本发明提供一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：化学槽、水洗槽、挡板以及基板传送通道，其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达预设位置时，所述基板传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽。本发明可以防止生产过程中挡板上的药液液滴滴落到玻璃基板上，导致玻璃基板出现不清晰的现象。
1.一种湿式蚀刻机台的清洗装置，其特征在于，包括：
水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；
挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；
基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述水洗槽；
其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达预设位置时，所述基板传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽，后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。
2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述预设位置位于所述化学槽一侧对应的所述基板传送通道上。
3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述预设位置至所述挡板正下方的水平距离，大于所述药液的液滴从所述挡板上飞溅到所述玻璃基板上的最大水平距离。
4.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述振动马达设有振动时间长度，所述振动时间长度根据所述振动马达的振动频率而定。
5.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离，大于所述预设位置到所述挡板正下方的水平距离的两倍。
6.一种湿式蚀刻机台的清洗方法，所述湿式蚀刻机台包括权利要求1至5的任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗方法包括以下步骤：所述传感器实时检测多片间隔均匀的所述玻璃基板在所述基板传送通道的位置；
当检测到第一片所述玻璃基板到达所述预设位置时，所述基板传送通道停止转动，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动；
所述挡板振动结束后，所述基板传送通道继续传送第一片所述玻璃基板通过所述挡板。
7.根据权利要求6所述的清洗方法，其特征在于，所述挡板振动结束后，所述基板传送通道继续传送第一片所述玻璃基板至所述水洗槽，之后还包括：后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。
8.一种湿式蚀刻机台的清洗装置，其特征在于，包括：
水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；
挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；
基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述水洗槽；
其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达第一预定位置时，所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述传感器检测到所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达第二预定位置时，当所述振动马达停止振动，直至第一片所述玻璃基板的后端到达第三预定位置之后，所述振动马达按照上述步骤重新启动工作。
9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述第一预定位置与所述第二预定位置均位于所述化学槽一侧的所述基板传送通道上，所述第三预定位置位于所述水洗槽一侧的所述基板传送通道上，所述第二预定位置与第三预定位置关于所述挡板对称。
10.根据权利要求9所述的清洗装置，其特征在于，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离大于或等于所述第一预定位置到所述第三预定位置的水平距离。
一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及液晶显示器技术领域，特别涉及一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法。
【背景技术】
[0002] 液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用，如：液晶电视、移动电话、个人数字助理(PDA)、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等，在平板显示领域中占主导地位。现有市场上的液晶显示器大部分
为背光型液晶显示器，其包括液晶显示面板及背光模组(backlight module)。液晶显示面
板的工作原理是在薄膜晶体管阵列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT
Array Substrate)与彩色滤光片(Color Filter，CF)基板及彩膜基板之间灌入液晶分子，
并在两片基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来
产生画面。
[0003] 目前，在薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板制作过程中，需要使用各种湿式机台进行清洗、刻蚀、显影等制程，这些湿式机台会用到各种不同的药液，如湿法刻
蚀机进行刻蚀时，会使用含有硝酸、磷酸、醋酸、盐酸等物质的化学药液，如氢氟酸清洗机清洗过程中会用到氢氟酸药液。在生产过程中，这类设备盛放药液的单元会产生含有药液成
分的挥发性气体，挥发性气体会在设备内壁凝结，然后回流到药液化学槽。但是阻隔不同单
元的挡板安装在玻璃基板传送通道的正上方，挡板上凝结的液滴经常会直接滴落到玻璃基
