一种基板支撑结构及曝光机转让专利

申请号 : CN201610379882.6

文献号 : CN105824200B

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 刘浏彭金宝石鹏程

申请人 : 京东方科技集团股份有限公司合肥京东方光电科技有限公司

摘要 :

本发明公开了一种基板支撑结构及曝光机,涉及机械设备技术领域,可减少现有技术中因托举件的水平位置固定而对产品良率造成影响的问题。该基板支撑结构包括多个托举件和第一驱动装置,多个所述托举件的顶端位于同一水平面内,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动。本发明用于支撑基板。

权利要求 :

1.一种基板支撑结构,其特征在于,包括多个托举件和第一驱动装置,多个所述托举件的顶端位于同一水平面内,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动;

还包括基台和第二驱动装置,所述基台的上表面开设有滑槽,多个所述托举件设置于所述滑槽内,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件在所述滑槽内水平移动,所述第二驱动装置可驱动多个所述托举件或所述基台沿竖直方向移动,以使多个所述托举件与所述基台之间产生相对位移,随着多个所述托举件或所述基台沿竖直方向的移动,多个所述托举件的顶端可高于、平齐于或低于所述基台的上表面;

还包括导轨以及配合设置于所述导轨内的多个滑块,多个所述托举件与多个所述滑块一一对应连接,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述滑块沿所述导轨滑动,以带动相应的所述托举件在所述滑槽内水平移动。

2.根据权利要求1所述的基板支撑结构,其特征在于,所述导轨固定设置,所述滑块的上表面设有插槽,所述托举件的至少一部分插入所述插槽内,所述托举件可在所述插槽内沿竖直方向移动,还包括限位结构,当所述滑块沿所述导轨滑动时,所述限位结构可防止所述托举件在所述插槽内水平移动。

3.根据权利要求2所述的基板支撑结构,其特征在于,所述限位结构包括两个圆锥面,其中一个圆锥面为所述插槽的侧面,另一个圆锥面为所述托举件的侧面,当所述滑块沿所述导轨滑动时,所述托举件的侧面与所述插槽的侧面抵接。

4.根据权利要求1所述的基板支撑结构,其特征在于,所述滑槽包括多个十字形槽,多个所述托举件一一对应设置于多个所述十字形槽内。

5.根据权利要求1所述的基板支撑结构,其特征在于,所述滑槽内设有多个支撑板,所述支撑板与所述滑槽侧壁的顶端通过铰接轴铰接,所述支撑板连接有第三驱动装置,所述第三驱动装置可驱动所述支撑板绕所述铰接轴转动,随着所述支撑板的转动,所述支撑板的上表面可与所述基台的上表面平齐。

6.根据权利要求1所述的基板支撑结构,其特征在于,所述基台固定设置,所述第二驱动装置与所述托举件连接。

7.根据权利要求6所述的基板支撑结构,其特征在于,所述基台内开设有容纳腔,所述滑槽与所述容纳腔连通,所述第一驱动装置和所述第二驱动装置均设置于所述容纳腔内。

8.根据权利要求1所述的基板支撑结构,其特征在于,至少一个所述托举件的顶端设有吸附孔,所述吸附孔连接有真空发生器。

9.一种曝光机,其特征在于,包括权利要求1~8中任一项所述的基板支撑结构。

说明书 :

一种基板支撑结构及曝光机

技术领域

[0001] 本发明涉及机械设备技术领域,尤其涉及一种基板支撑结构及曝光机。

背景技术

[0002] 显示面板生产工艺中用到的很多设备内均设有基板支撑结构,用以支撑基板。
[0003] 参照图1,现有技术中的基板支撑结构包括基台01,基台01的上表面开设有多个安装孔(图中未示出),每个安装孔内均设有托举件02,多个所述托举件02的顶端位于同一水平面内。
[0004] 由于托举件02设置于基台01上的安装孔内,因此托举件02不能沿平行于基台01上表面的方向移动,即托举件02的水平位置固定,但是对于不同的产品,基板上显示区和非显示区的布局设计不同,即基板上显示区和非显示区的位置不同,因此在生产不同产品时,托举件02会支撑到基板的显示区,进而在显示区留下圆圈状的痕迹,导致产品的良率受到严重影响。

