM转速下湿磨5h，在100℃烘箱干燥24h后压制成型为生坯。

[0049] 将生坯进行一步烧结：以3℃/min的升温速率升温至500℃，保温1h，继续以3℃/min的升温速率升温至840℃，保温2h，自然冷却至室温，制得碳化硅陶瓷复合微波吸收材料。

[0050] 打磨制品至所需尺寸，对其进行性能测试。

[0051] 实施例4的强度在55-60MPa之间，介电常数稳定在在8.98-9.72之间，介电损耗稳定在0.030-0.065之间，厚度为2.00mm，在8.2-12.4GHz频带范围内，反射率在0至-5.2dB范围内变化。