板表面，造成玻璃基板滴落区域膜面异常，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的在于提供一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法，以解决现有技术中，在生产液晶面板时，阻隔不同单元的挡板上凝结的液滴经常会直接滴落到玻璃基板
表面，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
[0005] 本发明的技术方案如下：
[0006] 一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：
[0007] 化学槽，用于盛放蚀刻玻璃基板的药液；
[0008] 水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；
[0009] 挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；
[0010] 基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述
水洗槽；
[0011] 其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达预设位置时，所述基板
传送通道停止传送所述玻璃基板，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡
板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所述振动马达停止振动时，所述基板传送通道继续
将第一片所述玻璃基板通过所述化学槽传送至所述水洗槽，后续各片所述玻璃基板，依次
按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。
[0012] 优选地，所述预设位置位于所述化学槽一侧对应的所述基板传送通道上。
[0013] 优选地，所述预设位置至所述挡板正下方的水平距离，大于所述药液的液滴从所述挡板上飞溅到所述玻璃基板上的最大水平距离。
[0014] 优选地，所述振动马达设有振动时间长度，所述振动时间长度根据所述振动马达的振动频率而定。
[0015] 优选地，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离，大于所述预设位置到所述挡板正下方的水平距离的两倍。
[0016] 一种湿式蚀刻机台的清洗方法，所述湿式蚀刻机台包括上述权利要求中任一项所述的清洗装置，所述清洗方法包括以下步骤：
[0017] 所述传感器实时检测多片间隔均匀的所述玻璃基板在所述基板传送通道的位置；
[0018] 当检测到第一片所述玻璃基板到达所述预设位置时，所述基板传送通道停止转动，且所述振动马达启动工作以使所述挡板振动；
[0019] 所述挡板振动结束后，所述基板传送通道继续传送第一片所述玻璃基板通过所述挡板。
[0020] 优选地，所述挡板振动结束后，所述基板传送通道继续传送第一片所述玻璃基板至所述水洗槽，之后还包括：
[0021] 后续各片所述玻璃基板，依次按照第一片所述玻璃基板的方式通过所述挡板到达所述水洗槽。
[0022] 一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：
[0023] 化学槽，用于盛放蚀刻玻璃基板的药液；
[0024] 水洗槽，用于清洗经过所述药液蚀刻过的所述玻璃基板；
[0025] 挡板，垂直设在所述化学槽与所述水洗槽的上方之间，用于将所述化学槽与所述水洗槽阻隔开，以避免所述药液污染所述水洗槽；
[0026] 基板传送通道，位于所述挡板的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽与所述水洗槽，将多片间隔均匀的所述玻璃基板，依次从所述化学槽传送至所述
水洗槽；
[0027] 其中，所述挡板上连接有振动马达，所述基板传送通道下方设有传感器，当所述传感器检测到第一片所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达第一预定位置时，所述
振动马达启动工作以使所述挡板振动，将所述挡板上的所述药液凝结成的液滴振落，当所
述传感器检测到所述玻璃基板的前端通过所述基板传送通道到达第二预定位置时，当所述
振动马达停止振动，直至第一片所述玻璃基板的后端到达第三预定位置之后，所述振动马
达按照上述步骤重新启动工作。
[0028] 优选地，所述第一预定位置与所述第二预定位置均位于所述化学槽一侧的所述基板传送通道上，所述第三预定位置位于所述水洗槽一侧的所述基板传送通道上，所述第二
预定位置与第三预定位置关于所述挡板对称。
[0029] 优选地，相邻两片所述玻璃基板之间的间隔距离大于或等于所述第一预定位置到所述第三预定位置的水平距离。
[0030] 本发明的有益效果：
[0031] 本发明的一种湿式蚀刻机台的清洗装置及清洗方法，通过在挡板上连接振动马达，并在玻璃基板传送通道下面设置传感器，由传感器检测玻璃基板通过挡板过程中的预
设位置，及时启动振动马达将挡板上的药液液滴振落，避免了挡板上的药液液滴滴落到玻
璃基板上污染玻璃基板，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
【附图说明】
[0032] 图1为本发明实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置的整体装置示意图；
[0033] 图2为本发明实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置整体结构的剖面示意图；
[0034] 图3为本发明实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗方法实施步骤示意图。【具体实施方式】
[0035] 以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以
限制本发明。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。
[0036] 实施例一
[0037] 请参考图1，图1为本实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置的整体装置示意图，从图1可以看到，本发明的一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：
[0038] 化学槽10，用于盛放蚀刻玻璃基板70的药液80。
[0039] 水洗槽20，用于清洗经过所述药液80蚀刻过的所述玻璃基板70。
[0040] 挡板30，垂直设在所述化学槽10与所述水洗槽20的上方之间，用于将所述化学槽10与所述水洗槽20阻隔开，以避免所述药液80污染所述水洗槽20。