发明内容

[0005] 本发明的实施例提供一种基板支撑结构及曝光机,可减少现有技术中因托举件的水平位置固定而对产品良率造成影响的问题。
[0006] 为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:
[0007] 本发明实施例提供了一种基板支撑结构,包括多个托举件和第一驱动装置,多个所述托举件的顶端位于同一水平面内,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动。
[0008] 进一步的,还包括基台和第二驱动装置,所述基台的上表面开设有滑槽,多个所述托举件设置于所述滑槽内,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件在所述滑槽内水平移动,所述第二驱动装置可驱动多个所述托举件或所述基台沿竖直方向移动,以使多个所述托举件与所述基台之间产生相对位移,随着多个所述托举件或所述基台沿竖直方向的移动,多个所述托举件的顶端可高于、平齐于或低于所述基台的上表面。
[0009] 进一步的,还包括导轨以及配合设置于所述导轨内的多个滑块,多个所述托举件与多个所述滑块一一对应连接,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述滑块沿所述导轨滑动,以带动相应的所述托举件在所述滑槽内水平移动。
[0010] 进一步的,所述导轨固定设置,所述滑块的上表面设有插槽,所述托举件的至少一部分插入所述插槽内,所述托举件可在所述插槽内沿竖直方向移动,还包括限位结构,当所述滑块沿所述导轨滑动时,所述限位结构可防止所述托举件在所述插槽内水平移动。
[0011] 进一步的,所述限位结构包括两个圆锥面,其中一个圆锥面为所述插槽的侧面,另一个圆锥面为所述托举件的侧面,当所述滑块沿所述导轨滑动时,所述托举件的侧面与所述插槽的侧面抵接。
[0012] 进一步的,所述滑槽包括多个十字形槽,多个所述托举件一一对应设置于多个所述十字形槽内。
[0013] 进一步的,所述滑槽内设有多个支撑板,所述支撑板与所述滑槽侧壁的顶端通过铰接轴铰接,所述支撑板连接有第三驱动装置,所述第三驱动装置可驱动所述支撑板绕所述铰接轴转动,随着所述支撑板的转动,所述支撑板的上表面可与所述基台的上表面平齐。
[0014] 进一步的,所述基台固定设置,所述第二驱动装置与所述托举件连接。
[0015] 进一步的,所述基台内开设有容纳腔,所述滑槽与所述容纳腔连通,所述第一驱动装置和所述第二驱动装置均设置于所述容纳腔内。
[0016] 进一步的,至少一个所述托举件的顶端设有吸附孔,所述吸附孔连接有真空发生器。
[0017] 本发明实施例提供的一种基板支撑结构,由于所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动,因此在生产不同产品时,可根据基板上显示区和非显示区的位置来调整托举件的水平位置,以减少支撑于基板显示区的托举件的个数,从而减少了托举件在显示区留下的圆圈状痕迹的个数,进而减少了对产品良率造成影响的问题。
[0018] 本发明实施例还提供了一种曝光机,包括上述任一技术方案中的基板支撑结构。
[0019] 本发明实施例提供的曝光机,由于所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件水平移动,因此在生产不同产品时,可根据基板上显示区和非显示区的位置来调整托举件的水平位置,以减少支撑于基板显示区的托举件的个数,从而减少了托举件在显示区留下的圆圈状痕迹的个数,进而减少了对产品良率造成影响的问题。

附图说明

[0020] 图1为现有技术中基板支撑结构的俯视图;
[0021] 图2为本发明实施例基板支撑结构的俯视图;
[0022] 图3为本发明实施例基板支撑结构中导轨和滑块的示意图;
[0023] 图4为本发明实施例基板支撑结构中插槽的示意图;
[0024] 图5为本发明实施例基板支撑结构中支撑板的示意图。

具体实施方式

[0025] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0026] 在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
[0027] 术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上。
[0028] 在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
[0029] 本发明实施例提供了一种基板支撑结构,如图2所示,包括多个托举件3和第一驱动装置(图中未示出),多个托举件3的顶端位于同一水平面内,所述第一驱动装置可驱动至少一个托举件3水平移动。
[0030] 本发明实施例提供的一种基板支撑结构,由于所述第一驱动装置可驱动至少一个托举件3水平移动,因此在生产不同产品时,可根据基板上显示区和非显示区的位置来调整托举件3的水平位置,以减少支撑于基板显示区的托举件3的个数,从而减少了托举件3在显示区留下的圆圈状痕迹的个数,进而减少了对产品良率造成影响的问题。
[0031] 需要说明的是,在调整托举件3水平位置的时候是根据实际情况来进行调整的,因此托举件3沿平行于基台1上表面的移动是选择性的移动,即有可能全部移动,也有可能只移动一部分;这里的第一驱动装置可以包括电机以及互相啮合的齿轮和齿条,齿轮套设于电机的输出轴上,齿条配合设置于齿条轨道内,托举件与齿条连接,当电机启动时,电机的输出轴可带动齿轮转动,齿轮可带动齿条在齿条轨道内平移,从而带动托举件水平移动。
[0032] 进一步的,基板支撑结构还包括基台1和第二驱动装置(图中未示出),所述基台1的上表面开设有滑槽2,多个所述托举件3设置于所述滑槽2内,所述第一驱动装置可驱动至少一个所述托举件3在所述滑槽2内水平移动,所述第二驱动装置可驱动多个所述托举件3或所述基台1沿竖直方向移动,以使多个所述托举件3与所述基台1之间产生相对位移,随着多个所述托举件3或所述基台1沿竖直方向的移动,多个所述托举件3的顶端可高于、平齐于或低于所述基台1的上表面,这里的第二驱动装置可以为气缸,由此,放置基板(图中未示出)时,可通过所述第二驱动装置驱动多个托举件3或基台1沿竖直方向移动,以使多个托举件3相对于基台1上升,当多个托举件3的顶端高于基台1的上表面时,将基板放置于多个托举件3的顶端,而后再通过第二驱动装置驱动多个托举件3或基台1沿竖直方向移动,以使多个托举件3相对于基台1下降,直至将基板放置于基台1的上表面,至此,基板放置完毕。
[0033] 为了使托举件3在滑槽2内滑动时更平稳,同时为了避免滑动时滑槽2侧壁对托举件3造成磨损,参照图3,本实施例的基板支撑结构还包括导轨4以及配合设置于导轨4内的多个滑块5,多个托举件3与多个滑块5一一对应连接,所述第一驱动装置可驱动至少一个滑块5沿导轨4滑动,以带动相应的托举件3在滑槽2内水平移动,由此使得导轨4能够通过限制滑块5的滑动来对托举件3的滑动进行限制,从而使托举件3在滑槽2内滑动时更平稳,在此基础上,滑槽2侧壁则无需与托举件3接触,从而避免了托举件3在滑槽2内滑动时与滑槽2侧壁摩擦而对托举件3造成磨损的问题。