[0041] 基板传送通道60，位于所述挡板30的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽10与所述水洗槽20，将多片间隔均匀的所述玻璃基板70，依次从所述化学槽
10传送至所述水洗槽20。
[0042] 其中，所述挡板30上连接有振动马达40，所述基板传送通道60下方设有传感器50，当所述传感器50检测到第一片所述玻璃基板70的前端通过所述基板传送通道到达预设位
置(图中未标示)时，所述基板传送通道60停止传送所述玻璃基板70，且所述振动马达40启
动工作以使所述挡板30振动，将所述挡板30上的所述药液80凝结成的液滴振落，当所述振
动马达40停止振动时，所述基板传送通道60继续将第一片所述玻璃基板70通过所述化学槽
10传送至所述水洗槽20，后续各片所述玻璃基板70，依次按照第一片所述玻璃基板70的方
式通过所述挡板30到达所述水洗槽20。
[0043] 在本实施例中，所述预设位置位于所述化学槽10一侧对应的所述基板传送通道60上，所述预设位置为一个固定的位置，它距离挡板30正下方的所述基板传送通道60有一个
固定距离。
[0044] 在本实施例中，所述预设位置至所述挡板30正下方的所述基板传送通道60上的水平距离，大于所述药液80的液滴从所述挡板30上飞溅到所述玻璃基板70上的最大水平距
离。这是就保证了所述玻璃基板70不会受到所述挡板30上的所述药液80凝结成的液滴的污
染。
[0045] 在本实施例中，所述振动马达40设有振动时间长度，所述振动时间长度根据所述振动马达40的振动频率而定。振动频率大，所述挡板30上的液滴也会被振落得比较快，反之
就振落得比较慢。
[0046] 在本实施例中，相邻两片所述玻璃基板70之间的间隔距离，大于所述预设位置到所述挡板30正下方的水平距离的两倍。这样也可以保证所述玻璃基板70不会受到所述挡板
30上的所述药液80凝结成的液滴的污染。
[0047] 本发明的一种湿式蚀刻机台的清洗装置，通过在挡板30上连接振动马达40，并在玻璃基板70通道下面设置传感器50，由传感器50检测玻璃基板70通过挡板30过程中的预设
位置，及时启动振动马达40将挡板30上的药液80液滴振落，避免了挡板30上的药液80液滴
滴落到玻璃基板70上污染玻璃基板70，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
[0048] 实施例二
[0049] 请参考图1和图2，图1为本实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置的整体装置示意图，图2为本实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗装置整体结构的剖面示意图，从图1和图2
可以看到，本发明的一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：
[0050] 一种湿式蚀刻机台的清洗装置，包括：
[0051] 化学槽10，用于盛放蚀刻玻璃基板70的药液80；
[0052] 水洗槽20，用于清洗经过所述药液80蚀刻过的所述玻璃基板70。
[0053] 挡板30，垂直设在所述化学槽10与所述水洗槽20的上方之间，用于将所述化学槽10与所述水洗槽20阻隔开，以避免所述药液80污染所述水洗槽20。
[0054] 基板30传送通道，位于所述挡板30的下方，其由滚轮带动传送带进行传送，用于连接所述化学槽10与所述水洗槽20，将多片间隔均匀的所述玻璃基板70，依次从所述化学槽
10传送至所述水洗槽20。
[0055] 其中，所述挡板30上连接有振动马达40，所述基板传送通道60下方设有传感器50，当所述传感器50检测到第一片所述玻璃基板70的前端通过所述基板传送通道到达第一预
定位置1时，所述振动马达40启动工作以使所述挡板30振动，将所述挡板30上的所述药液80
凝结成的液滴振落，当所述传感器50检测到所述玻璃基板70的前端通过所述基板传送通道
60到达第二预定位置2时，当所述振动马达40停止振动，直至第一片所述玻璃基板70的后端
到达第三预定位置3之后，所述振动马达40按照上述步骤重新启动工作。
[0056] 在本实施例中，所述第一预定位置1与所述第二预定位置2均位于所述化学槽10一侧的所述基板传送通道60上，所述第三预定位置3位于所述水洗槽20一侧的所述基板传送
通道60上，所述第二预定位置2与第三预定位置3关于所述挡板30对称。所述第一预定位置1
距离所述挡板30正下方的所述基板传送通道60上的距离，大于所述药液80的液滴从所述挡
板30上飞溅到所述玻璃基板70上的最大水平距离。
[0057] 在本实施例中，相邻两片所述玻璃基板70之间的间隔距离大于或等于所述第一预定位置1到所述第三预定位置3的水平距离，这样就使得所述玻璃基板70不会受到所述挡板
30上的所述药液80凝结成的液滴的污染。
[0058] 本发明的一种湿式蚀刻机台的清洗装置，通过在挡板30上连接振动马达40，并在玻璃基板70通道下面设置传感器50，由传感器50检测玻璃基板70通过挡板30过程中的预设
位置，及时启动振动马达40将挡板30上的药液80液滴振落，避免了挡板30上的药液80液滴
滴落到玻璃基板70上污染玻璃基板70，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
[0059] 实施例三
[0060] 请参考图3，图3为本实施例的一种湿式蚀刻机台的清洗方法实施步骤示意图，所述湿式蚀刻机台为实施例一所述的清洗装置，从图3可以看到，本发明的一种湿式蚀刻机台
的清洗方法，包括以下步骤：
[0061] 步骤S101：所述传感器50实时检测多片间隔均匀的所述玻璃基板70在所述基板传送通道60的位置。
[0062] 步骤S102：当检测到第一片所述玻璃基板70到达所述预设位置时，所述基板传送通道60停止转动，且所述振动马达40启动工作以使所述挡板30振动。
[0063] 步骤S103：所述挡板30振动结束后，所述基板传送通道60继续传送第一片所述玻璃基板70通过所述挡板30。
[0064] 步骤S104：后续各片所述玻璃基板70，依次按照第一片所述玻璃基板70的方式通过所述挡板30到达所述水洗槽20。
[0065] 本发明的一种湿式蚀刻机台的清洗方法，通过在挡板30上连接振动马达40，并在玻璃基板70通道下面设置传感器50，由传感器50检测玻璃基板70通过挡板30过程中的预设
位置，及时启动振动马达40将挡板30上的药液80液滴振落，避免了挡板30上的药液80液滴
滴落到玻璃基板70上污染玻璃基板70，导致液晶显示器出现亮度不均匀的问题。
[0066] 综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润
饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