[0034] 上述实施例中,当第二驱动装置驱动多个托举件3升降时,由于托举件3与导轨4内的滑块5连接,因此,需要导轨4以及滑块5与托举件3一同升降,这使得需要的驱动力会增大,导致第二驱动装置的成本上升,为了避免上述问题,参照图3和图4,本实施例中导轨4固定设置,滑块5的上表面设有插槽51,托举件3的至少一部分插入插槽51内,托举件3可在插槽51内沿竖直方向移动,由此,当第二驱动装置驱动多个托举件3升降时,无需导轨4以及滑块5与托举件3一同升降,只需托举件3在相应滑块5的插槽51内上下移动即可,从而避免了需要的驱动力增大导致第二驱动装置成本上升的问题,插槽51的尺寸可根据需要进行设置,只要满足托举件3的正常上下移动即可;
[0035] 另外,本实施例中的基板支撑结构还包括限位结构6,当滑块5沿导轨4滑动时,限位结构6可防止托举件3在插槽51内水平移动,也就是说,限位结构6可防止托举件3相对于滑块5水平晃动,从而使导轨4通过限制滑块5的滑动就能够限制托举件3的滑动,进而保证了托举件3在滑槽2内滑动时更平稳。
[0036] 限位结构6的实施方式有多种,例如,可以包括卡块和卡槽,所述卡槽可以设置于插槽51的底面上,所述卡块设置于托举件3上与所述卡槽对应的位置处,当滑块5沿导轨4滑动时,所述卡块配合卡接于所述卡槽内,当托举件3在插槽51内上下移动时,所述卡块从所述卡槽内滑出;
[0037] 限位结构6也可以包括两个圆柱面,其中一个圆柱面为插槽51的侧面,另一个圆柱面为托举件3的侧面,当滑块5沿导轨4滑动时,两个所述圆柱面抵接,此时,托举件3配合设置于插槽51内;
[0038] 当然,限位结构6还可以包括两个圆锥面61和62,如图4所示,其中一个圆锥面61为插槽51的侧面,另一个圆锥面62为托举件3的侧面,当滑块5沿导轨4滑动时,两个圆锥面61和62抵接,当托举件3在插槽51内上下移动时,两个圆锥面61和62分离;
[0039] 本实施例中限位结构6优选为两个圆锥面61和62,由于两个圆锥面61和62为插槽51和托举件3原有的表面,因此相比卡块和卡槽简化了加工工艺;又由于当托举件3在插槽
51内上下移动时,两个圆锥面61和62分离,因此相比两个圆柱面减少了托举件3上下移动时受到的磨损。
[0040] 参照图2,滑槽2包括多个十字形槽21,多个托举件3一一对应设置于多个十字形槽21内,由此使得托举件3沿平行于基台1上表面的可移动方向增多,从而使生产不同产品时能够更方便的调整托举件3的水平位置,避免托举件3支撑于基板上的显示区;另外,相比网状滑槽,本实施例中多个十字形槽21互不连通,从而缩短了滑槽的长度,方便加工。十字形槽21包括四个槽段,每个槽段的长度可根据实际需要进行设置,示例的,可以设置为120mm。
[0041] 参照图2,当基板放置于基台1的上表面之后,基板上与滑槽2对应的位置无支撑力,在重力或其他方向向下的力的作用下,该位置可能会下沉,而基板上的其他位置可能会翘曲,即基板可能会产生形变,为了避免上述问题,参照图5,本实施例中滑槽2内设有多个支撑板7,支撑板7与滑槽2侧壁的顶端通过铰接轴(图中未示出)铰接,支撑板7连接有第三驱动装置(图中未示出),所述第三驱动装置可驱动支撑板7绕所述铰接轴转动,随着支撑板7的转动,支撑板7的上表面可与基台1的上表面平齐,由此,当托举件3选定水平位置时,托举件3在滑槽2内的位置固定,此时,滑槽2内与托举件3对应的支撑板7处于将滑槽2打开的状态,避免对托举件3的升降造成影响,通过第三驱动装置驱动滑槽2内其他位置的支撑板7绕相应的铰接轴转动,直至其他位置的支撑板7的上表面与基台1的上表面平齐,需要说明的是,其他位置的支撑板7指的是当托举件3选定水平位置之后,不会对托举件3的升降造成影响的支撑板7,因此,当基板放置于基台1的上表面时,其他位置的这些支撑板7能够对基板上可能下沉的位置起到支撑作用,从而避免了基板产生形变的问题。
[0042] 当滑槽2包括多个十字形槽21,且多个托举件3一一对应设置于多个十字形槽21内时,每个十字形槽21内均设有多个支撑板7,当任意一个十字形槽21内的托举件3选定水平位置之后,均可通过第三驱动装置选择性的驱动支撑板7转动,从而灵活控制支撑板7对基板的支撑面积。具体的,支撑板7的形状可以为图5中所示的三角形,当然也可以为矩形或其他形状,本发明对此不做限定。当支撑板7为三角形时,相邻的两个支撑板7可分别与滑槽2相对的两个侧壁铰接,以使相邻的两个三角形支撑板7相对的边沿接触,从而减小了相邻的两个支撑板7之间的间隙,进而增大了对基板的支撑面积;当支撑板7为矩形或其他形状时,相邻的两个支撑板7可分别与滑槽2相对的两个侧壁铰接,也可与滑槽2的同一个侧壁铰接,此时,相邻的两个矩形支撑板7相对的边沿也可以互相接触,以减小相邻的两个支撑板7之间的间隙,从而增大了对基板的支撑面积。支撑板7沿滑槽2长度方向的尺寸也有多种选择,示例的,可以为5mm。这里的第三驱动装置也可以包括电机以及互相啮合的齿轮和齿条,齿轮套设于电机的输出轴上,齿条配合设置于齿条轨道内,齿条与支撑板连接,当电机启动时,电机的输出轴可带动齿轮转动,齿轮可带动齿条在齿条轨道内平移,从而推动支撑板绕其铰接轴转动。
[0043] 以上实施例中,第二驱动装置可驱动多个托举件3沿竖直方向移动,也可驱动基台1沿竖直方向移动,当第二驱动装置驱动基台1移动时,由于基台1的体积和重量较大,因此需要第二驱动装置提供的驱动力相应较大,也就是说对第二驱动装置的性能要求较高,这会导致第二驱动装置的成本较高,因此,本实施例中基台1固定设置,所述第二驱动装置与托举件3连接,此时,所述第二驱动装置用于驱动托举件3移动,从而使第二驱动装置只需要提供较小的驱动力即可,也就降低了对第二驱动装置性能的要求,进而降低了成本。
[0044] 为了减小基板支撑结构的体积,本实施例中基台1内开设有容纳腔(图中未示出),滑槽2与所述容纳腔连通,所述第一驱动装置和所述第二驱动装置均设置于所述容纳腔内,由此,可避免第一驱动装置和第二驱动装置占用额外的空间,从而减小了基板支撑结构的体积。
[0045] 需要说明的是,当基板支撑结构包括导轨4时,导轨4也可以放置于所述容纳腔内。
[0046] 为了保证工艺精度,参照图2,本实施例中至少一个托举件3的顶端设有吸附孔(图中未示出),所述吸附孔连接有真空发生器(图中未示出),这里的真空发生器可以为真空泵或抽风风扇,由此,当基板放置于多个托举件3的顶端时,真空发生器启动,真空发生器可通过吸附孔抽出基板下表面与托举件3之间的气体,使基板下表面与托举件3之间形成负压,从而将基板吸住,避免基板的位置发生偏移,进而保证了工艺精度。
[0047] 托举件3的顶面可以为圆形,未设置吸附孔的托举件3b,其顶面直径可设置为4mm,高度可设置为5mm,设置有吸附孔的托举件3a,其顶面直径可设置为8mm,高度可设置为10mm。
[0048] 本发明实施例还提供了一种曝光机,包括上述任一实施例所述的基板支撑结构。
[0049] 关于本发明实施例的曝光机的其他构成等已为本领域的技术人员所熟知,在此不再详细说明。
[0050] 本发明实施例提供的曝光机,由于所述第一驱动装置可驱动至少一个托举件3水平移动,因此在生产不同产品时,可根据基板上显示区和非显示区的位置来调整托举件3的水平位置,以减少支撑于基板显示区的托举件3的个数,从而减少了托举件3在显示区留下的圆圈状痕迹的个数,进而减少了对产品良率造成影响的问题。
[0051] 以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。